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极紫外(EUV)光刻技术
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EUV光刻,重磅突破,全球首次
半导体行业观察· 2025-12-10 09:50
技术突破 - 世界领先的半导体研发机构imec首次成功展示了利用极紫外光刻技术在整片300mm晶圆上制备固态纳米孔的成果 这是实现其低成本大规模生产的关键一步 [2][3] - 该团队将极紫外光刻技术与基于间隔层的刻蚀技术相结合 在300mm晶圆上制备了直径小至约10纳米的高度均匀纳米孔 实现了纳米级的精度和可重复性 [3] - 将纳米孔嵌入氮化硅膜中 并在水性环境中利用DNA片段进行易位实验 证实了其具有高信噪比和优异的润湿性能 验证了对生物材料的传感性能 [3] 技术优势与应用前景 - 固态纳米孔是蚀刻在氮化硅膜上的微小孔洞 宽度仅为几纳米 当浸入液体并连接电极时 单个分子通过可产生可实时分析的电信号 实现无需标记的单分子检测 [2] - 与由脂质膜中蛋白质形成的生物纳米孔相比 固态纳米孔凭借其稳健性 可调控性和与半导体制造的兼容性 克服了稳定性及集成性挑战 成为可扩展 高通量传感的理想选择 [2] - 纳米孔孔径易于调节 应用范围十分广泛 从病毒鉴定到DNA和蛋白质分析均可胜任 是下一代诊断 蛋白质组学 基因组学乃至分子数据存储应用的关键 [2] - 该技术有望实现快速诊断 个性化医疗和分子指纹识别 为医疗保健及其他领域的高通量生物传感器阵列打开了大门 [3][4] 后续开发与规划 - imec目前正在开发一种采用可扩展流体控制技术的模块化读出系统 旨在为相关应用的化学开发提供平台 并邀请生命科学工具开发者使用该平台测试概念和需求 [4] - 在2026年IEEE国际固态电路会议上 将发表论文展示imec开发的概念验证ASIC读出芯片 该芯片为256通道事件驱动读出 在1 MHz带宽内具有193 pArms噪声 以支持下一代定制纳米孔 [4]
阿斯麦(ASML.US)二季度订单55亿欧元超预期,对华出口限制或迎转机
智通财经· 2025-07-16 14:20
公司业绩与订单表现 - 第二季度新增订单规模达55亿欧元(约合64亿美元),显著高于分析师平均预测的48亿欧元 [1] - 预计第三季度净销售额将达74亿至79亿欧元,全年营收有望实现15%的同比增长 [2] 市场地位与技术优势 - 作为台积电、英特尔等半导体巨头的核心设备供应商,凭借独家的极紫外(EUV)光刻技术在AI数据中心建设中占据关键地位 [1] - EUV技术是生产英伟达高端AI芯片不可或缺的环节,此类芯片支撑全球人工智能基础设施 [1] 地缘政治与市场动态 - 中美贸易关系缓和迹象下,英伟达与AMD已恢复部分对华芯片供应,为面临中国市场需求限制的公司带来潜在利好 [1] - 中国曾是第一季度第二大市场,但受美国技术出口管制影响无法出售最先进EUV设备,荷兰政府进一步禁止向华出口浸没式深紫外光刻系统 [1] 行业挑战与竞争格局 - 供应链紧张态势仍构成挑战,英特尔推迟欧洲工厂建设以削减成本 [2] - 三星因AI芯片市场份额下滑出现2023年以来首次利润萎缩,分析师预计其盈利底部即将显现 [2] 资本市场表现 - 截止发稿美股夜盘报800美元,较2023年高点仍下跌约25% [2]