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零液体排放
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半导体制造,到底怎么用水?
半导体芯闻· 2025-08-25 18:24
半导体制造用水核心特征 - 晶圆厂每日用水量达数百万加仑但"使用"不等于"消耗"主要损失途径是冷却塔蒸发[2] - 大型新建项目满负荷需水量相当于百万人口城市用水量但大部分水经厂内处理后循环利用实际损失由高能耗蒸发导致[2] - 气候条件显著影响蒸发量炎热干旱地区(如北凤凰城)蒸发损失占主导同等规模工厂在凉爽湿润地区蒸发量低得多[2] 取水与市政合作模式 - 多晶圆厂园区日取水量达千万加仑级别例如英特尔奥科蒂洛园区三座厂日取水1400万加仑(400万饮用水+1000万再生水)[4] - 市政要求工业用户进行预处理菲尼克斯市要求半导体厂排放前通过反渗透去除污染物以保护下水道系统[3] - 市政采用长期规划框架如菲尼克斯每五年更新基础设施总体规划以纳入半导体需求并规划管道建设顺序[7] 厂内水循环与回用技术 - 超纯水(UPW)需满足电阻率>18.2 MΩ·cm有机物<亚ppb级颗粒控制<10nm的标准纯度要求决定回用上限[9] - 材料选择至关重要低可提取性衬里和管道可减少污染渗出维持水质[9][10] - 联电(UMC)展示规模化回用案例2023年全公司工艺用水回收率84.3%新厂区将废水分27类简化处理[12] 再生水与分类路由实践 - 联电新加坡12i厂2024年使用再生水400万吨占总取水量97.6%台湾12A厂2022年再生水使用量达458万吨同比增16.9%[13] - 日月光(ASE)2023年总取水量2147万吨通过分类回用使废水排放量同比减少12%高雄厂回收率约70%[14] - 分类路由原则是将低污染冲洗水与高化学需氧量排水分开本地净化后用于冷却塔等低敏感场景[12][15] 冷却系统与蒸发管理 - 冷却塔蒸发是主要消耗源设备功率密度、工作周期和当地天气共同决定补水量[20] - 提高冷却塔浓缩倍数可减少排污但增加结垢风险需平衡化学控制窗口[20] - 热回收和干式冷却器可减少蒸发但受空间和气候限制[20] 数字孪生与系统优化 - 数字孪生整合超纯水设备、冷却回路等实时数据优化水-能耦合系统实现单位热量用水量降低[16] - 联电在废水处理中采用智能控制减少化学品消耗并应用数字孪生优化水化学物质流动[17] - 泛林半导体通过虚拟孪生减少物理实验节约水及化学品资源并部署生态传感器实时监控工艺冷却水[18] 化学物质风险管理 - PFAS和TMAH等化学物质需在万亿分之一级别监测和处理反渗透、离子交换可用于捕获但销毁技术仍不成熟[23] - 零液体排放(ZLD)可作为合规工具消除排放不确定性但增加盐水处理负担和碳足迹[23][24] - 菲尼克斯市正引入废水PFAS检测方法以应对美国环保署万亿分之四的饮用水指导限值[23] 行业挑战与未来方向 - 三大难题:万亿分之一级别监测、高比例循环的隐性污染风险、蒸发损失控制与能源负担的平衡[26] - 需通过设备级分类、早期预处理和连续分析技术解决微量物质积累问题[27] - 进展依赖协同协作:排水分类保持水质洁净、热感知运营减少蒸发、厂界预处理建立市政信任[29]