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光刻技术自主可控
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【明日开幕】200+企业齐聚合肥,共建光刻产业新生态 | 2025势银(第五届)光刻产业大会(PRIC 2025)
势银芯链· 2025-07-08 10:01
会议概况 - 会议名称:2025势银(第五届)光刻产业大会,主办单位为势银(TrendBank),协办单位为深圳市半导体与集成电路产业联盟,承办单位为势银芯链 [24] - 会议时间:2025年7月9日-10日,地点为合肥新站利港喜来登酒店,规模300人 [24][31] - 会议聚焦极紫外光刻(EUV)、电子束光刻、纳米压印等前沿技术,并探讨光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化现状与技术瓶颈 [25] 会议议程 - **7月9日上午**:先进光刻技术与产业发展专场,议题包括高性能芯粒异构集成技术、纳米压印/电子束/DSA技术、混合键合应用等,演讲嘉宾来自中科芯、南开大学、复旦大学等 [8][10] - **7月9日下午**:光刻胶与湿电子化学品专场,涵盖CAR光刻胶、聚酰亚胺材料、IC光刻胶表征等议题,参与企业包括鼎龙控股、星泰克、安捷伦等 [12][13][14] - **7月10日上午**:材料与装备专场,讨论光刻设备本土化、光刻胶单体质量控制等,演讲方含芯东来半导体、久日新材、集萃光敏所等 [15] 参会企业与嘉宾 - 24家产学研单位确认参会并演讲,包括中科芯、鼎龙、波米科技、永光化学、张江实验室等 [1] - 部分报名企业:陶氏化学、安捷伦、中石化研究院、上海新阳半导体等,覆盖材料、设备、检测全产业链 [17][18][19][20][21][22][23] 会议亮点与背景 - 设置20+产业链嘉宾演讲、圆桌论坛及学术研讨,结合“会+展”形式促进上下游对接 [26][27] - 背景:光刻技术是半导体制造核心环节,但国内高端光刻胶自给率低、湿电子化学品依赖进口,设备领域存在“卡脖子”问题,需加速自主可控 [34][35] 会议费用与报名 - 早鸟价(6月30日前)2600元/人,含会议资料、自助午餐及晚宴;7月1日后调整为2800元/人 [28]
圣泉集团 研发总监 罗华星确认演讲 |(第五届)光刻产业大会(PRIC 2025)
势银芯链· 2025-06-27 16:22
会议核心内容 - 2025势银光刻产业大会将于7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举办,主题涵盖极紫外光刻(EUV)、电子束光刻、纳米压印等前沿技术及光刻胶、湿电子化学品等材料的国产化进程 [6][16][19] - 会议设置三大专场:先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备,覆盖全产业链,预计规模300人 [17][19] - 圣泉集团研发总监罗华星将发表《光刻胶用酚醛树脂的国产化进程》主题报告,其主导项目入选2024年山东省新材料创新应用示范项目 [4][8][9] 会议议程亮点 - 7月9日上午专场聚焦高性能芯粒异构集成技术、纳米压印/电子束/DSA技术方向及混合键合应用,演讲嘉宾包括中科芯、南开大学等机构专家 [12] - 下午专场探讨CAR光刻胶、聚酰亚胺材料、IC光刻胶表征等议题,安捷伦科技、永光化学等企业参与分享 [13] - 7月10日议程涉及掩膜版产业、光刻设备本土化、光敏聚合物检测等,天津久日新材料、上海芯东来半导体等企业代表出席 [14] 行业背景与挑战 - 中国光刻产业面临高端光刻胶自给率低、湿电子化学品进口依赖、掩模版原料受制于人及光刻机技术差距等"卡脖子"问题 [24] - 半导体供应链安全受地缘政治影响,需通过产学研合作加速技术创新,构建自主可控的产业生态体系 [25][26] 参会企业及技术成果 - 圣泉集团为全球秸秆综合利用引领者,主导产品呋喃树脂和酚醛树脂产销规模全球第一,参与神舟飞船、核电站等国家级项目 [8] - 宁波天璇新材料将分享纳米压印胶光刻胶研发进展,河北凯诺中星探讨光刻胶材料开发难点 [12][13] 会议形式与报名 - 采用"会+展"模式,提供产业链对接平台,早鸟报名费2600元/人(6月30日前),含会议资料及餐饮 [20] - 上届会议聚焦"自主可控的光刻材料产业链新生态",本届延续创新驱动主题 [28]
展商推荐丨沉汇仪器:高端材料领域设备供应商 | 2025势银(第五届)光刻产业大会(PRIC 2025)
势银芯链· 2025-06-27 16:22
2025势银光刻产业大会 - 会议将于2025年7月9日-10日在安徽合肥新站利港喜来登酒店举办,规模300人 [16] - 主办单位为势银(TrendBank),协办单位为深圳市半导体与集成电路产业联盟,承办单位为势银芯链 [16] - 会议议程包含光刻胶与湿电子化学品专场、检测与装备专场等多个技术主题 [17][18][19] - 报名费用为2600元/人(6月30日前)或2800元/人(7月1日后),含会议资料、自助午餐和晚宴 [25] 光刻产业现状与挑战 - 光刻技术是半导体制造关键环节,直接影响芯片性能和生产成本 [26] - 国内高端光刻胶自给率低,研发生产技术与国际先进水平存在差距 [26] - 湿电子化学品部分高纯度产品依赖进口,掩模版原料主要依赖进口 [26] - 高端光刻机被国外垄断,国内企业在技术水平等方面存在较大差距 [26] 会议目的与意义 - 旨在汇聚专家学者、企业代表探讨先进光刻技术、材料及设备的最新进展 [27] - 促进产学研用深度融合,加速技术创新和成果转化 [27] - 为产业链上下游企业搭建沟通桥梁,构建完整产业生态体系 [27] - 提升光刻产业整体竞争力,应对全球地缘政治摩擦带来的供应链安全挑战 [27] 参会企业与机构 - 参会企业包括上海沉汇仪器、安捷伦科技、中芯国际、京东方等300余家 [20][21][22][23][24] - 参会人员涵盖研发工程师、销售经理、投资经理等多个职位 [20][21][22][23][24] - 高校与研究机构包括复旦大学、南开大学、中科院化学研究所等 [17][18][19][23] 上海沉汇仪器有限公司 - 公司在高端材料领域积累资深经验,包括Arf/Krf光刻胶、光刻胶树脂等产品 [1] - 与韩国、日本、美国和国内资深研发工程师有亲密合作,可提供实验室全套设备 [2] - 工程师均受原厂培训,可独立进行设备安装、调试、维护和校正 [3] - 公司官网为www.chen-hui.com,地址位于上海市闵行区中春路 [5]
润晶科技 副总经理 乔正收确认演讲 |(第五届)光刻产业大会(PRIC 2025)
势银芯链· 2025-06-25 13:17
会议概况 - 会议名称:2025势银光刻产业大会,主办单位为势银(TrendBank),协办单位为深圳市半导体与集成电路产业联盟,承办单位为势银芯链 [16] - 会议时间:2025年7月9日-10日,地点在安徽合肥新站利港喜来登酒店,规模为300人 [16] - 会议议程分为三大专场:先进光刻技术与产业发展专场、光刻胶与湿电子化学品专场、检测与装备专场 [9][10][11] - 会议将讨论极紫外光刻(EUV)、电子束光刻、纳米压印等前沿光刻技术的最新研究进展与应用前景 [13] - 报名费用:6月30日及之前为2600元/人,7月1日及之后为2800元/人,包含会议资料、嘉宾授权演讲资料、自助午餐和全体晚宴 [18] 会议内容 - 会议将深入剖析光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等光刻材料的国产化现状与技术瓶颈 [13] - 光刻设备作为半导体制造的核心装备,其国产化进程中的关键问题与解决方案将是讨论重点 [13] - 会议设置20+光刻产业链嘉宾演讲,覆盖整个产业链,为产业提供新思考、新展望 [14] - 会议采用学术研讨和会+展形式,促进产学研用深度融合,构建产业互动平台 [17] 润晶科技 - 润晶科技是山东海科集团在湿电子化学品业务板块的重要布局,由镇江润晶、合肥芯科、润晶合肥、润晶重庆四家企业组成 [6] - 公司专注于半导体及新型显示领域的高纯电子化学品研发与生产,产品线涵盖显影液(TMAH)、G5级超净试剂、刻蚀液、剥离剂、复配类产品等,年产能突破33万吨 [6] - 润晶科技为三星、京东方、华星光电、惠科、台积电、长鑫等头部企业提供电子化学品一站式解决方案 [6] - 公司副总经理乔正收将在大会上分享"显示及TGV湿电子化学品应用及挑战"的主题报告 [1][6] 行业背景 - 光刻技术是半导体制造的关键环节,其精度和效率直接决定了芯片的性能、集成度和生产成本 [21] - 国内光刻产业面临诸多挑战:高端光刻胶自给率低,湿电子化学品部分高纯度产品依赖进口,掩模版高端原料主要依赖进口,光刻机被国外垄断 [21] - 在全球地缘政治摩擦加剧的背景下,我国急需加强光刻技术及相关产业的自主可控能力 [22] - 大会旨在促进产学研用深度融合,加速技术创新和成果转化,推动光刻技术及相关产业的升级发展 [22]
波米科技 总经理 杜孟成确认演讲 | 2025势银(第五届)光刻产业大会(PRIC 2025)
势银芯链· 2025-06-19 13:51
会议概况 - 会议名称:2025势银光刻产业大会,主办单位为势银(TrendBank),协办单位为深圳市半导体与集成电路产业联盟,承办单位为势银芯链 [17] - 会议时间:2025年7月9日-10日,地点在安徽合肥新站利港喜来登酒店,规模约300人 [5][17] - 会议费用:6月30日前报名2600元/人,7月1日后2800元/人,含会议资料、自助午餐及晚宴 [18] 会议内容与亮点 - 讨论内容涵盖极紫外光刻(EUV)、电子束光刻、纳米压印等前沿技术,以及光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化现状与技术瓶颈 [14] - 设置三大专场:先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备,覆盖全产业链 [15] - 20+产业链嘉宾演讲,包括学术研讨环节,聚焦光刻技术理论与研发 [15][16] 重点企业及嘉宾 - 波米科技总经理杜孟成将分享《先进封装聚酰亚胺材料及其发展趋势》,该公司是国家高新技术企业,研发投入强度超40%,研发人员占比70%,拥有60余项国家发明专利,率先实现集成电路封装用PSPI国产化量产 [7] - 其他参会企业包括中科芯、京东方、南开大学、矽磐微电子等,涉及光刻胶、湿电子化学品、检测装备等细分领域 [10][11][12] 行业背景与挑战 - 光刻技术是半导体制造关键环节,直接影响芯片性能与集成度,但国内高端光刻胶自给率低,湿电子化学品部分依赖进口,掩模版原料受制于人,光刻机技术与国际差距显著 [22] - 全球地缘政治加剧供应链风险,大会旨在推动产学研合作,加速技术转化,构建自主可控的产业生态 [23]