市场整体表现 - A股早盘小幅震荡上扬 科创50指数上涨超过1%并再度冲击1000点大关 中证500和中证1000指数均创近3个月新高 上涨个股数量显著多于下跌个股 成交呈现略有萎缩趋势 [1] - 国防军工 光刻机 游戏 人脑工程等板块涨幅居前 镍金属 银行 油气开采 证券等板块出现小幅调整 [1] 国防军工与商业航天行业 - 国防军工概念股持续走强 商业航天板块指数单边上扬并放量上涨超过2% 创历史新高 晨曦航空和博亚精工均实现20%涨停 超10只个股涨停或涨幅超过10% [2] - 地面兵装板块指数飙升超过8% 创8年多新高 军贸概念 军民融合 大飞机 核污染防治等多个细分板块同步创历史新高 长城军工实现9日7涨停 恒宇信通连续2日20%涨停 [4] - 全球太空经济规模预计到2035年达1.8万亿美元 年均增长率9% 远超全球GDP增速 2050年全球新太空经济收入预计达3万亿美元 [4] - 中国商业航天市场规模2025年有望突破2.5万亿元 2025-2030年间卫星发射需求预计超过7000颗 商业火箭新型号首飞将推动卫星互联网星座建设提速 [4] - 卫星制造板块有望迎来基本面改善叠加估值提升的"戴维斯双击" [4] 光刻机行业 - 光刻机概念股早间放量高开高走 板块指数盘中大涨超过3% 创历史新高 半日成交超前一交易日全天 蓝英装备约6分钟实现20%涨停 多只个股在5分钟内快速涨停 [5] - 英特尔高管称"光刻将不再那么重要" High-NA EUV光刻机面临滞销 设备价格超过3.5亿欧元 台积电表示标准型EUV光刻机可支持尖端制程生产至2026年 A16制程将继续采用标准型设备 [7] - 三星和SK海力士均决定推迟在DRAM生产中引入High-NA EUV技术 主要因设备成本过高及DRAM架构即将发生变化 [7]

光刻技术重要性变化 - 英特尔高管提出"光刻将不再那么重要"的观点引发业界争议 [1] - High-NA EUV光刻机面临滞销，多家芯片巨头对其实用性持保留态度 [1][3] - 随着3D晶体管结构发展，刻蚀技术重要性提升至制造环节50%以上 [7] High-NA EUV光刻机应用现状 - ASML已交付两台TWINSCAN EXE:5000系统，分别由imec和英特尔接收 [1] - 英特尔计划用High-NA EUV开发1.8nm和1.4nm工艺，当前季度产能达30000片晶圆 [4] - 台积电认为High-NA EUV大规模应用需5年以上，A16/A14工艺仍采用标准EUV [5] - 三星推迟DRAM产线应用计划，逻辑芯片领域评估1.4nm工艺2027年量产 [6] 刻蚀技术崛起 - 5nm FinFET工艺中刻蚀次数超过150次 [7] - GAAFET和CFET结构要求"从各方向包裹栅极"，横向材料去除成为关键 [7] - Lam等刻蚀设备公司作用将增强，但光刻机仍保持基础性地位 [8][9] ASML市场表现与技术路线 - 2024年出货418台光刻机（44台EUV/374台DUV），中国大陆贡献36.1%收入（101.95亿欧元） [10] - 正在研发0.75 NA的Hyper NA EUV系统，可提升打印速度和精度 [10][11] - 当前EUV技术预计主导市场10-20年，控制全球75%-80%份额 [13] 新兴光刻技术发展 - EUV-FEL技术可支持10-20台设备并联，美国Xlight公司计划2028年推出原型 [13][14] - Lace Lithography开发原子光刻技术，宣称分辨率领先EUV 15年 [14] - 纳米压印和电子束光刻在小批量高精度领域取得进展 [15][16]