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EUV应用场景进一步扩大,有望拉动光刻机/光刻胶需求高增长
金融界· 2025-12-23 08:45
行业技术突破 - 比利时微电子研究中心利用阿斯麦最先进极紫外光刻设备 成功实现纳米孔的全晶圆级制造 [1] - 该技术突破标志着光刻技术从逻辑芯片向生物传感等新兴领域拓展 进一步扩大了相关设备应用场景 [1] 全球半导体与光刻市场展望 - 世界半导体贸易统计组织预测 2025年全球半导体营收同比增长22.5%至7720亿美元 2026年将再增长26.3%至9750亿美元 较此前预测大幅提高 [1] - 全球半导体营收迅猛增长势头有望拉动光刻机及光刻胶相关需求同步高增长 [1] - 2024年全球光刻机市场已增长至315亿美元 [1] - 全球光刻胶市场2025年规模预计突破百亿美元 其中EUV光刻胶需求占比显著提升 [1] 中国市场前景与机会 - 中国在EUV相关领域加大研发 [1] - 2025年中国芯片市场规模预计达1.2万亿元 年复合增长率超15% [1] - 全球光刻胶市场增长为国内企业提供广阔替代空间 [1] - 光刻技术突破与国产替代政策共振 为A股相关板块带来结构性机会 可关注技术领先、政策受益明确的龙头企业 [1]