核心业绩表现 - 2025年全年营业收入约123.85亿元，同比增长约36.62% [1] - 归属于母公司所有者的净利润约21.11亿元，同比增长约30.69% [1] - 基本每股收益为3.40元，同比增长30.19% [6] - 加权平均净资产收益率为9.98%，同比增加1.37个百分点 [6] 收入结构与增长驱动 - 刻蚀设备是核心收入来源，2025年销售额约98.32亿元，同比增长约35.12%，占全年营收比重约79% [4] - 薄膜设备（LPCVD和ALD）销售额约5.06亿元，同比增长约224.23%，成为高速增长的新亮点 [3][4] - 业绩增长由核心刻蚀设备规模扩张与新品类的快速放量共同驱动 [3] 研发投入与技术突破 - 2025年研发总投入约37.44亿元，同比增长约52.65%，占营业收入比例达30.23% [1][5] - 研发费用为24.75亿元，同比增长约74.61% [5] - 公司主动选择以牺牲短期利润换取技术积累，研发投入大幅增加是净利润增速低于营收增速的主要原因之一 [5] - ICP刻蚀设备的加工精度和重复性已达到单原子水平，标志着技术突破进入新阶段 [3] - 针对先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺以及先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺，均实现了稳定可靠的大规模量产 [4] 市场地位与运营数据 - 至2025年底，公司累计已有超过7，800个反应台在国内外170余条客户芯片及LED生产线全面量产 [4] - 刻蚀设备反应台全球累计出货超过6，800台 [4] - LPCVD设备累计出货量突破三百个反应台，设备性能据称已完全达到国际领先水平 [4] - 公司在南昌约14万平方米以及上海临港约18万平方米的生产和研发基地均已投入使用，支撑规模扩张 [7] 新产品与业务拓展 - 在刻蚀和薄膜设备之外，正积极布局外延设备（EPI）和化合物半导体领域（MOCVD） [7] - EPI设备方面，减压外延设备已付运至客户进行量产验证，常压外延设备已完成开发进入工艺验证阶段 [7] - MOCVD设备方面，持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位，新型八寸碳化硅外延设备及新型红黄光LED应用设备已付运至国内领先客户开展验证 [7] - 多款Micro-LED及显示领域专用MOCVD新产品亦进入客户端验证阶段 [7] - CDP产品部门为先进存储和逻辑器件开发的十多款导体和介质薄膜设备已顺利进入市场 [4]