ASML高数值孔径(High NA)光刻机技术突破 - 高数值孔径(High NA)芯片制造设备造价超过4亿美元，是世界上最先进、最昂贵的芯片制造设备[1] - 该机器由四个模块组成，分别在康涅狄格州、加利福尼亚州、德国和荷兰制造，需要七架波音747飞机或25辆卡车运输[1] - 全球首个High NA商业化安装于英特尔，2024年将在俄勒冈州建造芯片制造厂，目前仅交付五台[1] - High NA采用与EUV相同工艺但镜头开口更大，可用更少步骤投射更小芯片设计[4][6] - High NA可将生产周期缩短60%，每秒完成更多操作，已生产约3万片晶圆，可靠性为前代两倍[2] ASML市场地位与客户情况 - ASML是EUV光刻机独家制造商，其设备是制造最先进微芯片的唯一选择[2] - 主要客户包括台积电、三星、英特尔、美光、SK海力士和Rapidus等[2] - 2024年售出44台EUV光刻机(起价2.2亿美元)和374台DUV光刻机(500万-9000万美元)[10] - DUV光刻机占2024年业务的60%，中国是主要买家占第二季度业务的49%[10] - 预计2025年中国市场业务将恢复至20%-25%的历史正常水平[10] 技术优势与行业影响 - High NA可提高良率，每片晶圆上可用芯片数量更多，降低芯片价格[4] - 通过避免多次图案化加快生产速度，晶圆上可容纳更多器件[4][5] - 自2018年以来已将每片晶圆曝光所需功率降低60%以上[7] - 下一代Hyper NA机器预计2032-2035年间出现需求，已开始设计光学草图[13] - 计划2024年再出货5台High NA系统，几年内产能提升至20台[13] 全球布局与供应链 - 在美国亚利桑那州建设首个培训中心，目标每年培训1200名EUV/DUV人员[13] - 全球拥有约800家供应商，4.4万名员工，其中8500人在美国18个办事处[11] - 2024年美国市场占比约17%且增长迅速，大部分High NA出货流向英特尔[11][12] - 亚洲市场长期占业务80%以上，英特尔对美国半导体独立发展"至关重要"[11][12]