极紫外(EUV)光刻

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美国要发力EUV光刻
半导体芯闻· 2025-04-14 18:16
如果您希望可以时常见面,欢迎标星收藏哦~ 在从英特尔离开之后,前英特尔CEO帕特·基辛格 (Pat Gelsinger) 找到了新的岗位,那就去 EUV光源初创公司xLight的执行董事长。 熟悉半导体的读者应该知道,光刻技术的核心是光。目前,最先进的芯片制造采用一种名为极紫外 (EUV) 光刻的工艺,该工艺使用特定波长的光将电路图案以纳米级打印到硅pain上。目前产生 EUV 光的方法——激光等离子体 (LPP:Laser produced plasma)——极其耗电(约 1.5 兆瓦的电 力只能产生 500 瓦的光)。 而新创公司xLight则希望使用粒子加速器为光刻机产生光,并声称它可以在 2028 年之前生产出这 种光源,同时保持与现有工具的兼容性。 革命EUV光刻 xLight 在 官 网 表 示 , 公 司 的 使 命 是 将 粒 子 加 速 器 驱 动 的 自 由 电 子 激 光 器 (FEL : Free Electron Lasers ) 商业化,以满足美国关键的经济和国家安全应用。xLight也指出,公司正在打造全球最强 大的激光器,以革新半导体光刻、计量技术以及其他关键的经济和国家安全应 ...
日本Rapidus4月试产2nm芯片!
国芯网· 2025-04-02 20:16
日本晶圆代工创企Rapidus的2nm芯片制造进展 - Rapidus开始调试芯片制造设备,计划4月底试产先进半导体,这是制造AI组件的关键一步 [2] - 公司计划2027年大规模生产2nm工艺半导体,目标与台积电制造能力媲美 [2] - 日本政府已提供1.72万亿日元(115亿美元)支持,并将追加8025亿日元(54亿美元)援助 [2] Rapidus技术开发与生产计划 - CEO表示开发2nm技术和大规模生产技术极其困难,未来需逐步降低错误率 [2] - 公司4月1日首次使用ASML EUV光刻设备,首批测试芯片可能在7月问世 [2] - 北海道工厂仍按计划推进先进芯片的大规模生产 [2] 行业背景与分析师观点 - 日本政策制定者支持Rapidus,以应对对中国台湾技术依赖的担忧 [2] - 分析师认为2027年商业推出2nm生产线可能性很小,需掌握ASML最新设备 [3] - 多数工程师首次学习使用先进设备,直接制造最先进半导体被认为不现实 [3]