光刻机国产化技术突破 - 上海微电子首次公开极紫外（EUV）光刻机参数图，芯上微装获工博会最高荣誉及集成电路创新成果奖 [1] - 国产光刻机实现90nm工艺量产，上海微电子600系列光刻机已量产90nm工艺，28nm浸没式光刻机研发中 [3] - 国产EUV进入原理机搭建阶段，干法DUV近期进入量产测试阶段，先进封装机台正式量产 [3] 产业链协同发展与公司进展 - 张江高科通过子公司投资上海微电子22,345万元，持股10.779% [4] - 波长光电光刻机相关业务包括反射镜、聚焦镜等光学元器件，应用于掩膜光刻、直写光刻等场景 [4] - 江丰电子开发28nm以下节点光刻机核心冷却部件，已进入量产阶段 [4] - 芯碁微装WLP 2000晶圆级直写光刻设备获中道头部客户重复订单，实现2μm线宽/线距 [4] 行业需求与外部环境 - 中国光刻机需求量较大但国产化率极低，美国自2018年起限制对华出口EUV及先进DUV光刻机 [5] - 光刻机技术突破带动上游材料、光学部件等国产化，形成"龙头带动、多点突破"产业格局 [3] 市场表现与机构关注 - 光刻机概念股40余只，机构关注度较高个股包括芯碁微装（18家机构评级）、江丰电子（13家）、富创精密（13家）等 [6] - 杠杆资金净买入超亿元个股包括腾景科技（5.23亿元）、芯碁微装（4.66亿元）、炬光科技（1.82亿元）等 [7][8] 成长性预测 - 富创精密、同飞股份等机构一致预测2026及2027年净利增速均超30% [6] - 芯碁微装、江丰电子等机构一致预测2026及2027年净利增速均超20% [6]