技术突破 - 国产首台商业化电子束光刻机"羲之"精度达0.6纳米，线宽8纳米，打破国际技术封锁 [1][2][5] - 设备通过高能电子束直接在硅基上"手写"电路，无需传统光刻所需的掩膜版，可灵活修改设计图案 [5] - 电子束光刻技术专攻量子芯片和新型半导体研发核心环节，虽生产效率低于EUV光刻，但在前沿领域具不可替代优势 [5][6] 研发与应用进展 - 设备由浙大量子研究院依托省重点实验室自主研发，目前正由中国科技大学和浙大量子研究院团队进行测试 [4][5] - "羲之"已吸引华为海思等多家企业及科研机构接洽，市场应用前景广阔 [5] - 设备于8月13日在客户现场启动应用测试，标志着量子芯片研发领域实现自主装备突破 [2][6] 产学研协同机制 - 项目通过浙江大学、校友总部经济园与余杭地方政府协同推动，形成"技术需求清单-揭榜研发-全流程陪跑"的成果转化模式 [6] - 浙江省级教育科技人才一体改革专项试点落地浙江大学校友企业总部经济园，强化科技创新与产业创新融合 [6]

国产电子束光刻机突破 - 全国首台国产商业化电子束光刻机"羲之"在杭州正式亮相，由浙江大学余杭量子研究院自主研发，已完成研发并进入应用测试阶段 [2] - "羲之"是新一代100kV电子束光刻机，专攻量子芯片和新型半导体研发，精度达0.6纳米，线宽仅8纳米，比肩国际主流设备 [4] - 该设备无需掩模版，可多次修改设计，在原型设计、快速迭代和小批量试制方面具有独特优势，极大提升芯片研发初期反复调试效率 [4] - 此前先进电子束光刻机受国际出口管制，国内无法采购，"羲之"的落地打破了这一困局，已与国内企业及多家科研机构展开接洽 [4] 技术特点与优势 - 设备外观酷似大型钢柜，通过高能电子束在硅基上"手写"电路 [4] - 相比传统光刻机，电子束光刻机在精度和"书写"便捷性方面表现突出，特别适合芯片研发初期的多版型设计和图案修改 [4] - 该设备解决了国内顶尖科研机构和企业长期无法获得先进电子束光刻机的难题 [4]