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等离子体刻蚀(Etch)设备
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“不要内卷,要联合”!中微公司董事长重磅发声:芯片设备业存在15种内卷形式,产业链过分垂直整合带来不公平竞争
每日经济新闻· 2025-09-05 13:51
行业挑战与内卷现象 - 半导体微观加工设备产业面临十大挑战 包括恶性竞争和15种行业内卷表现形式 如现场解剖复制设备 设备商与零部件商不公平条款 利用媒体诋毁竞争者等[1] - 垂直整合垄断尝试指大型芯片制造公司同时涉足芯片制造 设备及关键零部件领域 通过产业链过分垂直整合达到垄断目的[1] 垂直整合的不公平竞争 - 国际芯片制造商与设备商高度分工 芯片制造以台积电 三星 格罗方德为代表 设备商以阿斯麦 应用材料 泛林集团为代表[2] - 国内同样高度分工 芯片制造商包括中芯国际 华虹公司 晶合集成 设备商包括中微公司 北方华创 盛美上海[2] - 垂直整合导致芯片制造厂商担忧技术机密泄露 其他芯片制造公司忌讳购买垂直整合公司的设备[3] - 垂直整合厂商可能通过芯片制造工厂将Know How知识透露给其设备厂商 ASML强调信息安全是全球化工商业基本承诺[4] 国内半导体设备国产化现状 - 去胶设备国产化率达90%以上 基本实现国产化 热处理 刻蚀设备和清洗设备国产化率约20% CMP和PVD设备国产化率约10% 涂胶显影设备正实现从0到1突破[5] - 半导体设备研发需要巨额资金和漫长时间 加工微观纳米结构接近物理极限 需集成50多个学科知识和技术[5] - 微观加工设备开发需要大量研发经费 研发资金可达设备售价的10倍 30倍乃至100倍[5] 行业发展建议 - 应鼓励小型设备公司与规模较大公司合作 降低国内设备产业内耗 促进半导体设备产业健康发展[6] - 中微公司推出六款半导体设备产品 覆盖等离子体刻蚀 原子层沉积及外延等关键工艺 展示技术硬实力[6]