政策支持 - 广州开发区、黄埔区发布《支持集成电路产业高质量发展若干政策措施》，鼓励发展光掩模、电子气体、光刻胶、抛光材料、高纯靶材等高端半导体和传感器制造材料 [1] - 政策支持光刻、清洗、刻蚀、离子注入、沉积等设备、关键零部件及工具国产化替代 [1] - 积极引进国内重点基础材料企业，稳步提升关键基础材料供应能力 [1] 资金扶持 - 对于新引进的固定资产投资1000万元以上的产业化项目，且政策有效期内实现小升规的企业，按照不超过其设备和工器具投资额的15%分档给予扶持 [1] - 最高扶持金额可达1000万元 [1]

光掩模技术概述 - 光掩模是芯片生产的关键材料，作用是将纳米级电路图案转移到硅片或基板上，实现芯片和平板显示器的批量化生产 [1] - 在半导体制造中，光掩模相当于照相机的底片，7nm制程芯片内部集成超过100亿个晶体管，每个晶体管尺寸仅相当于流感病毒的1/200 [2] - 一块先进制程芯片制造需要80-100层不同图案的掩模版叠加，任何一层的微小误差都可能导致整个晶圆报废 [2] 光掩模产业链 上游 - 以高纯度石英玻璃为核心，辅以光刻胶、铬膜等材料，全球90%高端石英基板被日本东曹、信越化学垄断 [4] - 单张G11代掩模基板价格超过5万美元，激光直写光刻机单价高达3000万美元，电子束光刻机突破1亿美元 [4] 中游 - 掩模版制造呈现"金字塔"结构，顶端是台积电、三星等晶圆厂自建的高端产线 [4] - 日本DNP、Toppan和美国Photronics三大巨头占据85%市场份额 [4] - 中国厂商清溢光电、路维光电等主要聚焦中低端市场，正在向28nm制程突破 [4] 下游 - 覆盖半导体、显示面板、电路板等多个领域，一部智能手机涉及20余块不同功能的掩模版 [4] - 光掩模在IC领域需求占比达60%，LCD领域占比23% [4] 市场格局与前景 半导体领域 - 芯片制程微缩需要更多层、更精密的掩模版，AI芯片需求爆发推动7nm以下掩模版年增速超25% [9] - 智能汽车推动车规级芯片需求，要求掩模版在-40℃-150℃保持稳定性 [9] - 预计2025年全球半导体掩模版市场规模将达60亿美元 [9] 显示技术领域 - OLED、LTPO、MicroLED等新型显示技术要求掩模版精度更高、层数更多 [9] - 传统LTPS屏幕需要9-13层掩模版，LTPO技术需要13-17层 [9] - 中国占全球面板产能超60%，预计2030年全球平板显示掩模版市场规模达13.2亿美元 [9] 国产替代 - 高端领域国产化率非常低，显示高端约12%，半导体高端仅约3% [10] - 在中美科技竞争和供应链安全背景下，实现掩模版自主可控具有重要战略意义 [10] 重点公司分析 清溢光电 - 国内成立最早、规模最大的掩膜版生产企业之一，主营业务为制作高精密度掩膜版和精密设备 [11] - 主要产品包括石英掩膜版、苏打掩膜版、凸版和菲林 [12] - 全球第五家、国内首家8.6代及以下TFT-LCD及AMOLED用掩膜版自主知识产权和生产制造厂家 [12] - 2024年营收11.12亿元，同比增长20.35%，归母净利润1.7亿元，同比增长28.8% [12] - 2019-2024年营收及归母净利润CAGR分别达18.32%和19.66% [12] - 2023年全球平板显示掩膜版市占率11%，位列全球第五、国内第一 [13] - 拟募集资金不超过12亿元用于"高精度掩膜版生产基地建设项目一期"和"高端半导体掩膜版生产基地建设项目一期" [16] 龙图光罩 - 主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售，是国内独立第三方半导体掩模版厂商之一 [17] - 产品工艺节点从1μm提升至130nm，广泛应用于功率半导体、MEMS传感器等领域 [17] - 已掌握130nm及以上节点半导体掩模版制作的关键技术 [20] - 与中芯集成、士兰微、积塔半导体、华虹半导体等国内主流晶圆厂达成稳定合作 [22]

行业概述 - 全球及国内晶圆生产线持续扩张，为半导体掩膜版行业带来显著增长机遇，新能源汽车、消费电子等下游领域技术革新加速了半导体掩膜版的更新换代需求 [2] - 半导体光掩模市场呈现美日企业高度垄断局面，2022年晶圆厂自有配套掩模版工厂占据66%市场份额，剩余市场由日本Toppan、美国Photronics、日本DNP等国际巨头掌控 [2] - 掩模版生产所需的基材、石英基板、光刻胶及光学膜等关键材料同样被国外企业垄断 [2] 国产替代与市场前景 - 国际贸易紧张和半导体产业逆全球化背景下，加速国产替代已成为国家战略重点 [3] - 中国光掩模制造业在中低档产品市场已取得进展，国内企业需增强研发实力以在全球市场占据更有利地位 [4] - 2020年上半年中国集成电路产品进口额达1546.1亿美元，远超本土销售额3539亿元人民币，凸显半导体材料国产替代空间巨大 [11] - 路维光电预计未来3-5年国内平板领域光掩模市场空间接近100亿元，当前国产化率约20% [11] 光掩模产业链与技术特性 - 光掩模在微电子制造中扮演图形转移母版角色，是平板显示、半导体、触控及电路板等行业生产的关键材料，其精度与质量直接影响下游产品良品率 [5] - 根据基板材料不同，掩模版可分为石英掩模版、苏打掩模版及其他类型，分别应用于平板显示、半导体、触控及电路板制造等领域 [5] - 光掩模行业具有逆面板周期特性，面板行业上行时掩模版销售额下滑，下行时因厂商加大新品开发带动需求增长 [5] - 产业链分为上游供应（基板、光学膜等）、中游制造及下游应用（消费电子、车载电子、物联网等）三大环节 [6] 市场数据与竞争壁垒 - 全球光掩模市场规模逐年增长，2022年达52亿美元，中国市场规模从2019年74.12亿元增至2023年124.36亿元，2024年上半年达71.23亿元 [8] - 行业进入壁垒高，设备单价在几千万到上亿元不等，且全球设备生产数量有限导致购买竞争激烈 [8] - 掩模版行业为技术密集型和资金密集型，国内人才稀缺且培养周期长 [8] 主要上市公司表现 - 清溢光电（688138）2024年营收11.12亿元（同比+20.35%），归母净利润1.72亿元（同比+28.49%），2025年Q1营收2.99亿元（同比+9.83%） [12][13] - 路维光电（688401）2024年营收8.76亿元（同比+30.21%），归母净利润1.91亿元（同比+28.27%），2025年Q1营收2.6亿元（同比+47.09%） [15] - 龙图光罩（688721）2024年营收2.47亿元（同比+12.92%），归母净利润9183万元（同比+9.84%），2025年Q1营收5436.74万元（同比-8.97%） [17]

光刻技术发展中的关键挑战 - EUV光刻掩模成本高昂，制造、维护和更换的总费用显著高于非EUV掩模，且生命周期内价格差异巨大[1] - 非EUV光刻面临旧工具折旧问题，引入新工具将导致每小时掩模成本增加500美元，对低产量零件和价格敏感市场造成困扰[1] - EUV掩模寿命短于DUV或浸没式光刻掩模，需频繁清洁和备用掩模，进一步增加总成本[3] - EUV扫描仪需要更高剂量以实现最佳图案印刷，导致实际吞吐量低于规格，每小时处理晶圆数量线性减少[3] - 专用EUV掩模检测工具昂贵且使用频率低，每次使用成本高，推高整体掩模成本[4] - 循环时间成为比成本更大的问题，缩短原型制作和交付新设计时间是EUV扩大用户群的关键[4][5] EUV与非EUV的应用策略 - 新AI芯片开发倾向于在更便宜的193i节点验证，而非直接从EUV节点开始，待产量提升后再考虑EUV[2] - EUV主要用于大批量或极高价值产品，行业已接受其高掩模成本[2] - 非EUV前沿节点面临与EUV相似的挑战，公司需在预算和光刻限制间寻找平衡[2] - 曲线掩模等技术同时适用于EUV和非EUV光刻，帮助提升图形质量以保持竞争优势[2] - 内存行业因吞吐量考虑不使用薄膜，但需承担更频繁清洁和备用掩模的成本[3][14] 多重曝光技术的必然性 - EUV未来必然需要多重曝光技术，高数值孔径(high-NA)将使用多重曝光避免超高数值孔径需求[6] - 目前所有大批量生产节点采用单次曝光EUV，但研发中公司都在为下个节点研究EUV多重曝光[7] - 英特尔明确将在14A节点使用高NA EUV，因单次曝光无法满足规格要求[7] - 多重曝光技术可延长EUV寿命，半场高NA在成本上难以与多重曝光EUV竞争[7] - 早期EUV生产实施可能已是双重曝光接触层，因当时抗蚀剂不足支持单次曝光[8] 掩模材料与工艺演进 - EUV掩模从二元反射型演进至衰减型/低折射率反射型，改善图像对比度和减少晶圆图案问题[10] - 研究不同n和k值掩模材料以优化特定图案性能，选择性匹配吸收体特性可获更好成像效果[10] - 金属氧化物抗蚀剂比传统CARs具有更高对比度和更好耐蚀性，尤其适用于接触层和柱层[10][11] - 掩模空白特性定制化(如吸收体厚度调整)是扩大晶圆工艺裕度的重大机会[11] - 锡基外的新元素(如碲、锑)抗蚀剂研究旨在通过新化学方法获得更高EUV吸收[12] EUV薄膜的挑战与改进 - EUV薄膜面临传输率和耐用性双重挑战，光需两次穿过薄膜导致20%能量损失[14][15] - 当前多晶硅薄膜反射DUV光需特殊DGL膜过滤，额外造成20%吞吐量损失[15] - 碳纳米管薄膜对DUV反射少且EUV传输率更高，但当前仅能承受不到1万次晶圆曝光[15] - 薄膜更换需重新检查掩模，过程昂贵复杂且缺乏标准化，影响吞吐量和掩模管理[16] - 大芯片(如800平方毫米GPU)需薄膜避免致命缺陷，而内存应用可依赖冗余功能[16]

报告核心观点 - 截至2025年5月18日部分行业景气度数据有变动，本周部分行业呈上行或下行趋势，投资主线可降维为科技AI+、消费股估值修复与消费分层复苏、低估红利崛起三个方向；光掩模全球市场规模增长但国内产业链落后，国产替代需求旺盛；医药CXO板块2024年受基数影响业绩承压，2025年Q1利润快速修复；部分公司如爱柯迪、东方电缆等业绩有增长，给出相应盈利预测与评级；印巴空战凸显国产雷达装备实力；META 2025Q1业绩超预期并上调全年Capex指引 [2][3][5][11][13][19][20] 各报告总结 策略|中观景气度高频跟踪及运用 - 截至2025年5月18日，机械设备氩气(液体)出厂价700.0元/吨，周环比降2.78%；电子DDR3DRAM(4Gb)现货平均价1.02美元，周环比升7.28%；医药生物维生素A(50万IU/g)市场报价70.0元/千克，周环比降4.11%；建筑材料二苯基甲烷二异氰酸酯价格17900.0元/吨，周环比升3.47%，玻璃期货结算价1016.0元/吨，周环比降3.05% [2] - 本周石油石化、建筑材料等行业整体呈上行趋势，电力设备、机械设备等行业整体呈下行趋势 [2] - 行业配置建议重视恒生互联网，5月关注“逆特朗普交易”缓和迹象，投资主线为科技AI+、消费股估值修复与消费分层复苏、低估红利崛起 [2] 电子|光掩模：高壁垒材料，国产化率低，下游新应用打开成长新空间 - 光掩模是微电子制造关键材料，全球市场规模从2012到2022年逐年增长，2022年达52亿美元 [3] - 国内光掩模产业链落后，上游设备和原材料依赖进口，中游大尺寸和高精度掩模版依赖进口，下游需求增长驱动行业发展 [3] - 半导体光掩模市场被美日企业垄断，国产替代需求旺盛，国内公司可通过收购并购、增强研发实力追赶海外厂商 [3] 医药|医药行业2024年报&2025一季报——CXO板块 - 2024年CDMO板块整体营业收入831.91亿元，同比降2.92%，归母净利润140.44亿元，同比降15.05%；2025年Q1营业收入208.91亿元，同比增11.35%，归母净利润49.87亿元，同比增65.48% [5] - 2024年CRO板块整体营业收入165.36亿元，同比降7.22%，归母净利润5.17亿元，同比降78.88%；2025年Q1营业收入36.72亿元，同比降5.75%，归母净利润3.12亿元，同比增104.57% [5] - 高基数影响逐渐消除，订单驱动板块有望加速，药明康德在手订单同比增47.1%，泰格医药新增合同金额同比增速20% [8] 汽车|爱柯迪（600933）：24年业绩高速增长，25Q1归母净利润显著提升 - 2024年公司营收67.46亿元，同比增13.24%，归母净利润9.40亿元，同比增2.86%；2025年Q1营收16.66亿元，同比增1.41%，归母净利润2.57亿元，同比增10.94% [11] - 创新势能加速释放，全球化布局上新台阶，产能建设全面落地，战略布局稳步推进 [11] - 小幅上调盈利预测，预计2025 - 2027年归母净利润12.63/15.22/17.99亿元，维持“买入”评级 [11] 电新|东方电缆（603606）在手海缆订单创新高，出口贡献业绩新增量 - 2025年Q1营业收入21.47亿元，同比增63.83%，归母净利润2.81亿元，同比增6.66% [13] - 2025年Q1海底电缆与高压电缆高增，欧洲出口收入开始贡献业绩，在手订单创新高 [13] - 调整2025、2026年归母净利润至17.0、24.0亿元，预计2027年实现归母净利润27.4亿元，维持“买入”评级 [13] 中小市值|周观点：印巴空战展现国产雷达装备实力，重点推荐纳睿雷达！ - 印巴冲突中，国产相控阵雷达助力巴军空战占优势，凸显其在空战中的关键作用 [19] - 纳睿雷达组建X波段双极化有源相控阵雷达天气观测网，国产雷达军事成功有望拓展海外市场，为相关行业发展提供基础和空间 [19] - 纳睿雷达紧抓空管设备国产化趋势，收购公司强化芯片级设计能力，受益于低空经济政策和机场需求，中长期增长空间乐观 [19] 海外|META2025Q1业绩点评——收入利润双超预期，上调全年Capex至640亿 - 720亿美元 - Q2收入指引符合预期，收入达423亿美元，同比增16%，营业利润176亿美元，营业利润率41.5% [20] - 上调全年Capex指引至640 - 720亿美元，下修Opex指引，AI持续赋能核心业务，货币化率明显提升 [20] - 看好Meta作为率先跑通AI商业模型且降本增效的公司，今年被给予更高估值溢价 [20] 许继电气（000400）：特高压在手订单充足，海外业务持续拓展 - 2024年营收170.89亿元，同比增0.17%，归母净利润11.17亿元，同比增11.09%；2025年Q1营收23.48亿元，同比降16.42%，归母净利润2.08亿元，同比降12.47% [28] - 2024年各业务板块有不同表现，未来业绩增长点在于特高压在手订单充足和海外市场拓展 [29][30] - 调整2025 - 2027年营业收入和归母净利润预测，维持“买入”评级 [31] 东方电子（000682）：国内稳步增长，海外市场加速突破 - 2024年营收75.45亿元，同比增16.47%，归母净利润6.84亿元，同比增26.34%；2025年Q1营收14.06亿元，同比增10.04%，归母净利润1.21亿元，同比增19.22% [32] - 2024年各业务板块有不同表现，2025年国内业务稳步进行，海外市场有望加速开拓 [33][34] - 调整2025 - 2027年营业收入和归母净利润预测，维持“买入”评级 [34] 盛弘股份（300693）：AIDC提供新增长点，充电桩&储能持续布局出海 - 2024年营收30.36亿元，同比增14.53%，归母净利润4.29亿元，同比增6.49%；2025年Q1营收6.04亿元，同比增0.87%，归母净利润0.73亿元，同比增9.87% [35] - 2024年新能源业务拖累增速及盈利能力，AIDC带动电源业务增长，未来在储能、充电桩、工业配套电源方面有发展规划 [37][38] - 调整2025 - 2027年营业收入和归母净利润预测，维持“买入”评级 [39] 雷赛智能（002979）：未来三年业绩CAGR有望达25%，股权激励彰显信心 - 5月16日发布限制性股票激励计划草案，激励对象292人，授予价格25.3元/股，授予股数290万股 [40] - 公司业绩考核有目标值和触发值，预计限制性股票授予部分摊销费用3369.24万元 [41] - 主业加大研发投入优化产品结构，布局人形机器人领域，调整2025 - 2027年营收和归母净利润预测，维持“买入”评级 [42][43] 布鲁可（00325）：即将纳入恒生综指，加速上新，全年拟落地2万场BFC创作赛 - 布鲁可即将纳入恒生综指，6月9日生效，有利于增加流动性和提升板块交易情绪及估值中枢 [47] - BFC创作赛已走进近120城，线上线下赛事热度攀升，2025年计划落地近20000场线下赛事 [48] - 4月以来陆续上新多个热门IP积木，维持盈利预测和“买入”评级 [50][51] 华利集团（300979）：On业绩超预期，华利客户卡位优势显现 - 客户On FY25Q1收入7亿瑞士法郎同比增40%，净利0.6亿瑞士法郎同比降38%，上调全年指引 [53][54] - On业绩靓丽利好公司订单预期，反映公司客户挖掘及卡位能力，当前订单饱满，关注关税进展 [54] - 维持盈利预测和“买入”评级 [55] 半导体：光掩模：高壁垒材料，国产化率低，下游新应用打开成长新空间 - 光掩模是关键材料，国内产业链落后，全球市场规模增长，行业呈现逆面板周期属性 [59][60] - 半导体光掩模市场被美日企业垄断，国产替代需求旺盛，国内公司可借鉴海外龙头发展路径 [60][61] - 建议关注清溢光电、路维光电等公司 [61][62] META 2025Q1业绩点评：收入利润双超预期，上调全年Capex至640亿 - 720亿美元 - 营收净利润超预期，Q2收入指引符合预期，分业务FoA营收增长，RealityLabs业务收入下降 [64] - AI持续赋能核心业务，货币化率提升，上调全年Capex指引并下修Opex指引 [65][66] - 看好META在AI加持下核心业务增长，给予更高估值溢价 [66]

光掩模行业概述 - 光掩模是微电子制造过程中的图形转移母版，广泛应用于平板显示、半导体、触控电路板等行业，其精度和质量直接影响下游制品的优品率 [2] - 全球光掩模市场规模逐年增长，2022年达到52亿美元 [2] - 光掩模产业链分为上游供应、中游制造和下游应用三个环节，目前国内产业链整体处于较落后位置 [2][28] 光掩模技术发展 - 光掩模由基板和遮光膜组成，石英玻璃因其化学性能稳定、光学透过率高已成为主流基板材料 [7] - 根据基板材料不同可分为石英掩模版、苏打掩模版等，其中石英掩模版主要用于平板显示和半导体制造 [9][12] - 生产工艺流程包括CAM图档处理、光阻涂布、激光光刻、显影、蚀刻等十余个精密步骤 [17][19][21] - 技术从早期的接触式光刻发展到现在的EUV光刻，掩模版也经历了五代技术迭代 [25][26] 市场格局与竞争 - 半导体光掩模市场被美日企业垄断，英特尔、三星等晶圆厂自供占65%，其余主要被Photronics、DNP、Toppan三家公司占据 [3][42] - 在平板显示掩模版领域，2022年全球前五企业为福尼克斯、SKE、HOYA、LG-IT和清溢光电 [44][47] - 国内企业如清溢光电、路维光电等已在部分领域实现突破，但高端市场仍依赖进口 [35][43] 下游应用分析 - 半导体领域是光掩模最大应用市场，占比达60%，LCD领域占比23% [31][37] - 面板用掩模版呈现逆周期属性，在面板下行周期反而可能因新品开发需求增加而增长 [3][58] - FMM(精细金属掩模版)是AMOLED面板制造核心材料，目前被日企DNP垄断95%市场份额 [76][89] 国产化进展 - 国内掩模版产品与国际竞争对手的差距正在逐步缩小，新品推出时间差缩短 [44] - 清溢光电已实现250nm工艺节点半导体芯片用掩模版量产，正在推进180nm产品认证 [124] - 路维光电产品集中在300nm/250nm制程节点，逐步向更先进制程发展 [124] - 在FMM领域，国内企业如寰采星科技已建成首条6代量产线，打破DNP垄断 [91]

市场表现 - A股整体窄幅震荡 主要宽基指数涨跌不一 房地产 综合 环保 国防军工 社会服务等板块涨幅居前 [1] - 科创半导体ETF（588170）今日涨超1.3% 成分股中富创精密 华海诚科 金宏气体 芯源微 有研硅 沪硅产业 中科飞测等涨幅居前 [1] 半导体行业 - 光掩模是微电子制造过程中的图形转移母版 为平板显示 半导体 触控 电路板等行业的关键材料 [1] - 半导体光掩模市场被美日企业垄断 国产替代需求旺盛 [1] - 半导体设备和材料行业是国产替代重要领域 具备国产化率较低 国产替代天花板较高属性 受益于人工智能革命下的半导体需求扩张 [2] 海外龙头发展路径 - 海外公司在行业内深耕多年 有充分的know-how经验累积 [1] - 通过收购与并购光掩模相关团队与公司加强技术实力 [1] - 21世纪初在亚洲与中国大陆建立光掩模公司与工厂 受益于面板与半导体产能向中国大陆转移 [1] 国内发展建议 - 通过收购与并购 广纳人才 增强研发实力是国内光掩模公司发展的必要途径 [1] - 在面板与半导体产能向中国大陆转移背景下 需把握地缘性优势 追赶海外厂商步伐 [1] 科创半导体ETF - 跟踪上证科创板半导体材料设备主题指数 囊括科创板中半导体设备和半导体材料细分领域的硬科技公司 [2]

行业现状与竞争格局 - 国内光掩模产业链处于较落后位置，上游设备、原材料主要依赖国外进口，中游市场份额被日韩等国际竞争对手占据，中国内地企业仅占较小份额 [2] - 2019年半导体芯片掩模版市场中，英特尔、三星、台积电等晶圆厂自配套工厂占据65%份额，其余被美国Photronics、日本DNP和Toppan垄断 [1][3] - 掩模版基材及其石英基板、光刻胶、光学膜等关键材料同样被国外企业垄断 [3] 市场规模与增长驱动 - 全球光掩模市场规模从2012到2020年逐年增长，2022年达52亿美元 [2] - 下游需求增长驱动行业发展，面板大尺寸化趋势推动掩模版世代演进（G1至G11代） [2] - 面板产能向中国内地转移为本土企业提供地缘优势 [1][4] 行业特性与周期表现 - 掩模版行业呈现逆面板周期属性：面板下行周期中，厂商为保持竞争力加大新品开发，反而带动平板显示用掩模版需求增长 [3] - 2020-2021年面板上行周期中掩模版销售额较2018-2019年下降，印证逆周期特性 [3] 海外龙头发展路径借鉴 - 海外龙头共同点包括：深耕行业积累know-how经验、通过并购加强技术实力、21世纪初在亚洲/中国大陆布局以承接产能转移 [3] - 国内企业需通过收购并购、广纳人才、增强研发实力追赶海外厂商 [1][4] 重点公司标的 - 清溢光电(688138SH)：规模最大国产供应商之一，客户拓展突破 [5] - 路维光电(688401SH)：面板G11代线领跑者，掌握核心技术 [6] - 龙图光罩(688721SH)：半导体掩模版领先厂商，工艺节点覆盖主流需求 [7] - 无锡迪思：华润微旗下企业，技术领先 [8] - 豪雅光学：与京东方合资设立子公司，成长空间大 [9]

报告行业投资评级 - 行业评级为强于大市（维持评级），上次评级同样为强于大市 [2] 报告的核心观点 - 国内光掩模产业链较落后，上游设备和原材料依赖进口，中游市场份额被国外占据，但下游需求增长驱动行业发展 [3] - 面板光掩模呈逆周期属性，IC光掩模国产替代需求旺盛，国内企业应把握地缘优势，通过收购并购增强研发实力追赶海外厂商 [4][5] 根据相关目录分别进行总结 1. 光掩模：设备&技术高门槛，美日厂商占据主流 - 光掩模是泛半导体产业核心材料，由基板和遮光膜组成，依据基板材料和下游应用有不同分类，其精度和质量影响下游制品优品率 [15][17][24] - 光掩模生产工艺流程复杂，光刻技术不断演变，产品也经历了形式发展和技术创新，涌现诸多新技术 [26][31][35] - 光掩模产业链分上中下游，下游半导体领域需求占比最高，国内产业链较落后，上游依赖进口，中游部分产品依赖进口，下游需求增长带动行业发展 [38][41][47] - 光掩模行业设备价格高、技术和客户认证壁垒高，主要供应商以美日大厂为主，中高端市场被国外占据，但国内产品与国外差距逐步缩小 [48][51][60] 2. 面板光掩模较成熟，呈逆周期属性，IC光掩模亟待国产化 - 光掩模中国市场规模逐年增长，国内IC用光掩模玻璃基板需求首次赶超FPD光掩模玻璃基板需求量 [64][65] - 显示面板趋向大尺寸和精细化，掩模版呈逆周期属性，未来精度将日趋细化；面板产能向中国大陆转移，为掩模版行业带来动力，国内平板显示行业对高世代、高精度掩模版需求将持续增长；FMM掩模版是AMOLED面板上游核心材料，海外巨头长期垄断，但我国企业在FMM及其上游原材料领域已有突破 [68][82][112] - 光掩模是第三大半导体制造材料，半导体材料市场规模增速显著，光掩模市场规模有望提升，但半导体光掩模市场被美日企业垄断，国产替代需求旺盛；光刻掩模技术是决定半导体产品技术发展的主要动力；半导体光掩模价格上涨，国内厂商与海外龙头差距仍较大 [117][127][145] 3. 国产化：把握成熟制程，看好先发优势龙头 - 光掩模技术中激光直写技术中国起步晚，电子束光刻与海外有差距 [10] - 海外产业链龙头发展有深耕行业、收购并购、在亚洲和中国大陆布局等共同点，国内企业需把握地缘优势，通过收购并购加快产品技术研发 [5][10] 4. 投资建议 - 建议关注清溢光电、路维光电、龙图光罩、无锡迪思、豪雅光学等公司 [9]

三星电子光掩模生产外包策略 - 公司正评估将低规格光掩模（i线、KrF级）外包给Techsend Photomask和Phototronics Cheonan（PKL）两家外部企业 评估预计2023年第三季度完成 [1] - 外包背景包括内部设备老化停产导致更换困难 且公司认为低规格光掩模外包不会引发重大技术泄露风险 [2] 光掩模技术分类与行业现状 - 光掩模按波长分为四类：i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）、EUV（13.5nm） 后两者用于高精度先进工艺 [2] - 半导体工艺微型化推动光掩模需求激增 逻辑半导体10nm至1.75nm工艺所需掩模从67个增至78个 DRAM掩模需求从30-40个升至60多个 [3] - 2022年韩国光掩模市场规模约7000亿韩元 本土企业产能利用率超90% 中国无晶圆厂需求加剧供应紧张 [3] 资源重新配置与行业影响 - 公司计划将外包节省的内部资源集中投入ArF和EUV光掩模生产 因这两类与尖端半导体技术竞争力直接相关 [3] - 若外包实施 可能扰乱韩国无晶圆厂和代工厂的光掩模采购计划 国内代工企业如DB HiTek或面临获取困难 [4]