台积电A14工艺技术路线调整 - 台积电决定在A14工艺中放弃使用高数值孔径(High NA) EUV光刻设备，转而采用传统0.33数值孔径EUV技术[2] - 该决策主要基于成本考量，High NA设备成本比传统EUV方法高出2.5倍，将大幅提高A14节点生产成本[2] - 公司计划通过多重曝光技术保持设计复杂度，避免High NA EUV的极高精度需求以降低生产成本[2] - A14芯片生产计划于2028年开始，公司表示从2纳米到A14工艺无需使用High NA技术[2] - 台积电可能在后续A14P节点采用High NA EUV技术[2] 行业技术竞争格局 - 英特尔代工厂将在18A工艺中使用High NA EUV技术，预计最早明年推出，比台积电A14P节点早约4年[2] - 几家DRAM制造商也在采用High NA EUV技术，目前在技术采用上比台积电更具优势[2] - 台积电在采用最新光刻工具方面将落后竞争对手至少四年[2] ASML光刻系统进展 - ASML已交付第五台EXE:5000 High NA系统，第二季度开始交付EXE:5200型号[5] - 客户目前处于研发阶段，预计2026-2027年试生产，随后在先进节点关键层量产[5] - 低数值孔径NXE:3800E系统全面出货，每小时产能220片晶圆，比前代提升30%[5] - 低数值孔径EUV系统平均售价为2.27亿欧元(2.588亿美元)[5] 技术应用效果 - 英特尔使用High NA EUV在一个季度内曝光超过3万片晶圆，单层工艺步骤从40步减少到10步以下[5] - 三星报告显示High NA EUV在某个用例中使周期时间缩短60%[5] - 低数值孔径EUV系统成熟度已支持先进逻辑和内存节点的大批量生产[5]