专利技术突破 - 公司获得"光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质"专利授权 授权公告号CN115993753B 申请日期为2021年10月 [1] - 专利涉及半导体制造关键环节的光学邻近修正技术 涵盖方法、系统、掩膜版及存储介质等多维度创新 [1] 企业资本结构 - 上海公司注册资本达244,000万美元 北京公司注册资本为100,000万美元 [1] - 上海公司对外投资4家企业 北京公司对外投资1家企业 [1] 知识产权储备 - 上海公司累计拥有专利信息5,000条 商标信息150条 行政许可450项 [1] - 北京公司同样持有专利信息5,000条 行政许可225项 [1] 商业活动表现 - 上海公司参与招投标项目127次 显示活跃的市场参与度 [1] - 北京公司参与招投标项目52次 体现业务拓展力度 [1] 行业地位特征 - 两家公司均专注于计算机、通信和其他电子设备制造业 上海公司成立于2000年 北京公司成立于2002年 [1] - 通过对外投资和知识产权布局 强化半导体制造领域的技术壁垒和产业协同效应 [1]