HDPCVD等薄膜沉积设备

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拓荆科技,拟定增募资不超46亿元
中国证券报· 2025-09-13 13:03
拓荆科技9月12日晚间发布公告称,公司拟向不超过35名特定对象发行A股股票,募集资金总额不超过 46亿元,扣除发行费用后拟用于高端半导体设备产业化基地建设项目、前沿技术研发中心建设项目及补 充流动资金。 募资不超过46亿元 9月12日晚,拓荆科技对外披露2025年度向特定对象发行A股股票预案。 此次向特定对象发行股票的数量按照募集资金总额除以发行价格确定,且不超过此次发行前公司总股本 的30%,即此次发行不超过8391.87万股(含本数)。最终发行数量由公司董事会及其授权人士根据股 东大会授权、中国证监会及上交所相关规定、中国证监会注册的发行数量上限与保荐机构(主承销商) 协商确定。 对于此次向特定对象发行股票的目的,拓荆科技在公告中提到,主要是扩大高端半导体设备产能,抓住 行业高速发展机遇;战略布局前沿技术,提升创新能力,强化产品优势;增强资金实力,充分利用资本 市场优势,促进公司业务稳步发展。通过此次发行,公司可充分利用资本市场优势,增强自身资金实 力。此次发行中的部分募集资金拟用于补充流动资金,可满足公司日益增长的经营性现金流需要,优化 资产负债结构,提高抗风险能力,增强核心竞争力和盈利能力,促进公司业 ...
拓荆科技拟定增募资不超过46亿元,投资加码高端半导体设备业务
巨潮资讯· 2025-09-13 10:33
9月12日,拓荆科技发布公告,公司拟定增募资不超过46亿元,扣除发行费用后的募集资金净额拟投入 高端半导体设备产业化基地建设项目、前沿技术研发中心建设项目并补充流动资金。其中,高端半导体 设备产业化基地建设项目系公司使用首次公开发行募集资金2.68亿元投资的项目,公司拟使用本次募集 资金15亿元对其进行追加投资。 据披露,高端半导体设备产业化基地建设项目拟在辽宁省沈阳市浑南区新建产业化基地,包括生产洁净 间、立体库房、测试实验室等,并引入先进的生产配套软硬件,打造规模化、智能化、数字化的高端半 导体设备产业化基地。 拓荆科技称,本次项目的实施将大幅提升公司高端半导体设备产能,支撑公司PECVD、SACVD、 HDPCVD等薄膜沉积设备系列产品的产业化能力,并通过智能化配套设施建设,提升生产效率,以充 分满足下游市场及客户需求,扩大公司业务规模,从而进一步提升公司竞争能力和市场地位。 近年来,受益于下游市场需求旺盛,凭借在半导体薄膜沉积设备领域强大的技术实力,拓荆科技业务规 模呈现快速增长趋势,产能利用率处于较高水平。拓荆科技还称,为了应对未来市场需求不断增长、芯 片工艺持续迭代所带来的高端半导体设备需求的增加 ...
拓荆科技定增募资不超46亿元 拟投建高端半导体设备产业化基地等项目
证券时报网· 2025-09-12 20:54
9月12日晚间拓荆科技(688072)公告,公司拟定增募资不超过46亿元,扣除发行费用后的募集资金净额 拟投入高端半导体设备产业化基地建设项目、前沿技术研发中心建设项目并补充流动资金。其中,高端 半导体设备产业化基地建设项目系公司使用首次公开发行募集资金2.68亿元投资的项目,公司拟使用本 次募集资金15亿元对其进行追加投资。 据披露,高端半导体设备产业化基地建设项目拟在辽宁省沈阳市浑南区新建产业化基地,包括生产洁净 间、立体库房、测试实验室等,并引入先进的生产配套软硬件,打造规模化、智能化、数字化的高端半 导体设备产业化基地。 本次定增中,拓荆科技还拟使用募集资金11亿元用于公司及全资子公司补充流动资金。 拓荆科技表示,公司所处行业为资本密集型行业,需要在生产、研发及日常运营活动中进行大量而持续 的资金投入。近年来,公司业务规模逐渐扩大,产品市场需求及订单保持良好增长态势,最近三年营业 收入复合增长率达到55.08%。 与此同时,公司在原材料采购、人员薪酬、研发支出等资金支出项目及存货、应收账款等经营性项目的 资金占用项目亦随着收入快速增长而相应增加,仅依靠公司内部积累已经较难满足业务快速发展对资金 的需求 ...