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Overlay(套刻)测量设备
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光刻工艺套刻设备,本土亟待突破
半导体行业观察· 2025-09-01 09:17
公众号记得加星标⭐️,第一时间看推送不会错过。 在过去几年的国际地缘政治影响下,中国半导体产业正在铆足劲追赶。尤其是在较薄弱的一环——设备方面,国内企业的进步更是有目共睹。但是当 前中国先进制程半导体设备的国产化率依然较低。随着AI算力芯片产能扩建的加速,先进制程设备的国产化迫在眉睫,否则AI算力基础建设的国产化 将是无米之炊。 如图所示,包括氧化/扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、抛光、金属化、清洗和量检测在内的流程是贯穿半导体制造的重要环节。据相关 数据显示,制造一块芯片通常需要上百台设备紧密配合,历经 400-500 道工序,近年来被广泛讨论的光刻机和刻蚀机就是其中的典型设备。尤其 是光刻机,更成为了本土芯片行业乃至全国科技人员关注的重点。 但其实除此之外,还有一种设备亟待实现零的突破,那就是半导体体前道量测设备。其中Overlay(套刻)测量设备,更是前道量测设备的重中之 重。 不可或缺的Overlay 什么是 Overlay?简单而言,套刻测量设备主要用于判断各层平面形状对准的精度是否符合要求,是半导体制造工艺中无法省略的检测步骤。 晶圆制造是一个复杂的多层结构构建的过程,每一层平面图形通常先由 ...