近日，洪田股份旗下洪镭光学自主研发的应用于半导体掩模版领域的直写光刻机与TGV玻璃基板直写 光刻机顺利下线，完成打包装运并发往订单需求客户。此次下线并交付的掩模版直写光刻机，是一台最 小线宽线距解析能力为2.5μm，对位精度为±2μm的高精度的激光直写光刻设备，可满足客户L/S为3μm 的掩模版产品的量产光刻需求。同时下线并交付客户的另一台直写光刻机，是应用于TGV玻璃基板领 域，最小线宽线距解析能力为6μm，对位精度为±4μm，可满足510mm*515mm尺寸TGV玻璃基板生产需 求的直写光刻设备。 ...

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