如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 在从英特尔离开之后，前英特尔CEO帕特·基辛格 (Pat Gelsinger) 找到了新的岗位，那就去 EUV光源初创公司xLight的执行董事长。 熟悉半导体的读者应该知道，光刻技术的核心是光。目前，最先进的芯片制造采用一种名为极紫外 (EUV) 光刻的工艺，该工艺使用特定波长的光将电路图案以纳米级打印到硅pain上。目前产生 EUV 光的方法——激光等离子体 (LPP：Laser produced plasma)——极其耗电（约 1.5 兆瓦的电 力只能产生 500 瓦的光）。 而新创公司xLight则希望使用粒子加速器为光刻机产生光，并声称它可以在 2028 年之前生产出这 种光源，同时保持与现有工具的兼容性。 革命EUV光刻 xLight 在 官 网 表 示 ， 公 司 的 使 命 是 将 粒 子 加 速 器 驱 动 的 自 由 电 子 激 光 器 (FEL ： Free Electron Lasers ) 商业化，以满足美国关键的经济和国家安全应用。xLight也指出，公司正在打造全球最强 大的激光器，以革新半导体光刻、计量技术以及其他关键的经济和国家安全应 ...

日本晶圆代工创企Rapidus的2nm芯片制造进展 - Rapidus开始调试芯片制造设备，计划4月底试产先进半导体，这是制造AI组件的关键一步 [2] - 公司计划2027年大规模生产2nm工艺半导体，目标与台积电制造能力媲美 [2] - 日本政府已提供1.72万亿日元（115亿美元）支持，并将追加8025亿日元（54亿美元）援助 [2] Rapidus技术开发与生产计划 - CEO表示开发2nm技术和大规模生产技术极其困难，未来需逐步降低错误率 [2] - 公司4月1日首次使用ASML EUV光刻设备，首批测试芯片可能在7月问世 [2] - 北海道工厂仍按计划推进先进芯片的大规模生产 [2] 行业背景与分析师观点 - 日本政策制定者支持Rapidus，以应对对中国台湾技术依赖的担忧 [2] - 分析师认为2027年商业推出2nm生产线可能性很小，需掌握ASML最新设备 [3] - 多数工程师首次学习使用先进设备，直接制造最先进半导体被认为不现实 [3]