核心技术泄密事件 - 台积电2纳米芯片技术遭前工程师窃取 涉案3名工程师被检方起诉 分别被要求判处14年、9年和7年徒刑 [2][4] - 前工程师陈姓男子离职后加入日本半导体设备龙头TEL公司 利用旧同事关系多次索取2纳米蚀刻站相关机密文件和数据 将其拍摄复制用于帮助TEL公司改进设备性能 [4] - 检调认定陈力铭翻拍复制台积电核心技术测试数据流程图文件共14张 涉"核心关键技术营业秘密之域外使用罪" [4] 涉案人员与关联企业 - 3名主犯中包含2名台积电现役工程师和1名前员工 下家指向日本企业东京威力科创（TEL）和Rapidus [5] - 东京电子（TEL）为全球顶尖半导体设备制造商 Rapidus为日本政府力推的半导体复兴企业 [5] 事件发现与调查过程 - 台湾高等检察署2025年7月底接台积电举报 公司内部监测系统发现异常文件访问记录 [4] - 检方7月25日至28日展开大范围搜查 逮捕6名涉案人员 其中3名主犯被直接拘留 [4] - 所有涉案人员均认罪 案件将于下周移审至台湾地区智慧财产与商业法院 [4]