如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 由ASML打造的EUV光刻机是现代芯片不可或缺的重要生产工具。尤其是随着芯片工艺来到 了3nm之后，EUV光刻的重要性与日俱增。ASML也通过提高NA的方式，引领EUV光刻机进 入到High NA时代，以满足客户更严苛的需求。 然而，EUV光刻机在发展过程中却面临着制造困难、成本高昂等挑战。这也是台积电一直对 价值4万亿美金的High NA EUV比较犹豫的原因。 过 去 两 年 ， 围 绕 着 EUV 光 刻 的 光 源 ， 有 多 家 初 创 公 司 冒 了 出 来 ， 最 近 又 出 来 了 一 家 名 为 Inversion Semiconductor 的公司。 利用粒子加速器颠覆 光刻是利用光在硅片上刻画电路特征的工艺，是制造芯片最重要的步骤。 ASML 垄断了先进的光刻机市场，通过喷射锡滴并利用反射镜将光线引导至晶圆上来产生 13.5 纳 米的"EUV"光。然而，先进的芯片不断要求更精细的电路特性。为了提高分辨率，ASML 扩大了 反射镜的尺寸，但这一代价是显著增加了系统的复杂性和成本。 未 来 十 年 ， ASML 的 目 标 是 实 现 EUV 光 源 ...

参参考考链链接接 如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 来源：内容来自 tomshardware ，谢谢。 初创公司 Atum Works 在 YCombinator 发布的启动文章中声称，其纳米级 3D 打印技术可以轻松 替代现有的芯片生产流程，并将芯片制造成本降低高达 90%。不过这项技术也有一个"前提"：其 在逻辑芯片方面的能力已经落后主流技术约 20 年，但在封装、光子学和传感器等领域仍可能表现 良好。 现代芯片就像高楼大厦：它们拥有多层结构、内部有不同类型的功能模块，还需要通信基础设施。 每一颗先进芯片的制造都要经历上千道工序、使用数百种专用设备，因此成本十分高昂。 Atum Works 称 ， 他 们 已 经 开 发 并 制 造 出 一 台 纳 米 级 3D 打 印 机 ， 能 够 以 100 纳 米 的 体 素 级 （voxel-level）精度，在晶圆级尺度上构建多材料的三维结构。与传统的平面光刻工艺不同（后 者通过光掩模曝光将电路图案刻蚀在硅片上），Atum Works 的系统可直接在三维空间中的精确位 置沉积材料，从而制造集成电路，并能将如互连等结构在一个连续统一的过程中完成，这种方式 ...