光刻产业大会概况 - 2025势银（第五届）光刻产业大会于7月9-10日在合肥新站利港喜来登酒店举行，聚焦极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿技术，以及光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化现状与技术瓶颈[1] - 会议涵盖光刻设备国产化进程的关键议题，包括设备研发、制造工艺、性能提升及市场情况[2] - 7月10日上午举行材料与装备专场讨论[10] 光刻技术与设备发展 - 国产光刻机需突破精密运动控制、高精度对准系统、整机控制等技术，同时构建生态协同并通过设备贸易积累经验[12] - 数字光刻机（如激光直写光刻机）已在IC先进封装和FPD低世代产线中应用，未来三年内有望在先进封装领域成熟并占据市场份额[20] - 准分子激光气体技术具备高分辨率成像和定位精度，但面临气体混配、杂质脱除、包装容器处理等技术难点[22] 光刻材料国产化进展 - 久日半导体化学已构建从光敏剂/光引发剂、单体到光刻胶的全产业链，年产能包括面板光刻胶4000吨、半导体光刻胶500吨、光敏剂600吨等，填补半导体成熟制程和显示面板领域原材料空缺[14] - 华显光电开发约200种产品（涵盖树脂单体、PAG、BARC等），其中15种通过客户端验证并量产，金杂控制能力达10~1ppb[18] - 痕量杂质（阴阳离子、有机杂质、水分等）对光刻胶性能影响显著，需控制原材料引入、生产工艺迁移及环境污染[24] 前沿技术研究挑战 - 痕量气体在DUV下的光化学反应研究需建立ng/L级检测方法，并开发专用反应装置与监测装备[16] 会议组织与参与方 - 主办单位为势银（TrendBank），协办单位为SICA深芯盟，赞助企业包括Agilent、智奥格、普利凯等[27] - 势银定位为中国领先的产业研究与数据公司，提供数据、研究、咨询及会议服务[31]