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光刻用掩模版衬底
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公司问答丨美迪凯:关于光刻用掩模版衬底 公司已完成了其整套生产工艺的开发 并已开始逐步向客户送样
格隆汇APP· 2026-01-20 16:19
公司业务进展 - 美迪凯已完成光刻用掩模版衬底的整套生产工艺开发 [1] - 公司已开始逐步向客户送样光刻用掩模版衬底产品 [1] - 公司表示将持续推动光刻用掩模版衬底的相关工作 [1]
美迪凯:公司始终围绕主营业务领域的研发、制造和销售进行发展
证券日报网· 2026-01-19 21:40
公司主营业务与战略定位 - 公司主营业务为半导体声光学、半导体微纳电路、精密光学、微纳光学及智慧终端的研发、制造和销售 [1] - 公司战略为持续深耕专业领域,以精密制造技术服务于半导体及光学产业 [1] 新产品与核心技术进展 - 公司在精密制造工艺中开发了光刻用掩模版衬底,该产品是光刻工序中的关键耗材,并已开始送样 [1] - 公司为生产需要引进了先进的光刻设备,例如用于新产品开发的12英寸90nm节点KrF光刻机 [1]
美迪凯:关于光刻用掩模版衬底,公司已完成了其整套生产工艺的开发,并已开始逐步向客户送样
每日经济新闻· 2026-01-19 16:30
公司业务进展 - 美迪凯已完成光刻用掩模版衬底的整套生产工艺开发 [2] - 公司已开始逐步向客户送样光刻用掩模版衬底产品 [2] - 公司表示将持续推动光刻用掩模版衬底相关工作的进行 [2]