英伟达800V HVDC架构

搜索文档
英伟达力推数据中心800V革新,需要大量碳化硅/氮化镓
行家说三代半· 2025-05-23 18:00
氮化镓(GaN)产业白皮书参编企业 - 英诺赛科、能华半导体、致能科技、万年晶半导体、京东方华灿、镓奥科技、鸿成半导体及中科无线半导体等企业参编《2024-2025氮化镓产业调研白皮书》[1] 英伟达数据中心电源架构革命 - 英伟达发起数据中心第二次电源架构革命,与英飞凌和纳微合作降低数据中心电源能耗[2] - 新架构需采用大量碳化硅和氮化镓器件,规格包括6500V、3300V、2300V、1200V和650V碳化硅器件,以及650V和1200V氮化镓器件[3] - 英伟达计划从2027年开始向800V HVDC数据中心电力基础设施过渡[4] 合作伙伴与技术方案 - 英飞凌与英伟达合作开发基于全新架构的800V高压直流(HVDC)系统,提供硅、碳化硅和氮化镓器件解决方案[5] - 纳微半导体与英伟达合作开发下一代800V HVDC架构,支持为GPU供电的"Kyber"机架级系统,采用GaNFast和GeneSiC电源技术[6] - 合作伙伴包括芯片厂商(英飞凌、MPS、纳微、罗姆、意法、德州仪器)、电源厂商(台达电、昂宝、Flex Power、Lead Wealth、麦格米特)及数据中心电力系统厂商(伊顿、施耐德、维谛技术)[10] 数据中心电源架构变革背景 - 数据中心耗电量惊人,2021年中国数据中心耗电量达2372亿千瓦时,相当于2个三峡电站发电量[7] - 第一次电源架构变革发生在2017年,谷歌提出将数据中心低压侧电源从12V转向48V[8] - 英伟达发起第二次革命,目标是将数据中心从54V低压直流转变为800V高压直流[13] 54V低压直流系统的问题 - 空间限制:兆瓦级机架下,54V系统占用高达64U机架空间,挤占计算资源[14] - 铜线需求量大:1MW机架需200公斤铜母线,1GW数据中心需50万吨铜[14] - 电源转换效率低:反复交流/直流转换导致能源效率低下并增加故障点[15] 800V HVDC架构优势 - 铜用量减少45%,效率提高5%,维护成本降低70%[17] - 端到端效率提高5%,总拥有成本(TCO)降低高达30%[24] - 维护成本降低70%,冷却费用降低[25][26] 技术实现细节 - 13.8kV交流转换为800V直流需大量碳化硅MOSFET器件(6500V、3300V、2300V、1200V)[20] - 800V直流转54V/12V需650V和100V氮化镓器件及650V和1200V碳化硅器件[20] - 800V架构减少带风扇电源(PSU)数量,提高系统可靠性并降低散热量[22] 行业影响与未来计划 - 800V HVDC数据中心全面投产将于2027年与NVIDIA Kyber机架级系统同步进行[26] - 该架构支持AI工作负载的可持续增长,应对日益苛刻的AI模型需求[24][26]