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台积电真正的瓶颈显现
半导体行业观察· 2025-12-18 09:02
台积电先进制程产能与策略 - 为满足AI GPU与CSP自研ASIC的庞大需求,台积电正加速进行产能优化与制程重配置,策略包括将台中Fab 15的7纳米旧产能及台南Fab 18的5纳米产线转进3纳米制程 [1] - 2026年多数高阶AI芯片将全面导入3纳米或其强化版本,例如辉达VR系列、AWS Trainium 3、Google TPU等 [1] - 比起先进封装产能,3纳米制程才是2025年真正的产能瓶颈,公司通过优化与转换既有产线来提升资本使用效率,而非单纯依赖新厂扩建 [1] - 台积电预计2纳米制程将于2025年开启,其产能已排至2026年底,为满足需求,公司启动三座新生产线建设,预计总投资达286亿美元 [4] - 台积电计划在2026年底将其2纳米月产量提升至10万片,该技术将成为其成长的主要驱动力 [5] 先进封装技术发展 - 台积电CoWoS仍是AI芯片的主流封装方案,预计至2024年底月产能上看12万片 [1] - 封装需求外溢至专业封测代工厂,不仅可纾解短期产能压力,也有助于降低未来封装技术世代更迭风险 [1] - 随着AI芯片设计复杂化,单位晶圆可切割的有效晶粒数下降,放大了对先进制程晶圆的需求,例如辉达Rubin GPU在8倍光罩尺寸下可切割晶粒只有4颗 [2] - CoPoS(Chip on Polymer Substrate)将是2025年技术发展重点,代工龙头预计在2025年第二季建置CoPoS研发实验线,研发预计2027年底完成、2028年进入量产 [2] - CoPoS技术将处理更大的晶圆,机台面积需放大,且因处理良品裸晶粒导致报废成本高,机台复杂度提升很多 [2] 2纳米制程技术竞争与客户需求 - 台积电2纳米制程采用GAA架构,旨在提升效能与效率,与FinFET相比,能在相同功耗下实现10-15%的效能提升,或在特定效能等级下降低25-30%的功耗 [4] - 苹果A20和A20 Pro等芯片组将成为推动台积电2纳米技术普及的主要动力 [4] - 高通、联发科、苹果、超微等众多客户都是2纳米制程的知名用户,但据传苹果为压制竞争对手,已预定了超过一半的初始产能 [5] - 三星已于2024年稍早开始量产其2纳米GAA制程,但与先前的3纳米GAA制程相比,已公布的性能、效率和面积数据并不十分详尽,可能由于良率尚未达到最佳状态 [6]