公司业务与技术 - 公司的半导体专用臭氧系统设备能够产生高浓度、超纯净的臭氧 [1] - 该设备产生的臭氧在电子工业领域被广泛用于形成CVD及ALD薄膜、氧化物生长等工艺环节 [1] - 在3D NAND存储芯片结构中，臭氧因其高氧化性、清洁效率和环保特性，能够满足半导体制造对精度、缺陷控制和材料兼容性的严苛要求 [1] - 该技术可实现纳米级均匀氧化层的形成 [1]

公司业务与技术应用 - 公司半导体专用臭氧系统设备可应用于光刻胶去除工艺 [1] - 臭氧主要作用之一是去除有机物 光刻胶属于有机物的一种 [1]