硅和锗硅外延EPI设备
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中微公司:刻蚀与薄膜持续放量,Q1业绩高增-20260506
华泰证券· 2026-05-06 13:40
投资评级与目标价 - 报告维持对中微公司的“买入”评级 [1][5][7] - 基于91.4倍2026年预测市盈率,给予目标价472.54元人民币,较前值333.2元(对应70倍2026年PE)有显著上调 [5][7] 核心观点与业绩摘要 - 公司2025年及2026年第一季度业绩实现高增长,2025年营收123.85亿元,同比增长36.62%,归母净利润21.11亿元,同比增长30.69% [1][2] - 2026年第一季度营收29.15亿元,同比增长34.13%,归母净利润9.30亿元,同比大幅增长197.20%,环比增长3.36% [1][2] - 公司成长由“刻蚀+薄膜”双轮驱动,刻蚀设备收入占比79.39%,LPCVD设备收入同比大幅增长约224.23% [1][2][3] - 公司拟收购杭州众硅控股权,切入CMP(化学机械抛光)设备领域,实现从“干法”向“干法+湿法”整体解决方案的关键跨越 [1][3] - 国内晶圆厂扩产与先进制程国产化提速,公司作为国内半导体设备龙头有望持续受益 [1] 业务分项进展与市场地位 - **刻蚀设备**:20多种细分设备可覆盖95%以上的三百多种刻蚀应用,工艺覆盖从65纳米到3纳米及更先进节点,CCP累计装机超5000反应台,ICP累计装机达1800反应台 [3] - **薄膜沉积设备**:2025年LPCVD营收同比大增约224.23%,累计出货超300个反应台,多款LPCVD、ALD设备获复购订单,硅和锗硅外延EPI设备已交付客户进行量产验证 [1][3] - **量检测设备**:旗下超微公司规划覆盖多款产品 [1][3] - **MOCVD设备**:用于氮化镓基LED外延生产的设备已在行业领先客户生产线上大规模量产 [3] 研发与产能布局 - 公司持续加大研发投入,2025年研发费用为37.44亿元,同比增长52.65%,占营收比例达30.23% [2] - 在先进制程设备研发上取得进展:60比1超高深宽比刻蚀设备量产提升,下一代产品已完成实验室研发;针对存储器的钨系列薄膜产品获重复订单;应用于先进逻辑器件的ALD金属栅系列产品已完成多个客户验证 [4] - 公司积极进行产能布局,已在南昌、上海临港、广州、成都等多区域建设生产基地,当前厂房面积45.3万平方米,预计2030年增加至85万平方米 [4] - 2025年公司人均年销售已超450万元 [4] 财务预测与估值 - 报告调整了公司2026-2027年盈利预测:预计2026年营收161.36亿元(同比增长30.29%),归母净利润32.43亿元(同比增长53.60%);预计2027年营收207.65亿元(同比增长28.69%),归母净利润43.25亿元(同比增长33.37%) [5][11] - 基于预测,2026年每股收益(EPS)为5.17元,2027年为6.90元 [5][11] - 报告采用市盈率(PE)估值法,给予91.4倍2026年预测PE,高于可比公司2026年Wind一致预期PE均值61.9倍,理由包括公司刻蚀订单饱满、薄膜等新产品进展快以及向平台化公司迈进 [5][13]