如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 令人惊讶的是，芯片制造行业其实极易受到颠覆性变革的影响。现有企业的技术决策往往受 惯性驱使，"我们一直都是这么做的"。他们最害怕的就是技术倒退。就连晶圆厂照明颜色这 样简单的事情都无法改变：尽管晶圆厂会告诉你，传统的黄色灯光不会对光刻胶造成任何影 响，但光刻生产线上仍然在使用这种灯光。 近年来，这种情况愈演愈烈。尽管芯片规模扩张速度放缓，成本却迅速上升，芯片制造商仍在不断 迭代现有技术。ASML 的路线图上有一款名为 hyper-NA 的工具，他们甚至公开承认该工具可能 不具备经济可行性！但很难责怪这些公司——这些工具和晶圆厂能带来巨额利润。一台售价 2.25 亿美元的 EUV 光刻机，一年就能生产价值超过 6.5 亿美元的完整晶圆（需要注意的是，生产这些 晶圆除了 EUV 光刻机本身的成本外，还会产生许多其他成本）。 因此，现有企业几乎没有动力改变策略。 但这给那些有受虐倾向、大胆无畏、不畏艰难的创新者留下了机会……Substrate 应运而生。在昨 天的文章 《一个辍学生，同时挑战ASML和台积电》 中，我们对此进行了讨论，今天，我们对这 个路径的实现可行性进行分 ...

AI芯片产业链整体趋势 - 全球AI算力需求井喷式扩张 微软 谷歌 Meta等科技巨头宣布斥千亿美元级别巨资购置AI算力基础设施以建设大型数据中心[1][2][7] - 英伟达总市值突破并站稳5万亿美元 成为全球首个市值达此规模的公司 其CEO黄仁勋释放未来五个季度数据中心业务营收可能超过5000亿美元的重磅前景[1][2] - 华尔街机构如高盛 摩根士丹利等认为全球AI基础设施投资浪潮规模有望高达2万亿至3万亿美元 目前仅处于开端[7] - AI推理系统带来的算力需求被形容为星辰大海 有望推动市场呈指数级增长 是英伟达未来最大规模营收来源[7] 半导体设备行业景气度 - AI芯片需求激增带动半导体设备厂商股价大幅上涨 富国银行发布看涨研报认为该板块长期牛市逻辑坚挺[1][8] - 应用材料 阿斯麦 科磊 泰瑞达等美股半导体设备巨头股价大举上攻 其中泰瑞达股价周三大涨超20%[1][8] - 架构更复杂的CPU/GPU异构封装将大幅推升EUV/High-NA光刻机 先进封装设备 检测计量的结构性需求 尤其利好阿斯麦 应用材料和科磊[8][9] - 所有关于催化先进制程AI芯片产能的消息对半导体设备行业均为积极与正向[9] Lasertec公司表现与定位 - 日本半导体设备公司Lasertec股价周四大涨21% 市值达175亿美元 为一年多来最大涨幅 股价推至2024年8月以来最高点[2] - Lasertec自9月以来涨幅高达惊人的80% 被视为AI浪潮核心受益者 在业绩公布前一天被Aletheia Capital上调至买入评级[2][3] - 公司聚焦EUV掩模actinic检测 是AI芯片制造中至关重要且不可或缺的技术环节 在全球掩模检测市场拥有很高份额与稀缺产品[2][3][4] - 作为EUV光刻链条里掩模质检/计量最核心供应商 其设备用于验证半导体架构设计 确保掩模良率与量产稳定[3] 先进制程与EUV技术需求 - AI GPU AI ASIC与HBM存储系统需求井喷式扩张 推动台积电等晶圆厂在3nm及2nm先进制程持续加码 并重度依赖EUV光刻链条[4] - 采用阿斯麦EUV光刻方法制造3nm及以下先进制程芯片必须使用Lasertec的EUV检测设备进行最终工序验证[3] - 更多EUV层与更苛刻的缺陷门槛直接拉动actinic掩模检测产能与装机 Lasertec的销售额与阿斯麦EUV光刻机扩张规模呈同步增长轨迹[3][4][6] - 三星电子芯片代工部门第三季度收获创纪录AI芯片及先进制程订单 计划加速推进2nm芯片量产并提高晶圆代工产线利用率[5][6]

文 | 孙永杰 近日一则某企业试图逆向拆解荷兰ASML的DUV（深紫外）光刻机，结果因操作失当导致设备严重损 坏，最终不得不求助ASML修理的"黑色幽默"般的传闻在国内半导体圈中引起了强烈关注和讨论。尽管 该事件细节尚未被权威渠道证实，但结合当下国内光刻机产业在发展中所遭遇的种种，还是引发了我们 对其现在和未来的再思考。 从机床黑箱到DUV系统级壁垒，逆向工程思维应休矣 提及逆向工程，它曾是发展中国家追赶工业强国的"捷径"。 例如20世纪中期，日本通过拆解福特汽车、德国通过仿制英国机床，快速实现相关产业的跃升。但进入 21世纪，高端工业装备的复杂性已超越单纯"零件复制"的范畴，转向"隐性知识"与"系统协同"。而此次 传闻中的DUV拆解失败，正是这一转向的极端例证，即针对目前高精尖工业设备已经远非"拆得开装不 上"的机械问题，而是整个生态的"灵魂缺失"。 事实是，回溯传统工业的反例，上述趋势早已显出端倪。 以德国高精度机床为例，一度业内传闻中的"拆解后自动偏离或锁死"的现象，从纯技术的角度，其并非 毫无根据，而是设计层面的容差系统、装配张力与动态补偿机制协同失效的表现（即便精确测量每一个 零件，也无法重建其应力 ...

公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 令人惊讶的是，芯片制造行业其实极易受到颠覆性变革的影响。现有企业的技术决策往往受惯 性驱使，"我们一直都是这么做的"。他们最害怕的就是技术倒退。就连晶圆厂照明颜色这样简 单的事情都无法改变：尽管晶圆厂会告诉你，传统的黄色灯光不会对光刻胶造成任何影响，但 光刻生产线上仍然在使用这种灯光。 近年来，这种情况愈演愈烈。尽管芯片规模扩张速度放缓，成本却迅速上升，芯片制造商仍在不断迭 代现有技术。ASML 的路线图上有一款名为 hyper-NA 的工具，他们甚至公开承认该工具可能不具 备经济可行性！但很难责怪这些公司——这些工具和晶圆厂能带来巨额利润。一台售价 2.25 亿美元 的 EUV 光刻机，一年就能生产价值超过 6.5 亿美元的完整晶圆（需要注意的是，生产这些晶圆除了 EUV 光刻机本身的成本外，还会产生许多其他成本）。 因此，现有企业几乎没有动力改变策略。 但这给那些有受虐倾向、大胆无畏、不畏艰难的创新者留下了机会……Substrate 应运而生。在昨天 的文章 《一个辍学生，同时挑战ASML和台积电》 中，我们对此进行了讨论，今天，我们对这个路 径的实现可行性 ...

"老话说'巧妇难为无米之炊'，可荷兰偏不信这个邪——它捧着ASML这个'金饭碗'，以为能靠光刻机吃遍天，结果被中国一记'稀土铁砂掌'拍得晕头转 向。" 这场看似突然的技术对决，实则是积蓄多年的"元素战争"正式打响。 聪明企业早开始转向——谁投资中国市场，谁才能保住稀土配额。荷兰成了"祭旗"的，就是给所有想跟着美国搞技术封锁的国家提个醒：别把中国的温和 当软弱，碰了红线，就算一克磁粉也别想拿走！ ASML的EUV光刻机确实称得上"人类工业皇冠上的明珠"，但再亮的明珠也离不了稀土的滋养。每台DUV光刻机里，从镜头镀膜到磁体核心，超过50个关 键部件都刻着"中国制造"的烙印——不是简单的金属块，而是经过温度记忆控制、电磁响应稳定等核心技术淬炼的特种合金。过去十年，中荷像一对默契 的"供应链搭子"：荷兰管着ASML的出口闸门，中国供着稀土的命脉，倒也相安无事。直到美国挥起技术封锁的大棒，荷兰突然变脸——先禁EUV，后卡 DUV，2024年干脆宣布DUV也受限，活生生把"合作"玩成了"对抗"。 说到底，这场"元素战"撕开了一个残酷真相：所谓"技术巨头"不是靠站队就能当的，供应链命脉攥在别人手里，再牛的技术也得跪。中国从 ...

如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 大约每隔 6 个月，我们就会看到有关纳米压印光刻颠覆 EUV 的新一轮头条新闻。 这听起来像是个不错的标题党，但事实并非如此。这项技术有很多有趣且有效的应用，但远不及 EUV所能达到的程度。理论上，NIL可以匹敌甚至超越EUV。但实际上，NIL存在一些严重的问 题，而且目前还没有明确的发展方向。 在本文中，我们将从理论层面与晶圆厂实际操作层面解释这些差异。我们还将详细介绍市场中的关 键参与者及其可能的应用场景。首先，我们来了解一下 NIL 的基本概念及其功能： NIL 基础知识和历史 纳米压印光刻技术使用带图案的"印章"在树脂上压印图案。在半导体生产中，它与 ASML 的光刻 技术实现相同的最终目标——将掩模上的图案转移到晶圆上。这些图案只是芯片设计的一层。堆叠 50-100 层，进行图案化处理，然后在每一层上进行蚀刻和沉积等其他技术，最终构建出完整的芯 片。 最有前景的纳米级NIL技术发明于1996年，并于2001年从学术界分离出来，成为一家商业实体， 即Molecular Imprints Inc.（MII）。佳能于2014年收购了MII，并在ASML开始向客户研 ...

«——【·前言·】——» 中美经贸谈判达成初步共识，说明了什么？美财长强调，"美国不会改变针对中国的出口管制措施"，其 中又释放了怎样的信号？ 10月的吉隆坡阳光灿烂，却照不亮中美经贸谈判桌上的阴云。25日至26日，中国国务院副总理何立峰与 美国财政部长贝森特率领的团队，在默迪卡118大厦展开了为期两天的密集磋商。 这是自今年5月以来的第五轮面对面交锋，双方围绕海事物流、关税暂停期、芬太尼管控等六大核心议 题展开拉锯战。谈判现场的氛围堪称冰火两重天。 «——【·吉隆坡的握手与背后的刀·】——» 最终双方达成初步框架协议，同意延长部分关税暂停期，并就芬太尼联合执法机制展开试点合作。然 而，就在外界以为"中美关系出现转机"时，贝森特在26日晚的记者会上突然变脸。 中方代表李成钢在会后用两句话总结："美方表达立场是强硬的，中方维护利益是坚定的。"这句话背 后，是长达5个半小时的激烈交锋。美方一度要求中国扩大农产品进口配额，而中方则坚持要求美方取 消对中国造船业的301关税制裁。 他面对全球媒体直言："美国不会改变针对中国的出口管制措施。"这句话如同一记重锤，击碎了市场对 中美全面和解的幻想。更讽刺的是，贝森特在谈判 ...

公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 大约每隔 6 个月，我们就会看到有关纳米压印光刻颠覆 EUV 的新一轮头条新闻。 这听起来像是个不错的标题党，但事实并非如此。这项技术有很多有趣且有效的应用，但远不及EUV 所能达到的程度。理论上，NIL可以匹敌甚至超越EUV。但实际上，NIL存在一些严重的问题，而且 目前还没有明确的发展方向。 在本文中，我们将从理论层面与晶圆厂实际操作层面解释这些差异。我们还将详细介绍市场中的关键 参与者及其可能的应用场景。首先，我们来了解一下 NIL 的基本概念及其功能： NIL 基础知识和历史 纳米压印光刻技术使用带图案的"印章"在树脂上压印图案。在半导体生产中，它与 ASML 的光刻技 术实现相同的最终目标——将掩模上的图案转移到晶圆上。这些图案只是芯片设计的一层。堆叠 50- 100 层，进行图案化处理，然后在每一层上进行蚀刻和沉积等其他技术，最终构建出完整的芯片。 最有前景的纳米级NIL技术发明于1996年，并于2001年从学术界分离出来，成为一家商业实体，即 Molecular Imprints Inc.（MII）。佳能于2014年收购了MII，并在ASML开始向 ...

中国稀土出口管制措施 - 中国商务部于今年10月9日宣布对稀土相关物项和技术实施更严格的出口管制措施，覆盖从开采、冶炼分离到磁材制造的全产业链 [1] - 管制措施将含中国成分0.1%以上的境外稀土产品也纳入管制范围，被美国《华尔街日报》形容为“几乎史无前例” [1] - 此次管制升级被外界视为对美国前一天将15家中国企业列入出口管制清单的回应，使中国在贸易谈判中拥有更大筹码 [1][10] 稀土产业的战略重要性 - 2024年全球稀土产量约39万吨，中国产量占比达69%，其掌握的冶炼分离技术是各国无法绕开的关键环节 [3] - 稀土产业链分为开采精选、冶炼分离、制取合金三大环节，中国是全球唯一能够兼顾全部环节的国家 [7] - 中国已建成“稀土、半导体材料、光刻机部件”的全产业链闭环，其产业优势基于从上世纪70年代开始几代人的技术积累 [14] 管制措施对军工与高科技行业的影响 - 美军F35项目面临关键原料断供风险，2022年9月五角大楼曾因F35涡轮引擎使用中国制造的钴钐磁铁而暂停接收新机交付 [3] - 荷兰ASML公司的EUV光刻机光源系统受到影响，其下一代BEUV技术所需的钆、铽等中重稀土依赖中国作为全球唯一规模化供应国 [5] - 新规导致ASML可能面临数周乃至数月的交货不确定性，严重影响其准时交付能力 [5] 全球供应链格局与应对 - 美国国防部于今年7月10日购入MP Materials公司15%股份成为最大股东，该公司运营美国本土唯一的稀土矿加州芒廷帕斯矿场 [7] - 美国缺乏完整的稀土产业链，其开采的稀土矿过去需送至中国进行后续处理，自行建立全套产业链至少需要十年时间 [7][8] - 管制并非一刀切断供，而是建立出口许可制度，正常商业用途可审批，但军事用途及被列管用户原则上不予许可，形成“卡节奏”的供应不确定性 [12] 市场数据与管制策略 - 2025年4月中国轻稀土出口量持续走高，氧化镧3月出口量达3823吨，氧化钇出口量为751吨 [12] - 中国商务部的表态明确管制是基于稀土物项的军民两用属性，目的是维护国家安全和利益，并强调此为国际通行做法 [10]

IWAPS的使命与定位 - IWAPS成立于2017年，核心使命是填补国内先进光刻技术领域全球化专业交流平台的空白，促进国内技术快速追赶国际先进水平[3] - 致力于打造国际化、高层次技术交流平台，汇聚全球顶尖学者、头部企业及产业链代表，推动计算光刻、DTCO、EUV等前沿技术在中国本土落地[3] - 已成为国内规模最大、国际化程度最高的光刻技术峰会，是连接中国与世界光刻创新体系的重要桥梁[3] IWAPS的产业价值与学术价值 - 为国内外半导体工业界、学术界的资深专家提供技术交流平台，涵盖材料、设备、工艺、测量等主题[4] - 作为连接全球光刻产业链的枢纽，得到四十多家国内外顶尖集成电路企业支持，其中国际头部企业赞助商占比达53%，国内企业占比47%[4] - 会议规模持续扩大，从最初200多人的中型论坛发展为参会人数超过700人的大型国际峰会，会议上分享的报告超百篇[11] - 会议论文被IEEE/SPIE收录，并设置“Best Poster”奖项鼓励青年学者，每年有数百名青年学者获得与国际知名专家、企业总裁现场交流的机会[11] - 与会议举办地产业部门深度协同，在南京、成都、佛山、丽水、深圳等产业核心区构建区域性创新枢纽，激活区域产业生态[8][9] 韦亚一教授的领导作用 - 韦亚一教授作为IWAPS大会的灵魂人物，是中国科学院大学特聘教授，长期从事半导体光刻领域研发，拥有丰富的产业化经验[15] - 在中美贸易战及西方技术封锁的困境下，坚定指出先进光刻技术是打破发展困境的关键，并克服困难坚持举办第三、第四届会议[16] - 在疫情期间采用线下交流、线上互动的方式，成功举办第五届和第六届会议，为国内行业发展注入动力[16] - 自2024年起，代表IWAPS组委会与SPIE签订合作办会协议，会议成功列入SPIE会议名录，标志着会议发展登上新台阶[18]