如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 由ASML打造的EUV光刻机是现代芯片不可或缺的重要生产工具。尤其是随着芯片工艺来到 了3nm之后，EUV光刻的重要性与日俱增。ASML也通过提高NA的方式，引领EUV光刻机进 入到High NA时代，以满足客户更严苛的需求。 然而，EUV光刻机在发展过程中却面临着制造困难、成本高昂等挑战。这也是台积电一直对 价值4万亿美金的High NA EUV比较犹豫的原因。 过 去 两 年 ， 围 绕 着 EUV 光 刻 的 光 源 ， 有 多 家 初 创 公 司 冒 了 出 来 ， 最 近 又 出 来 了 一 家 名 为 Inversion Semiconductor 的公司。 利用粒子加速器颠覆 光刻是利用光在硅片上刻画电路特征的工艺，是制造芯片最重要的步骤。 ASML 垄断了先进的光刻机市场，通过喷射锡滴并利用反射镜将光线引导至晶圆上来产生 13.5 纳 米的"EUV"光。然而，先进的芯片不断要求更精细的电路特性。为了提高分辨率，ASML 扩大了 反射镜的尺寸，但这一代价是显著增加了系统的复杂性和成本。 未 来 十 年 ， ASML 的 目 标 是 实 现 EUV 光 源 ...