上海微电子中标光刻机采购项目 - 上海微电子装备（集团）股份有限公司中标科学技术部LGGJ实验室的步进扫描式光刻机采购项目，设备数量为一台，成交金额为10999.985万元（约1.1亿元）[1][5][8] - 该步进扫描式光刻机型号为SMEE SSC800/10，具备高分辨率光学成像能力（分辨率≤110nm）和优异的套刻精度（≤15nm）[8][10] - 该技术适用于0.25μm以下的制造工艺，尤其在0.18μm节点及更先进工艺中广泛应用，可满足高密度神经电极阵列对极细线宽和高对准精度的苛刻工艺要求[9][10] 市场反应与公司关联 - 受中标消息刺激，张江高科股价午后直线拉升，一度暴涨超8%，收盘涨幅达4.81%[1][9] - 张江高科通过全资子公司上海张江浩成创业投资有限公司持有上海微电子股份[8] 上海微电子技术与产品概况 - 上海微电子是国内目前唯一具备先进前道光刻机研发与制造能力的企业，其最新机型性能指标为分辨率≤110nm、套刻精度≤15nm[11] - 公司光刻设备产品线包括SSX600系列、SSB500系列、SSB300系列步进光刻机以及SSB200系列曝光机，广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板等多个制造领域[11] - 其中SSX600系列步进扫描投影光刻机可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求，可用于8寸或12寸产线[12] 行业国产化进程与展望 - 今年以来光刻机国产化不断提速，例如上海芯上微装科技股份有限公司自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200）已于今年11月完成出厂调试并发往客户[3][12] - 光刻机技术的突破将带动上游光刻胶、光学部件等“卡脖子”材料的国产化进程，并带动精密机械等配套产业升级[3][12] - 半导体设备是产业链基石，随着AI大模型驱动存储技术向3D化演进，叠加国内存储大厂扩产项目落地，国产半导体设备产业链有望迎来新一轮高速增长机遇[12]