行业论坛信息 - 第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开，由亚化咨询主办 [2] - 论坛将汇聚行业领军企业与专家，探讨下一代光刻技术方向、中国光掩模与光刻胶产业的技术进展、市场机遇与挑战 [5] - 会场外设有精品展位，并开放多种赞助合作形式，包括主题演讲、联合主办、晚宴赞助、广告宣传等 [7][10] 行业技术发展趋势 - 半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术成为焦点，主要方向包括高数值孔径极紫外光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装和X射线光刻等 [3] - 2026年，高NA EUV光刻技术已进入高容量制造阶段，而纳米压印光刻和X射线光刻作为潜在颠覆者正加速研发 [3] - 论坛报告议题涵盖光刻材料前沿进展、人工智能驱动创新、电子束光刻胶、EUV光刻胶技术、数字光学微纳加工、定向自组装技术及光刻胶成膜树脂产业化挑战等前沿领域 [6][7] 全球及中国光掩模市场 - 全球半导体光掩模版市场从2018年的40.4亿美元增长至2024年的51亿美元，年复合增长率达4.0% [3] - 预计到2030年，全球光掩模版市场规模将扩大至约80亿美元 [3] - 全球市场由Photronics、日本凸版和大日本印刷三大企业主导，合计市场占有率超过70% [3] - 亚化咨询预计2026年中国光掩模版市场规模有望达到100亿元，预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元 [3][4] - 亚化咨询研究认为中国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右 [3] - 中国市场本土企业如路维光电、清溢光电、龙图光罩等正在提升竞争力并在国产化替代方面取得突破 [3] 中国光刻胶产业发展 - 在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发并取得核心突破，例如南大光电已实现ArF光刻胶量产 [4] - 国内光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等在研发和生产方面取得显著进展 [5] - 国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石和国科天骥 [5] - 国内光掩模与光刻胶产业发展正在提速，技术进步是重要推动力 [5]

以下文章来源于半导体前沿 ，作者亚化咨询 半导体前沿 . 半导体与材料：集成电路 (IC)、大硅片、晶圆制造、先进封装；市场、项目、技术、设备、产业园区。 - 来自 彤程，龙图光罩，SEMI，复旦大学，南开大学，暨南大学，苏州实验室，上海光源，欣奕华，中电科48所，安捷伦，湖北菲利华，新维度微纳，四川大学， 优尼康 等单位的专家将作精彩报告 - 第3届光掩模与光刻胶技术论坛 将于 2026年4月24日 在 上海 召开 — 论坛信息 — 名称 ： 第3届光掩模与光刻胶技术论坛 时间 ： 2026年4月24日 地点 ：上海 主办方 ： 亚化咨询 — 会议背景 — 随着半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光 刻、电子束光刻、定向自组装（DSA）和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年，高NA EUV已进入高容量制造阶 段，而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者，正加速研发。 进入2026年，中国对高端光掩模的需求持续强劲增长，但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依 ...

下一代光刻技术发展趋势 - 随着半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术成为行业焦点，主要方向包括高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装和X射线光刻等 [7] - 这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量，其中高NA EUV在2026年已进入高容量制造阶段，而纳米压印光刻和X射线光刻作为潜在颠覆性技术正加速研发 [7] 全球及中国光掩模版市场 - 全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元，年复合增长率为4.0%，预计到2030年市场规模将扩大至约80亿美元 [7] - 中国市场方面，亚化咨询预计2025年第三方掩模版市场规模占比约为70%，2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元 [7] - 全球光掩模版市场由Photronics、日本凸版和大日本印刷三大企业主导，市场占有率超过70% [7] - 中国本土企业如路维光电、清溢光电、龙图光罩等正在不断提升市场竞争力，并在国产化替代方面取得突破 [7] 中国光刻胶产业发展 - 在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程并取得核心突破，例如南大光电已实现ArF光刻胶量产 [8] - 国内光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等在研发和生产方面取得显著进展 [8] - 国内领先的光刻胶新锐企业还包括2022年成立的珠海基石和2019年成立的国科天骥 [8] - 国内光掩模与光刻胶产业发展正在提速，技术进步是产业发展的主要推动力 [8] 行业会议与活动 - 第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开，由亚化咨询主办 [6][8] - 会议将汇聚行业领军企业及机构专家，探讨下一代光刻技术发展方向、中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用、市场机遇与挑战以及产业发展前景 [8] - 会议将邀请来自彤程、龙图光罩、SEMI、复旦大学、南开大学、暨南大学、苏州实验室、欣奕华、上海光源、中电科48所、安捷伦、湖北菲利华、新维度微纳、卫利等单位的专家作报告 [6] - 会议提供多种合作形式，包括企业主题演讲、联合主办、晚宴赞助、广告宣传、茶歇赞助、礼品赞助等，并设有精品展位 [11][13][14]