公司参与进博会概况 - 公司第七次参加进博会，主题为“积纳米之微，成大千世界”，将在技术装备展区集成电路专区展示 [2] - 展示重点为全景光刻解决方案下的多款产品，包括TWINSCAN NXT:870B和TWINSCAN XT:260两套光刻系统 [2] - 公司参与进博会旨在呼应开放合作精神，进行行业交流与学习，而非商业目的 [2] AI发展对半导体行业的影响 - AI芯片已成为社会、工业、生活的基础，麦肯锡预测AI到2030年将为全球GDP贡献约13万亿美元价值 [3] - AI发展对半导体需求是全方位的，不仅限于GPU、HBM等高端芯片，还包括大量成熟制程的逻辑芯片和传感器 [3] - AI对半导体设备需求的真正影响将体现在终端应用扩展到消费端和工业领域的大规模应用阶段 [3] - 为弥合算力需求与芯片发展的差距，需要提升芯片性能并发展芯片架构，如3D集成技术 [3] 后摩尔定律时代的技术趋势 - 3D集成及芯片键合等技术将成为未来芯片行业发展的大趋势 [4] - 先进封装是后摩尔定律时代的关键技术，公司展示的XT:260光刻机可支持从先进封装到主流市场的广泛应用 [5] - 行业技术创新的两大核心路线为：通过2D微缩提升晶体管密度与能效，以及通过3D集成突破平面极限 [6] 公司光刻系统技术特点与应用 - XT:260光刻机采用i-line光源和双工作台技术，具有大视场曝光特点，能有效提升先进封装的性能和良率，降低单片晶圆成本 [6] - 大视场曝光可减少先进封装中多芯片拼接产生的缝隙，避免因频繁拼接导致的效率下降和良率问题 [6] - 全景光刻解决方案为3D集成的键合工艺提供支持，减少晶圆形变导致的对准误差，实现更快的互联 [7] - NXT:870B系统在升级光学器件和磁悬浮平台支持下，可实现每小时400片以上的晶圆产量，并为键合后工艺提供强大校正能力 [7]