公司新产品发布与交付 - 公司于2025年第三季度推出首款自主研发的高产出（300WPH）KrF工艺前道涂胶显影设备UltraLITH KrF [1] - 该款KrF工艺前道涂胶显影设备已顺利交付给中国头部逻辑晶圆厂客户 [1] 产品技术特点与性能 - 前道涂胶显影UltraLithTM Track设备应用于300毫米前道集成电路制造工艺 [1] - 设备可提供均匀的下降气流、高速稳定的机械手以及强大的软件系统，以满足客户特定需求 [1] - 设备功能多样，能够降低产品缺陷率，提高产能，节约总体拥有成本（COO） [1] - 涂胶显影Track设备支持主流光刻机接口，支持包括i-line、KrF和ArF系统在内的各种光刻工艺 [1] - 设备可确保满足工艺要求的同时，优化晶圆在光刻设备中曝光前后的涂胶和显影步骤 [1] - 新推出的UltraLITH KrF设备具有高产能、先进温控技术以及实时工艺控制和监测功能 [1] 公司研发与市场拓展 - 公司经过5年的潜心研发推出了首款自主研发的高产出KrF工艺前道涂胶显影设备 [1] - 新产品的推出进一步拓展了公司在光刻相关的应用领域 [1] - 此次产品交付展现了公司在新产品品类中的持续扩展能力 [1]