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尼康光刻机,应该被中国买下
观察者网· 2026-04-13 08:48
尼康光刻机业务现状 - 2025财年公司整体营收约7152亿日元,同比微降0.3%,但营业利润暴跌93.9%至仅24亿日元[2] - 精密设备部门(含光刻机业务)收入和利润双双下滑,新机出货量大幅减少,并计入了固定资产和库存减记等一次性损失[2] - 2026财年上半年,ArF光刻系统出货量继续下降,该部门仅靠转让晶圆键合技术研发业务获得的21亿日元一次性收益才勉强维持账面利润增长[2] - 2026财年上半年,成熟制程光刻机仅出货9台[1] - 公司整体市值已萎缩至约40亿美元,不到ASML市值(约2500亿美元)的2%[2] - 运营58年的横滨工厂被迫关闭[1] 尼康技术竞争力与市场地位 - 产品线集中在成熟制程的ArF干式和浸润式光刻机,在7纳米及以下的EUV光刻技术领域已彻底出局[3] - 曾投入超过1000亿日元研发EUV技术,但至2018年仍只有无法商用的原型机,最终失败[3] - 正与一家大型半导体制造商合作开发新一代ArF浸润式光刻系统,计划2028年交付原型机,旨在成熟到中端制程市场争夺份额[3] - 过去深度绑定英特尔,但2024年英特尔因巨额亏损大幅削减资本支出,导致尼康订单断崖式下跌[3] - 在美国出口管制压力下,主动放弃了曾占其光刻机销售额四成以上的中国大陆市场[3] - 作为对比,ASML在2025年售出327台设备,其中48台为高端EUV光刻机[4] 尼康资产对中国半导体产业的理论价值 - 全球芯片需求中,28纳米及以上成熟制程芯片仍占据总量的七成以上,中国对此有巨大持续需求[6] - 尼康拥有超过一个世纪的精密光学设计和制造经验,其镜头研磨、光学镀膜、对准系统等核心能力是数十年工程经验的结晶,隐性知识难以复制[6] - 在DUV光刻领域积累了大量有效专利,涵盖光源系统、投影物镜、晶圆台、对准与套刻技术等多个子系统[6] - 其供应链涉及日本众多精密零部件供应商,收购可能建立与日本精密制造供应链的合作通道[7] - 尼康光刻机团队中仍有大量经验丰富的系统工程师、光学设计师和工艺专家,人才价值远超硬件资产[7] 收购面临的政治与监管壁垒 - 日本《外汇及外贸法》在2025年5月生效的修正案收紧了外商投资审查,半导体制造设备被列为“指定核心业务实体”,中国实体收购将面临强制性事前审查,结果大概率是否决[8] - 超过80%的日本政策制定者支持在先进技术等领域实施更严格的外商投资审查[8] - 美国外国投资委员会在半导体领域立场强硬,其否决的交易中有近一半涉及半导体行业[9] - 尼康光刻机业务使用大量美国技术及零部件,受美国出口管制约束,任何中方收购交易几乎必然触发美国审查且获批概率接近零[9] - 2025年美国强化出口管制并将范围扩展至外国关联企业,同年提出的《MATCH法案》企图建立全球半导体设备出口管制联盟[9] - 日本政府将半导体产业提升至国家战略高度,对半导体产业补贴总额已达257亿美元,按GDP占比计算为全球最高,旨在重建其全球供应链地位[10] 潜在的替代或迂回路径探讨 - 技术授权:尼康考虑将部分非敏感技术(如成熟制程光刻机的运动控制技术、对准算法优化)以授权方式转让,但面临政治风险且技术价值可能打折[11] - 人才引进:在尼康持续裁员背景下,中国企业可尝试高薪挖角其工程师,但日本修订后的法律加强了对技术泄露的防范,可能引发监管干预[12] - 第三方架构:通过设立在中立国的实体间接持有技术资产或参与合资,但美日监管机构对此类架构警觉性高,可操作性快速下降[12] - 收购非核心光学资产:收购尼康在光学镜头、工业测量、显微镜等领域的业务,其光学能力有向光刻机迁移的潜力,监管阻力相对较小但技术转化效率较低[12] 行业竞争格局与技术路线 - 佳能选择押注纳米压印光刻技术,其研发成本仅为EUV的十分之一,并于2026年初宣布开发出突破性的晶圆平坦化技术,预计2027年实现商用[13] - NIL等新兴技术路线为产业提供了在现有出口管制框架外进行弯道超车的可能性[13] - ASML在尼康衰落后进一步巩固垄断地位,但完全无竞争的市场可能招致反垄断审查并失去创新外部压力[16] - ASML已开始布局先进封装设备市场,试图包办芯片制造的前后段流程[16] 各方现实处境与可能走向 - 尼康光刻机业务正从利润中心变成资金黑洞,但日本企业文化和政治环境使其不太可能主动出售该业务,尤其是给中方[15] - 尼康更可能继续在成熟制程市场苦撑,为ASML供应EUV零部件维持技术关联,并寄望于2028年后新一代ArF系统打开局面[15] - 日本政府更可能通过补贴、税收优惠或国内产业整合来托底尼康,将其技术能力作为国家安全资产保留[15] - 中国半导体产业在光刻机自主化上面临漫长追赶期,需在全链条难题上投入更多资源和耐心,或在新一代光刻技术上寻找突破[17]