今日早盘，A股小幅震荡上扬，科创50涨逾1%，再度冲击1000点大关，中证500、中证1000均创近3个 月来新高。上涨个股远多于下跌个股，成交略有萎缩的趋势。 泰伯智库发布的《2025年火箭发射服务市场全景深度研究报告》显示，2025年—2030年间，我国卫星发 射需求预计将超过7000颗。 中航证券指出，2025年，伴随多款商业火箭新型号首飞，巨型卫星互联网星座建设有望提速，相关商业 航天板块的上市公司的关注度有望提升，特别是卫星制造板块有望迎来基本面改善叠加估值提升的"戴 维斯双击"。 光刻机概念创历史新高 盘面上，国防军工、光刻机、游戏、人脑工程等板块涨幅居前，镍金属、银行、油气开采、证券等板块 小幅调整。 商业航天迎爆发 国防军工概念股早间继续走强，商业航天领域表现活跃，板块指数单边上扬，放量涨逾2%，创历史新 高。晨曦航空（300581）、博亚精工（300971）均快速20%涨停，国瑞科技（300600）、再升科技 （603601）、能科科技（603859）等逾10股涨停或涨超10%。 地面兵装板块指数再度飙升逾8%，创8年多来新高，军贸概念、军民融合、大飞机、核污染防治等多个 细分板块亦再创历史 ...

光刻技术重要性变化 - 英特尔高管提出"光刻将不再那么重要"的观点引发业界争议 [1] - High-NA EUV光刻机面临滞销，多家芯片巨头对其实用性持保留态度 [1][3] - 随着3D晶体管结构发展，刻蚀技术重要性提升至制造环节50%以上 [7] High-NA EUV光刻机应用现状 - ASML已交付两台TWINSCAN EXE:5000系统，分别由imec和英特尔接收 [1] - 英特尔计划用High-NA EUV开发1.8nm和1.4nm工艺，当前季度产能达30000片晶圆 [4] - 台积电认为High-NA EUV大规模应用需5年以上，A16/A14工艺仍采用标准EUV [5] - 三星推迟DRAM产线应用计划，逻辑芯片领域评估1.4nm工艺2027年量产 [6] 刻蚀技术崛起 - 5nm FinFET工艺中刻蚀次数超过150次 [7] - GAAFET和CFET结构要求"从各方向包裹栅极"，横向材料去除成为关键 [7] - Lam等刻蚀设备公司作用将增强，但光刻机仍保持基础性地位 [8][9] ASML市场表现与技术路线 - 2024年出货418台光刻机（44台EUV/374台DUV），中国大陆贡献36.1%收入（101.95亿欧元） [10] - 正在研发0.75 NA的Hyper NA EUV系统，可提升打印速度和精度 [10][11] - 当前EUV技术预计主导市场10-20年，控制全球75%-80%份额 [13] 新兴光刻技术发展 - EUV-FEL技术可支持10-20台设备并联，美国Xlight公司计划2028年推出原型 [13][14] - Lace Lithography开发原子光刻技术，宣称分辨率领先EUV 15年 [14] - 纳米压印和电子束光刻在小批量高精度领域取得进展 [15][16]