Workflow
极紫外光刻 (EUV) 设备
icon
搜索文档
四亿美金光刻机,不如预期
半导体行业观察· 2025-09-30 11:31
公司市场地位与业务现状 - 阿斯麦控股几乎垄断了用于生产数据中心高性能芯片的专用光刻机市场 [1] - 公司美国存托凭证在过去一年上涨了11% [1] - 公司面临的主要问题是其最新的极紫外光刻设备大客户数量有限,且台积电在先进芯片制造领域占据主导地位 [1] 新一代高数值孔径EUV技术 - 阿斯麦正在销售新一代“高数值孔径”EUV机器,每台成本可能超过4亿美元 [1] - 高数值孔径技术可实现单次曝光,从而降低工艺复杂性、缩短周期、提高潜在良率 [2] - 巴克莱分析师预计2026年高数值孔径光刻机出货量仅为三台,低于2025年的五台,大规模应用可能在2028年之后 [2] - 台积电对采用高数值孔径技术持谨慎态度,认为需待技术成熟并能为客户带来最大利益时才会部署 [1] 关键客户动态:台积电与英特尔 - 台积电作为阿斯麦的大客户,相信可以延长其现有EUV光刻机的使用寿命,对高数值孔径设备的高成本表示犹豫 [1] - 英特尔是阿斯麦的一大希望,已购买两台高数值孔径机器,作为其超越台积电战略的一部分 [2] - 英特尔将其高数值孔径机器用于主要研发基地,但未透露大规模生产时间表 [4] - 分析师指出,英特尔成功的关键因素复杂,不仅取决于高数值孔径的采用,还包括良率学习曲线、成本竞争力及获取外部客户的能力 [3] 存储芯片市场的潜在机遇 - 存储芯片行业在采用最新光刻技术方面落后于逻辑芯片行业 [4] - 高带宽内存芯片是AI处理器的必要组件,推动了行业对先进技术的需求 [5] - 韩国SK海力士已组装高数值孔径系统并声称是业内首个实现量产的系统,以满足极端扩展和高密度要求 [5] - 三星电子也已于今年2月采用高数值孔径系统,用于其内存芯片业务和外部客户制造 [5] 行业竞争格局与技术前景 - 芯片制造商的设备升级竞争是阿斯麦业务蓬勃发展的关键 [1] - 阿斯麦表示其所有EUV客户都已承诺采用高数值孔径技术 [2] - 行业分析认为,高数值孔径光刻机最终将成为必需品,但整个行业为其付费的准备过程可能导致投资者需要耐心等待 [5]
ASML,暴跌9000亿
半导体行业观察· 2025-05-29 09:15
ASML市值与行业影响 - ASML市值在不到一年内蒸发逾1300亿美元(约9365亿人民币),从去年7月的4295亿美元跌至2970亿美元 [1] - 市值下跌主因包括美国对华芯片出口限制和特朗普政府威胁征收半导体关税 [1] - 欧洲半导体设备制造商股价普遍下跌,市场担忧集中在美国对华限制和AI领域投资是否过度 [1][2] ASML技术地位与市场挑战 - ASML是全球唯一能生产极紫外光刻(EUV)设备的公司,拥有宽阔护城河 [2] - 无法向中国出口最先进光刻机削弱了潜在销售,预计2025年在华业务占比将低于2023-2024年水平 [2] - 已开始出货下一代高数值孔径(High NA)设备,但台积电明确表示1.4nm工艺不需该设备 [4][5] 台积电技术路线 - 台积电A14工艺基于第二代纳米片环栅晶体管和全新标准单元架构,性能提升15%或功耗降低25-30% [6] - A14晶体管密度较N2提升20-23%,实现"全节点优势"但无需High NA EUV设备 [6][7] - 技术团队创新延长现有EUV寿命,8nm分辨率High NA设备暂非必需,计划2028年量产A14 [7] 行业分析师观点 - 分析师平均目标价779欧元,较当前股价有17%上涨空间 [3] - 富国银行认为ASML对2025-2026年增长机会持乐观态度,特别关注三星和英特尔投资 [3] - 美欧贸易协议若达成可能推动芯片行业复苏 [2]