点击 最 下方 关注《材料汇》 ， 点击"❤"和" "并分享 添加 小编微信 ，寻 志同道合 的你 正文 核心提要 本篇报告解决了以下核心问题： 1、光刻机核心部件的主要类型、基本原理、市场空间，EUV光刻机核心部件的差异性；2、ASML的产业协作模式、核心部件主要 供应商；3、光刻机国产化历程、现状，核心部件及加工设备标的推荐。 投资逻辑 光刻机是芯片制程核心设备。 光刻工艺直接决定芯片制造的细微化水平， 光刻机的关键指标是分辨率、焦深、套刻精度和产率 ，其中， 分辨率提升方式包括缩短 曝光波长、增大数值孔径、降低工艺因子以及多重曝光 ，增加焦深能够促使光刻机容纳各种工艺误差，套刻精度影响光刻工艺良率和多重曝光水平，产率是光刻机 实现产业化的必要条件。 核心部件是光刻产业关键壁垒。 对于投影光学光刻机，主要部件包括光源、照明、物镜、工件台、调焦调平、对准等，EUV光刻机特征显著体现在 材料选择、多 层反射膜结构、反射式投影系统、大功率光源以及磁悬浮工件台等 方面。对于光刻机核心部件，加工流程复杂、设备种类较多，是产业重要壁垒之一。我们测算， 2025E全球光刻机市场规模为293.7亿美元，照明+物镜、光源、 ...