对于三星来说，过去几年备受煎熬。这不但体现在其存储业务上，其寄以厚望的晶圆代工业务也举 步维艰。但随着良率的提升以及公司和特斯拉达成的新协议，这家韩国芯片巨头似乎又充满了信 心，并加大了对下一代光刻机的抢购。 据报道，三星此前已确认 Exynos 2600 将是该公司首款 2nm GAA 芯片组，而最近又有报道称这 款旗舰级 SoC 已开始量产。这家韩国晶圆代工厂的最大愿望就是最大限度地减少损失、提高良 率，以便能够大规模生产自有芯片，同时向业界证明其在芯片领域的领先地位能够与台积电相媲 美。 为了帮助公司实现目标，一份报道称，三星正在从 ASML 引进更多高数值孔径 EUV 光刻机，并 将其添加到其本地生产中。虽然这些设备价格不菲，但它应该能为公司带来必要的优势。据 Fnnews 报道，三星斥巨资购置这些设备的目的是为了在 2 纳米 GAA 制程中占据优势。 毋庸置疑，在ASML看来，High NA EUV会是未来的头等大事。在此前的二季度财报说明会 上，荷兰设备巨头也确认了一台高数值孔径EUV的收入。他们指出，虽然该项收入确认拉低 了毛利率，但总体上依然带来53.7%毛利率的强劲表现。 根据ASML在其第 ...

毋庸置疑，在ASML看来，High NA EUV会是未来的头等大事。在此前的二季度财报说明会上，荷兰设 备巨头也确认了一台高数值孔径EUV的收入。他们指出，虽然该项收入确认拉低了毛利率，但总体上 依然带来53.7%毛利率的强劲表现。 根据ASML在其第一季度财报电话会议上透露，英特尔已报告使用高数值孔径 (High-NA) 设备在一个季 度内曝光了超过 3 万片晶圆。这也显著改进了工艺流程，使特定层上的工艺步骤数量从 40 个减少到 10 个以下。另一家用户三星指出，其某一层的周期时间缩短了 60%。这些结果表明，该技术比 ASML早 期的低数值孔径 EUV 设备成熟得更快，后者需要更长的时间才能达到生产就绪状态。 几个月前，有报道指出，这家韩国巨头在 Exynos 2600 芯片的测试中，上述光刻技术的良率达到了 30%。而众所周知，要实现量产在财务上可行，良率至少需要达到70%。因此，采购这些高数值孔径 EUV光刻机或许能帮助三星实现这一目标，因为ASML的尖端工具有助于实现2纳米GAA工艺的超精细 电路。 然而，即使该公司拥有近乎无限的资金，也无法随心所欲地订购数量，因为ASML对其销售数量有所限 制。 ...