点击 最 下方 关注《材料汇》 ， 点击"❤"和" "并分享 添加 小编微信 ，寻 志同道合 的你 正文 10月10日，深圳市政府新闻办召开新闻发布会，宣布2025湾区半导体芯片展（湾芯展）将于10月15日 至17日在深圳福田会展中心举行。会上，深圳市发展改革委员会主任郭子平透露， 本土半导体企业新 凯来将参展，并将在展会上 "带来惊喜" 。 已知信息显示 ，可能发布 新一代超高速实时示波器（性能提升500%） ，应用于6G通信、智能驾驶等 领域；同时持续聚焦薄膜沉积（如峨眉山系列EPI设备）、刻蚀（武夷山系列）等核心工艺装备。 "我们很高兴地宣布，与合作伙伴共同构建的28nm国产集成电路制造示范线，已成功流片并产出首批 合格芯片。" 可是到底什么会是惊喜？欢迎大家大胆猜测。 小编认为如果有光刻机相关，那会更加让人惊喜 惊喜一： 国产DUV光刻机的"心脏"或"大脑"取得突破 惊喜三： 软件与工艺的"杀手锏" 最可能的惊喜： 宣布成功研发出用于ArF浸没式（ArFi）DUV光刻机的 国产光源系统 或 高NA物镜系 统 。 惊喜二： 28nm及以上制程的全套"去美化"产线核心设备集体亮相 最可能的惊喜： 新凯来联 ...

文章核心观点 - 新凯来公司若能在展出中突破3nm工艺将是一个具有战略意义的事件 可能改变当前半导体领域的竞争格局 [1] - 半导体领域摆脱光刻瓶颈将削弱西方的关键制约手段 结合稀土优势可能实现攻守换位 [1] - 新凯来的崛起对半导体行业是长效逻辑 对设备零部件上游产业链和半导体制造耗材是长期利好 [1] 技术突破与战略意义 - 新凯来ALD "阿里山"原子层沉积设备针对5nm以下原子级薄膜沉积 武夷山系列刻蚀设备支持5nm以下先进制程 [1] - 公司通过自研SAQP技术与华为海思算法优化 成功将DUV光刻机精度提升300% 实现5nm制程 [1] - 公司与中芯国际合作完成5nm逻辑芯片试产 晶圆良率达85% 逼近台积电EUV工艺的90% [1] - 中芯国际计划2025年用新凯来的工艺进行5nm风险试产 [1] 行业影响与市场前景 - 国内算力需求因缺乏高端芯片而被压抑 高端制备能力快速扬升将释放惊人算力 [1] - 新凯来技术突破将利好半导体设备零部件上游产业链和制造耗材领域 [1]