行业与公司 * 光刻机行业 半导体制造设备行业[1] * 阿斯麦公司 ASML 全球光刻机市场领导者 市场份额超过60% 在EUV领域近乎垄断[1][17] * 国产光刻机 中国本土光刻机研发与制造[19][20] 核心观点与论据 **光刻机的重要性与价值构成** * 光刻机是半导体制造核心设备 与薄膜沉积和刻蚀设备并列为三大核心 在半导体设备市场中价值占比约为20%[1][2] * 光刻机的主要任务是将掩膜板上的图形投射到晶圆表面以形成图案 每一层工艺操作都需要使用光刻技术[2] * 光学系统是光刻机价值量最高的部分 占比达整个设备价值的30%-40%[1][14] * 光刻机的核心部件包括腔体 真空泵 机械臂 阀门和管道等 这些系统在整个光刻机中的价值量占比超过60%[1][15] **光刻机性能的关键指标与技术路径** * 分辨率是衡量光刻机性能的关键指标 决定了两个点之间最小可分辨的间距[4] * 提升分辨率的三大路径 缩短光源波长 例如从436纳米汞灯到13.5纳米EUV 增大数值孔径 NA 以及优化工艺因子[1][4] * EUV 极紫外 是当前最先进的光源技术 其13.5纳米波长能实现更高分辨率 使现代高端芯片制造成为可能[1][5] * 数值孔径 NA 是影响分辨率的重要指标 NA越大 能实现的分辨率越小 静默式光刻机通过在镜头与晶圆间加入水介质提高折射率 从而增大NA 将输出孔径从134纳米提升至150纳米左右[1][6] * 工艺因子的优化涉及掩模板 照明系统及临近效应修正等多种因素 通过优化可将分辨率提高一倍 例如从0.5提升至0.25[10][11] **主要子系统及其功能** * 光源系统负责提供曝光能量 DUV使用准分子激光器 EUV使用极紫外线 价值量占比约10%以上[12] * 工件台系统控制晶圆运动 采用双工件台配置以提升效率 处理速度可达每小时300至400片 对精度要求极高[13] * 光学系统涵盖从激光器发出光到修整引导光路的全过程 包括各种透镜和反射元件[14] * 光刻机镜头设计复杂 需通过多片正负透镜组合来优化光路 控制纳米级误差 光物镜价值量占比至少2% 成本比重超20%[7][8] **行业发展历程与竞争格局** * 光刻机技术最早由美国研发 日本后在政府支持的VRSI计划下整合五大巨头 其半导体产业在1980年代达到顶峰 全球市占率超40% 存储器市场份额超60%[16][18] * 阿斯麦 ASML 成立于1984年 通过与台积电等客户深度合作及技术创新 静默式技术和EUV 实现反超并成为全球领导者[1][16][17] * 阿斯麦的成功关键在于布局供应链 与Cemer合作光源 与蔡司合作物镜 并自主开发工件台[1][17] **国产光刻机的现状与未来** * 国产光刻机研发起步较早但进展滞后 目前主要集中于低端产品 但近年来已取得显著突破[3][19] * 未来发展关键在于解决零部件供应链"卡脖子"问题 实现从低到高的逐步发展[3][20][21] * 在政府支持下 参考日本发展模式 国产光刻机有望实现突破[20] **投资视角与市场空间** * 光刻机是半导体设备板块中最具潜力的方向 其突破意义重大[3][22] * 上游供应链的盈利能力和价值量最高[3][22] * 投资者应关注DUV技术 并密切关注EUV技术的进展 这将进一步扩大市场空间并提升盈利能力[3][22][23] * 许多上市公司已在光刻机领域进行产品布局 具有较高投资价值[23]

纪要涉及的行业和公司 - **行业**：光刻机、人工智能、学前教育、电学检测、丁酮、智能输配电、电源模块、智能驾驶、生态环境、AI眼镜、固态设备、智能网联汽车、激光、医学、芯片、规划、军工装备、医药 - **公司**：波长光电、福晶科技、上海微电子、茂莱光学、腾景科技、永新光学、中润光学、晶方科技、清溢光电、冠石科技、路维光电、珂玛科技、炬光科技、旭光电子、美埃科技、蓝英装备、电科数字、汇成真空、奥普光电、芯碁微装、东方嘉盛、京华激光、同飞股份、直真科技、华丰科技、创益通、金信诺、因赛集团、鼎捷数智、汉王科技、赛意信息、海天瑞声、利欧股份、石基信息、意华股份、得润电子、瑞可达、拓维信息、神州数码、四川长虹、瑞贝卡、广电运通、软通动力、兴森科技、川润股份、凯旺科技、强瑞技术、光迅科技、泰嘉股份、欧陆通、利和兴、润达医疗、创业黑马、佳发教育、税友股份、焦点科技、泛微网络、新易盛、中际旭创、剑桥科技、德科立、东田微、胜宏科技、沪电股份、生益电子、鹏鼎控股、景旺电子、爱婴室、和晶科技、孩子王、创源股份、奥飞娱乐、珠江钢琴、世纪天鸿、凤凰传媒、中信出版、时代出版、华媒控股、竞业达、鸿合科技、豆神教育、方直科技、昂立教育、通达创智、贝因美、骑士乳业、品渥食品、天润乳业、燕塘乳业、博杰股份、齐翔腾达、宇新股份、中电鑫龙、新雷能、多伦科技、文科股份、佳禾智能、恒玄科技、英派斯、博士眼镜、明月镜片、值得买、商汤科技、纳科诺尔、锦江在线、小马智行、锦江出租、星辰智能体、亿境虚拟、英诺激光、迈普医学、东芯股份、砺算科技、蕾奥规划、天和防务、众生药业 核心观点和论据 1. **光刻机行业** - **核心观点**：国产化持续推进，500nm突破标志可覆盖更广泛场景，满足国内70%成熟制程需求，全球光刻机市场规模呈增长趋势[2] - **论据**：中国自主研发的EUV光刻机预计第三季度迈入试生产阶段，芯上微装前道500nm i线光刻机已发货至核心头部fab厂客户端进行量产验证；2024年全球光刻设备市场规模达295.7亿美元（同比+9.0%），预计到2029年将达378.1亿美元，2024 - 2034复合增长率为5.0%[2] 2. **人工智能行业** - **核心观点**：WAIC2025召开，GPT5即将发布，人工智能各领域有新进展和突破[7] - **论据**：华为首次线下展出昇腾384超节点，算力总规模达300Pflops；京东发布行业首个100%开源的企业级智能体JoyAgen；自2025年5月更多Agent产品推出并起量；GPT5在全模态融合能力、推理能力等方向实现核心技术突破升级，计算效率提升50%，幻觉率降低40%[7][8] 3. **学前教育行业** - **核心观点**：国常会提出逐步推行免费学前教育，相关公司有望受益[12] - **论据**：会议指出要指导各地细化工作方案，安排好补助资金；爱婴室、和晶科技等公司在学前教育领域有相关业务布局[12] 4. **电学检测行业（博杰股份）** - **核心观点**：Nvidia AI芯片组维修需求激增，公司作为N客户供应商有望受益[14] - **论据**：2025年7月25日盘中网传Nvidia AI芯片组维修需求激增，公司AI服务器业务比重占20%左右，为N客户实验室自研服务器产品做检测[14] 5. **丁酮行业（齐翔腾达）** - **核心观点**：丁酮量价齐升，公司作为甲乙酮行业领军企业受益[15] - **论据**：2025年7月23日欧洲亮牌丁酮装置关停，丁酮价格从6月低点6250元/吨飙升至7月25日9200元/吨，累计涨幅达47.2%，6月出口量达3.01万吨创年内新高；公司拥有设计产能26万吨/年的甲乙酮装置，国外业务占比44.83%[15] 6. **智能输配电行业（中电鑫龙）** - **核心观点**：公司产品适用于水利工程，且在数据中心和磁电存储领域有布局[16] - **论据**：2025年7月24日互动显示公司智能输配电设备可适用于水利工程项目，已有部分产品应用于国家重点水利工程；与华为在智慧城市、大数据中心建设等方面合作；曾定增20亿拟用于磁光电存储技术[16] 7. **电源模块行业（新雷能）** - **核心观点**：网传公司供GB200机柜中电源模块，对应较大市场规模，公司在数据中心和军工领域有业务[17] - **论据**：按单台200KW、3元/W、一年4万台机柜计算，对应240亿元市场规模，若公司10%份额，对应24亿元收入；重点开展相关电源研发，与新华三合作；特种电源业务占比超90%[17] 8. **智能驾驶行业（多伦科技）** - **核心观点**：公司是华为昇腾AI产业链重要合作伙伴，在智能驾驶和机器人领域有进展[18] - **论据**：与华为昇腾合作完成多项产品认证，依托昇腾创建人工智能算力中心；旗下“多多驾到”接入大模型赋能产品；官宣对众擎机器人战略投资并成立研究中心[18] 9. **生态环境行业（文科股份）** - **核心观点**：跟进雅下环境生态工程，公司深耕生态环境领域且拟进行重组[19] - **论据**：2025年7月26日消息公司跟进雅鲁藏布江项目环境生态工程业务；公司深耕生态环境领域营收占比85.02%；拟进行债权重组和债务重组[19] 10. **其他题材** - **AI眼镜**：阿里巴巴发布首款自研AI眼镜“夸克AI眼镜”技术研发进展，融合阿里和支付宝生态[19] - **固态设备（纳科诺尔）**：有望成为固态设备平台型企业，按中期固态电池扩产量测算可为公司贡献约17亿元利润[20] - **智能网联汽车（锦江在线）**：小马智行联合锦江出租逐步向公众开放自动驾驶出行服务[20] - **激光（英诺激光）**：为上海微电子光源系统重要合作伙伴，激光器已进入其供应链名单[21] - **医学（迈普医学）**：颅颔面修补产品有望抢占传统钛材料市场，部分产品预计集采落地后放量[21] - **芯片（东芯股份）**：砺算科技发布首款全自研GPU芯片及显卡产品，提升游戏帧率[21] - **规划（蕾奥规划）**：召开AI产品发布会，销售逐步展开，入选联通合作伙伴招募项目[22] - **军工装备（天和防务）**：军工装备业务以新一代综合近程防御系统为核心，核心产品已列装部队[22] - **医药（众生药业）**：收到原料药氯贝酸铝上市申请批准通知书，预计市场规模增长[22] 其他重要但可能被忽略的内容 1. **光刻机行业**：光源系统是光刻机最为核心的环节，目前全球仅ASML子公司Cymer和日本Gigaphoton可供应EUV光源；光学系统对光路进行优化处理；工件台系统控制晶圆及掩模版运动，ASML的TWINSCAN双工件台系统提高晶圆制造效率但对控制精度要求高；光刻机内部还包括晶圆传输系统、减震系统等，曝光需在特制洁净室[2][3] 2. **人工智能行业**：WAIC2025集中发布多项政策成果及技术应用成果，如上海高级别自动驾驶引领区发展行动方案等[18] 3. **学前教育行业**：学前教育是针对3 - 6岁儿童在进入小学前接受的正规教育，包括幼儿园和学前班教育[12] 4. **丁酮行业**：甲乙酮有时会被作为光刻胶剥离剂或清洗剂成分之一[15] 5. **智能输配电行业**：中电鑫龙与华为在智慧城市、大数据中心建设等方面合作，曾联合中标苏州市人工智能算力中心项目[16] 6. **电源模块行业**：新雷能重点开展比例变换器模块等研发，与新华三签署战略合作协议[17] 7. **智能驾驶行业**：多伦科技旗下“多多驾到”接入国内领先Al大模型DeepSeek，打造新一代“驾培智能体”与“语音交互智能体”[18] 8. **生态环境行业**：文科股份深耕生态环境领域，在大项目施工管理等多方面表现卓著，拟进行债权重组和债务重组以加速债务剥离及资产盘活[19]

报告行业投资评级 - 看好丨维持 [11] 报告的核心观点 - 通过对光刻机关键技术、关键工艺环节的分析以及对光刻机行业格局的复盘，我国光刻机产业或可充分发挥后发优势，集中力量攻克核心环节，最终实现国产自主之路 [4] 根据相关目录分别进行总结 灿若星河，光刻机加冕半导体皇冠 - 光刻是晶圆制造中最重要的技术之一，核心设备光刻机直接决定晶圆制造产线的技术水平，也是晶圆制造工艺中价值量和技术壁垒最高的设备之一 [22] - 光刻技术的核心是使用光刻机将芯片的设计图案转移至硅片，加工步骤分为曝光、显影和清洗三个阶段 [24] - 分辨率是光刻系统能够实现的最小精度，也是光刻曝光系统最重要的技术指标之一，为提高分辨率，工程中常用的方式包括增大投影光刻物镜的数值孔径、采用更短的工作波长、减小光刻工艺因子等 [28][32] - 光刻机的关键尺寸（分辨率）与集成电路的核心物理参数存在对应关系，ASML 将光刻工艺的关键尺寸（分辨率）定义为半周期间距 [34][35] - 影响光刻机加工的集成电路关键尺寸的因素有光源波长λ、数值孔径 NA 以及工艺因子 k1，减小特征尺寸提高精度的主要方式为光源波长的缩短，当波长缩短到当时科技的极限时，主要的攻克方向逐渐变为增大 NA 以及缩小 k1，直到更短波长的光源被发现并大规模应用 [39] - 光源波长的发展历程经历汞灯、准分子激光器、EUV 光源三个阶段，减小光刻机所用光源波长是优化分辨率最直接有效的方式 [43] - 当光源演进触及技术瓶颈时，增大数值孔径成为减小光刻机分辨率另一有效的方式，数值孔径的计算公式为 NA=nsinθ，增大 NA 的方式包含增大透镜工作介质的折射率或增大透镜的收光能力 [51] - 工艺因子 k1 包含因素多样，RET 技术可增大 k1，增强分辨率，主要方法包括邻近效应修正、离轴照明、使用具有相移的掩模版、添加亚分辨率的辅助图形等 [74] 百川归海，光刻机零件聚焦三大核心 - 光刻机内部最核心的环节主要在于光源系统、光学系统、工件台系统，除以上三大核心环节，光刻机内部还包括晶圆传输系统、减震系统、外部的操纵台，并且光刻机的曝光还需要在特制的洁净室 [77] - 光源系统为光刻过程提供能量，是光刻机最关键的环节，由早期的高压汞灯，发展至准分子激光器系统，再到现在的 EUV 光源，光源系统的升级极大缩小了波长，是提高光刻机分辨率最重要的方式 [82] - 光源系统具备极高壁垒，全球供应商寥寥可数，目前全球仅 ASML 的子公司 Cymer 和日本的 Gigaphoton 可供应 EUV 光源，我国科益虹源紧随其后成为目前全球第三家 DUV 光源供应商 [83] - 光学系统不仅是光的传播路径，同时可以缩小像差，增大收光角，进而提高分辨率，对于 DUV 光刻机需要采用 29 片透镜，而 EUV 光刻机则需要蔡司定制的平整度小于 0.05nm 的反射镜 [88][89] - 工件台系统主要功能是负责控制硅片步进运动，同时重点要兼顾掩模版、晶圆和双工件台的实时对准，ASML 提出的双工件台系统极大提升光刻的精度与效率，目前除 ASML 外，我国华卓精科打破技术壁垒，最先进的水平可实现支持浸润式光刻机 ArFi 的双工件台 [91] 筚路蓝缕，复盘光刻机龙头波澜历程 - 光刻机发展历史大致可分为三个主要阶段，各大龙头相互替代关键因素在于技术迭代升级，根据光刻机产业重心来看，经历了美国—日本—荷兰（ASML）的迁移过程 [94] - 凭借极高的技术壁垒，全球光刻机市场“一超双强”格局基本稳定，从销售台数看，21 世纪后光刻机市场基本由三巨头 ASML，佳能以及尼康垄断，CR3 接近 100%，其中 ASML 市占率近 60%独占鳌头，从产品布局看，ASML 在先进制程优势显著，尼康占据 ArFi 光刻机剩下的不到 10%份额，而佳能光刻机主要覆盖 i 线以及 KrF 等相对低端制程 [97] - 1960~1980 年，美国作为半导体技术的发源地，在早期近乎垄断了半导体制造业，其中具备代表性的龙头为 GCA 以及 Perkin Elmer，美国光刻机行业的先发优势受到严重冲击 [94][110] - 1980~2000 年，受益于 PC 崛起带动的存储需求爆发以及政府的大力扶持，日本半导体产业迅速崛起，尼康与佳能两大光刻机巨头实现对美国的反超，日本光刻机的崛起见证了举国体制下后发优势的充分发挥，或可成为我国良好的借鉴 [94][111][130] - 2000 至今，在光源波长达到 193nm 后，尼康选择攻克下一代 157nm 但遇到较大阻力，而 ASML 联合台积电转向浸润式光刻机，实现等效的 134nm 波长，而后续 ASML 在 EUV 光刻机的垄断正式奠定全球光刻机龙头地位 [94] 风起青萍，国产光刻路虽远行则将至 - 我国光刻机产业起步并不晚，但早期缺乏产业链的全面布局以及自主化的决心，发展历程缓慢，90 年代光刻机发展趋于停滞，没能延续起步阶段积累的优势 [145] - 自主化战略确立，政策扶持下国内光刻机行业扬帆再起，近年来在政府扶持和统一规划明确分工的前提下，后发优势凸显 [146] - 上海微电子是“02”专项光刻机项目承担主体，其封装光刻机在全球市场占有 40%以上的份额，国内市场占有率超 90%，在 IC 前道制造领域，公司 SSX600 系列步进扫描投影光刻机可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 关键层和非关键层的光刻工艺需求 [150] - 国内多家公司在光刻机光学、整机、功能件等领域取得进展，可应用于光刻机等设备 [151]

核心观点 - 光刻机国产化迫在眉睫，建议关注茂莱光学、福光股份、汇成真空、英诺激光、苏大维格、芯碁微装、中旗新材等产业链投资机会 [3] 市场走势 - 2025年7月15日，上证指数收盘3519.65，涨0.27%；深证成指收盘10684.52，跌0.11%；沪深300收盘4017.67，涨0.07%；中小板指收盘6633.74，跌0.07%；创业板指收盘2197.07，跌0.45%；科创50收盘992.39，跌0.21% [2] 投资要点 光刻机地位与原理 - 光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时 长、成本高，光刻机是光刻工艺的核心设备 [3] - 光刻原理是将高能雷射光穿过光罩，使光罩上的电路图形透过聚光镜，将影像缩小到十六分之一后成像在预涂光阻层的晶圆上 [3] 提升光刻机分辨率路径 - 更短波长光源推动光刻机分辨率不断提升，使用 i-line 光源的 ASML 光刻机最高分辨率可达 220nm，Kr - F 和 Ar - F 将分辨率进一步提升至 110nm 和 65nm，EUV 光刻分辨率达到了 8nm [3] - 增大数值孔径可以提升分辨率，浸没式系统突破了 DUV 光刻机 0.93 的数值孔径，将 DUV 分辨率提升到 38nm 以下 [3] 全球市场情况 - 2024 全球光刻机市场规模约为 315 亿美元，光刻机占半导体设备比例约 24%上下 [3] - 出货角度，光刻机销量仍以中低端产品为主，KrF、i - Line 占比分别为 37.9%和 33.6%；其次分别为 ArFi、ArFdry、EUV，占比分别为 15.4%、5.8%及 7.3% [3] - 2022 年，ASML、Canon、Nikon 在光刻机市场份额分别为 82.1%、10.2%和 7.7% [3] 国产化需求 - 2026 年底，大陆 12 英寸晶圆厂的总月产能有望从 2023 年的 217 万片增长到超过 414 万片，人工智能发展大幅提升国内先进制程产能需求 [3] - 芯片生产产线建设中，光刻机购置成本最高，达到设备总投资的 21% - 23%，国内晶圆厂建设潮和 AI 快速发展带动国产光刻机需求持续攀升 [3] - 美国持续加大对华半导体设备出口管制下，国产光刻机产业有望加速崛起 [3] 光刻机整机构成 - 光刻机整机主要由照明光学模组、投影物镜模组、晶圆模组构成 [3] - 照明光学模组分为光源和照明模组 [3] - 投影物镜模组包含多种反射镜和透镜，主要功能是把掩模版上的电路图案缩小到 1/16 之后，聚焦成像到预涂光阻层的晶圆上 [3] - 晶圆模组分为晶圆传送模组和晶圆平台模组，分别负责晶圆传送和承载晶圆及精准定位晶圆来曝光 [3]

光刻机技术发展 - 芯上微装前道500nm-i线光刻机已发货至头部fab厂进行量产验证，供应链i线物镜系统配套价值量从300万提升至500-600万 [1] - 上海微电子SSA600/20系列是国内最先进且唯一可量产的前道光刻机，分辨率达90nm，主要用于成熟制程 [3] - SMEE正在攻关28nm沉浸式(ArF液浸)光刻机，研发已进入后期阶段，核心子系统取得突破，目标2024-2025年完成首台交付 [4] - 国内XX装备集团聚焦365nm i-line光刻机(分辨率约0.35μm)，用于功率半导体等特殊工艺，同时推进KrF光刻机(248nm)研发，目标突破55nm节点 [6] 光刻机市场格局 - 2024年全球光刻机市场规模预计约315亿美元，占半导体设备24% [14] - 光刻机销量以中低端产品为主，KrF、i-Line占比分别为37.9%和33.6%，ArFi、ArFdry、EUV占比分别为15.4%、5.8%及7.3% [14] - 2022年ASML、Canon、Nikon市场份额分别为82.1%、10.2%和7.7%，ASML在高端光刻机领域处于绝对垄断地位 [45] 国产光刻机进展 - 2026年底大陆12英寸晶圆厂总月产能有望从2023年217万片增长到414万片 [15] - 光刻机占晶圆产线设备投资21%-23%，一条300mm月产1万片晶圆产线需要8台光刻机 [59] - 美国持续加大对华半导体设备出口管制，包括限制ASML向中芯国际出口EUV和DUV光刻机 [65] - 2024年ASML对中国大陆销售收入达90亿欧元，占其收入比重41% [67] 光刻机技术原理 - 光刻是芯片制造最复杂、最关键的工艺步骤，耗时占生产环节一半，成本占芯片制造成本30%以上 [10] - 分辨率提升路径包括更短波长和增大数值孔径，i-line光源分辨率220nm，Kr-F(248nm)110nm，Ar-F(193nm)65nm，EUV达8nm [11] - 浸没式系统突破DUV光刻机0.93数值孔径极限，将DUV分辨率提升到38nm以下 [12] - 光刻机整机由照明光学模组、投影物镜模组和晶圆模组构成，投影物镜高度超1米，直径大于40厘米，镜片数量超15片 [16][82] 重点公司动态 - 茂莱光学2024年半导体领域收入占比达46.3%，光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术已产业化 [98] - 福光股份布局光刻机超精密光学业务，推进红外、非球面等超精密光学加工技术突破 [106] - 英诺激光立项"高功率薄片超快激光器关键技术与产业化"项目，推进大能量、高重频超快激光技术 [113] - 中旗新材控制权变更，星空科技成为控股股东，其实际控制人贺荣明为上海微电子创始人 [126][131]

报告行业投资评级 - 电子行业投资评级为领先大市 - A（维持）[1] 报告的核心观点 - 光刻是芯片制造关键工艺，光刻机是核心设备，全球市场规模超 300 亿美金且 ASML 一家独大 [3][4] - 国内晶圆制造产业扩张与 AI 发展使光刻机需求攀升，美国出口管制下国产化迫在眉睫 [5][42] - 光刻机由照明、投影物镜、晶圆模组构成 [5] - 建议关注茂莱光学、福光股份等国产光刻机产业链受益标的 [5] 根据相关目录分别进行总结 光刻机：工业皇冠上的明珠 - 光刻是芯片制造最复杂关键步骤，原理是将光罩电路图形成像在晶圆上，可细分涂胶、曝光、显影 [13] - 光刻技术分掩膜光刻和直写光刻，前者用于芯片生产，后者用于制造掩膜版，投影式光刻渐替代接触/接近式 [15][19] - 提升光刻机分辨率路径为更短波长和增大数值孔径，更短波长光源推动分辨率提升，浸没式系统突破数值孔径极限 [4][22] - 2024 全球光刻机市场规模约 315 亿美元，出货以中低端为主，市场呈寡头垄断，ASML 一家独大且靠技术创新领先 [33][38] 美对华加大半导体技术封锁，光刻机自主可控迫在眉睫 - 国内晶圆制造产业加速扩张，预计 2026 年底 12 英寸晶圆厂总月产能超 414 万片，AI 发展提升先进制程产能需求，带动光刻机需求攀升 [42][47] - 美国持续加大对华半导体设备出口管制，我国光刻机依赖进口面临“卡脖子”困境，国产化迫在眉睫 [56][57] 光刻机主要由照明光学模组、投影物镜模组、晶圆平台模组构成 - 照明光学模组分光源和照明模组，DUV 光刻机光源主要用准分子激光器，照明模组为投影物镜成像提供特定照明光场 [62][66] - 投影物镜模组功能是将掩模版图样传递到晶圆上，可划分为光学、机械和控制三个分系统 [72] - 晶圆模组分传送和平台模组，运动速度和定位精度影响光刻机效率和精度，晶圆平台由多部分组成 [77] 投资建议与重点公司介绍 - 建议关注国产光刻机产业链，受益标的有茂莱光学、福光股份等 [83] - 茂莱光学是精密光学综合解决方案提供商，国产替代推动半导体业务加速成长 [84][85] - 福光股份是光学系统解决方案提供商，布局光刻机超精密光学业务 [87][89] - 汇成真空是真空镀膜设备提供商，产品应用多领域 [91] - 英诺激光是激光器生产商，积极布局光刻机光源相关激光技术 [96][97] - 苏大维格是微纳结构产品制造和技术服务商，建立微纳光学研发与生产基础技术平台 [101] - 芯碁微装是直写光刻设备供应商，产品功能涵盖多领域光刻环节 [105] - 中旗新材控制权拟变更，星空科技成控股股东，其是半导体设备厂商，产品适用于多领域曝光 [108][113]