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半导体刻蚀
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研发费用率超30%,中微公司还能再进一步吗
钛媒体APP· 2025-11-16 17:53
公司定位与核心业务对比 - 中微公司是专注于刻蚀设备的后来者,其12英寸高端刻蚀设备已应用于5nm及以下工艺的国际知名客户最先进生产线[1] - 中微公司业务高度集中于刻蚀设备,2024年该板块收入72.77亿元,占总营收90.65亿元的80.28%[7] - 北方华创是平台化发展的企业,拥有刻蚀设备与薄膜沉积设备两张“王牌”,2024年后者收入超100亿元,刻蚀设备收入超80亿元,其他板块收入整体约百亿元[7] - 两家公司技术路线不同,中微公司起步于CCP刻蚀,北方华创聚焦ICP刻蚀[5] 研发投入与技术创新 - 中微公司研发投入增长迅猛,研发费用从2020年6.4亿元增至2024年24.52亿元,年复合增长率达39.91%[1] - 截至2025年三季度,中微公司研发人员达1190名,研发费用率为30.07%,均达近期最高点,远高于科创板企业平均约4.64%的水平[1][2] - 中微公司在研项目技术含量高,截至2025年上半年14项在研项目中有9项框定为“国际先进水平”[1] - 中微公司刻蚀技术持续迭代,第五代产品XD-RIE深宽比预计达90:1,接近国际先进水平[16] 财务表现与市场估值 - 中微公司营收和归母净利润持续增长,截至2025年三季度营收80.63亿元已超过2023年全年,归母净利润为12.11亿元[8] - 中微公司客户集中度高,2024年前五名客户销售额63.65亿元,占年度销售总额70.22%,而北方华创该比例为27.88%[7] - 中微公司市值和市盈率表现突出,截至2025年11月6日市盈率达119倍,高于半导体设备板块平均约60倍的水平,但市值与北方华创差距仍超1000亿元[4] - 2025年股价表现分化,截至11月6日中微公司股价上涨62.06%,北方华创仅上涨2.05%[4] 发展战略与成长路径 - 两家公司均选择平台化发展路线,中微公司计划在未来5-10年将设备覆盖从当前半导体高端设备的25%-30%提升至50%-60%[13] - 北方华创平台化覆盖更广,除刻蚀与薄膜沉积外,还拓展至清洗、热处理、湿法、离子注入等环节,其立式炉产品2024年收入超20亿元[12][13] - 中微公司走差异化路线,通过子公司中微惠创开发工业用大型净化设备,并设立超微公司进入光学和电子束量检测市场,避免与北方华创同质化竞争[14] - 半导体设备市场三大关键环节为光刻(24%)、刻蚀(20%)、薄膜沉积(20%),为平台化公司提供广阔空间[11] 市场机遇与运营挑战 - 中国半导体设备市场前景广阔,预计2025年中国芯片制造商产能达1010万片/月,增速14%,占全球总产能33%[16] - 中微公司面临毛利率下行压力,主要由于研发费用高企及规模扩张导致成本增加[19] - 公司营收增速(自2020年以来CAGR为37.24%)低于研发费用增速(CAGR为39.91%),如何将高研发投入有效转化为更高成长动能是关键挑战[17][20]