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员工跳槽引发激烈对峙:台积电称已泄密,英特尔回击
第一财经· 2025-11-27 12:16
诉讼与回应 - 台积电向法院提起诉讼,指控前资深副总经理罗唯仁违反保密协议与竞业禁止义务,涉嫌将2nm等先进制程机密泄露给英特尔[1] - 台积电法务部门调查显示,罗唯仁于2024年3月离开管理研发的部门后仍多次要求研发团队提供先进制程资料,并在离职面谈时隐瞒将入职英特尔的事实[1] - 英特尔回应称相关指控是“毫无根据的谣言”,并强调公司有严格政策禁止使用第三方知识产权[2] 技术路线与差异 - 英特尔18A制程采用RibbonFET晶体管与背面供电技术,声称与台积电2nm工艺路线存在本质差异[2] - 英特尔是高数值孔径极紫外光刻(High-NA EUV)技术的早期采用者,而台积电目前尚未布局该技术[2] - 英特尔宣布其18A工艺已在美国亚利桑那州工厂启动大规模量产,晶体管密度较上一代提升30%,相同能耗下性能提升15%[2] 行业背景与竞争格局 - 2025年第二季度全球纯晶圆代工行业营收同比增长33%,核心驱动力是先进工艺在AI GPU领域的应用[3] - 若英特尔无法在未来1-2年内将18A制程良率提升至商业化水平,其技术先发优势可能被台积电、三星的成熟产能吞噬[3] - 英特尔招揽罗唯仁的核心原因被认为是希望借助其行业经验加速技术落地,与时间赛跑[3] 关键人物背景 - 罗唯仁拥有美国加州大学伯克利分校固态物理与表面化学博士学位,曾在英特尔担任CTM厂长,于2004年7月加入台积电[3] - 罗唯仁在台积电工作期间主导EUV光刻技术导入,并于2025年7月27日退休,较公司限定67岁退休年龄延退8年[1][3]
员工跳槽引发激烈对峙:台积电称已泄密,英特尔回击
第一财经· 2025-11-27 12:09
诉讼事件核心 - 台积电向法院提起诉讼,指控前资深副总经理罗唯仁违反保密协议与竞业禁止义务,涉嫌将2nm等先进制程机密泄露给英特尔[3] - 台积公司法务部门调查发现,罗唯仁在2024年3月离开管理研发的部门后,仍多次要求研发团队提供先进制程资料,并在离职面谈时隐瞒将入职英特尔的事实[3] - 台积电认为相关营业秘密可能已被转移至英特尔[4] - 英特尔回应指控为“毫无根据的谣言”,并强调公司有严格政策禁止使用第三方知识产权[5] 技术路线差异 - 英特尔指出其18A制程采用RibbonFET晶体管与背面供电技术,与台积电2nm工艺路线存在本质差异,声称无需借助外部技术数据[5] - 业内观点认为双方制程技术存在多项本质差异,英特尔是高数值孔径极紫外光刻(High-NA EUV)技术的早期采用者,而台积电目前尚未布局该技术[5] 英特尔18A工艺进展 - 英特尔宣布其18A工艺已在美国亚利桑那州工厂启动大规模量产[6] - 该工艺采用RibbonFET晶体管与PowerVia技术,晶体管密度较上一代提升30%,相同能耗下性能提升15%[6] - 该技术被视为英特尔打破台积电技术垄断的核心抓手[7] 行业竞争背景 - 2025年第二季度全球纯晶圆代工行业营收同比增长33%,核心驱动力是先进工艺在AI GPU领域的应用[7] - 若英特尔无法在未来1-2年内将18A制程良率提升至商业化水平,其技术先发优势将被台积电、三星的成熟产能吞噬,面临失去高端代工市场入场资格的风险[7] - 英特尔招揽罗唯仁的核心原因是希望借助其行业经验加速技术落地,本质是与时间赛跑[7] 关键人物背景 - 罗唯仁拥有美国加州大学伯克利分校固态物理与表面化学博士学位,曾在英特尔担任CTM厂长,于2004年7月加入台积电[7] - 罗唯仁在台积电工作期间主导EUV光刻技术导入,于2025年7月27日退休,较公司限定67岁退休年龄延退8年,是台积电历任副总级退休年纪最高者[7]
员工跳槽引发巨头激烈对峙:台积电称已泄密,英特尔回击:毫无依据
第一财经资讯· 2025-11-27 11:52
诉讼事件核心 - 台积电向法院提起诉讼,指控前资深副总经理罗唯仁违反保密协议与竞业禁止义务,涉嫌将2nm等先进制程机密泄露给英特尔 [1] - 英特尔回应指控为"毫无根据的谣言",并强调有严格政策禁止使用第三方知识产权 [2] - 台积电法务部门调查显示,罗唯仁在离职面谈时声称将入职学术机构,但随后在10月底以执行副总裁身份出现在英特尔员工名单中 [1] 涉事人员背景 - 罗唯仁于2025年7月27日从台积电退休,工作期间主导EUV光刻技术导入,拥有美国加州大学伯克利分校固态物理与表面化学博士学位 [1][3] - 罗唯仁曾在英特尔担任先进技术制造厂CTM厂长,2004年7月加入台积电,退休时75岁,是台积电历任副总级退休年纪最高者 [3] 技术路线差异 - 英特尔18A制程采用RibbonFET晶体管与背面供电技术,声称与台积电2nm工艺路线存在本质差异 [2] - 英特尔是高数值孔径极紫外光刻(High-NA EUV)技术的早期采用者,而台积电目前尚未布局该技术 [2] - 英特尔宣布其18A工艺已启动大规模量产,晶体管密度较上一代提升30%,相同能耗下性能提升15% [2] 行业背景与竞争态势 - 2025年第二季度全球纯晶圆代工行业营收同比增长33%,核心驱动力是先进工艺在AI GPU领域的应用 [3] - 英特尔若无法在未来1-2年内将18A制程良率提升至商业化水平,其技术先发优势可能被台积电、三星的成熟产能吞噬 [3] - 英特尔18A技术被视为打破台积电技术垄断的核心抓手 [2]
英特尔2025年晶圆代工营收约1.2亿美元,仅为台积电千分之一
搜狐财经· 2025-11-12 10:10
英特尔晶圆代工业务营收预测 - 2025年英特尔晶圆代工外部客户营收预计仅为1.2亿美元 [2] - 该预测营收仅为台积电同期收入的千分之一(台积电今年前10月营收约1010亿美元) [2] - 英特尔晶圆代工营收与其庞大的资本支出相比微不足道 尤其是在开发Intel 18A等先进制程上的高投入 [2] Intel 18A制程发展现状 - Intel 18A工艺初期未获得外部代工客户认可 公司希望通过内部产品的成功来吸引客户 [3] - 采用Intel 18A制程的第三代酷睿Ultra处理器(Panther Lake)和至强6+处理器(Clearwater Forest)目前正在量产中 [3] - 特斯拉 博通和微软等公司正关注Intel 18A的量产情况以及下一代Intel 14A制程节点 [4] 英特尔代工业务财务前景与转型 - 预计到2027年底 英特尔整体代工业务(包括内部业务)有望实现收支平衡 [4] - 平衡主要源于公司将内部晶圆生产从DUV转向EUV工艺(2024财年EUV晶圆渗透率仅为5%) [4] - 预计晶圆平均售价的增长速度将是成本增长速度的三倍 从而缩小亏损 [4] - 公司获得来自美国政府 软银和英伟达的累计上百亿美元入股资金 [4] - 公司与英伟达在PC及服务器芯片领域达成深度合作计划 [4]
英特尔发布“2纳米级”工艺CPU,你的AI PC性能即将暴涨50%
量子位· 2025-10-10 09:03
产品战略与定位 - 公司推出新一代酷睿Ultra处理器Panther Lake,旨在通过统一平台解决上一代产品线因不同设计(如Lunar Lake内置内存与Arrow Lake外部内存)导致的混乱局面,覆盖从轻薄本到高性能游戏本的全系列产品[1][2][7] - 新平台放弃了上代将内存封装在处理器内的设计,转而打造一个全能型平台,以终结用户需要在不同路线(效率与性能)之间做选择的尴尬局面[2][7] 性能提升与关键指标 - 与前代产品相比,CPU多核性能提升超过50%,图形性能提升超过50%,同时整体功耗降低30%[3] - 在AI算力方面,平台提供高达180 TOPS的总算力(NPU 50 TOPS + GPU 120 TOPS),是微软Copilot+ PC要求(40 TOPS)的4.5倍[25] - 全新的"Cougar Cove"性能核在同等功耗下,单线程性能比Lunar Lake高出10%[15] - 全新的"Darkmont"能效核在同等功耗下的性能已超过上一代的性能核[16] 架构设计与技术创新 - 处理器采用优化的多芯粒设计,主要由三个功能模块构成:采用Intel 18A工艺的计算模块(集成CPU、NPU、内存控制器)、采用不同工艺的GPU模块以及由台积电N6工艺制造的平台控制模块[9][10][13][36] - 通过将内存控制器集成到计算模块内部,解决了上代Arrow Lake因跨模块访问导致的高延迟问题,最高支持LPDDR5x 9600 MT/s(最大96GB)和DDR5 7200 MT/s(最大128GB)内存[12] - 缓存系统新增8MB内存侧缓存,可将DRAM访问延迟降低30%,数据命中率高达95%,并对Stable Diffusion等AI应用的推理速度有22%的提升[19] - 集成全新的Xe3"Celestial"图形架构,性能比Lunar Lake的Xe2 GPU高出50%以上,并提供4核与12核两种配置[20][22] 制造工艺与供应链 - Panther Lake是首款在计算模块上采用Intel 18A制程工艺的量产产品,该"2纳米级"工艺带来15%的每瓦性能提升和30%的芯片密度改进[29][30] - 制造工艺的关键创新包括RibbonFET晶体管架构和PowerVia背面供电技术,以提升性能与能效[32][34] - 公司采用Foveros多芯粒封装技术,将不同工艺制造的模块(如Intel 18A、Intel 3和台积电N6)组合,提高了生产良率和产品配置灵活性[36][37] 市场计划与产品路线图 - Panther Lake预计在2026年1月CES上正式发布,随后首批笔记本电脑上市[28] - 三种不同规格的芯片采用相同封装设计,使笔记本厂商能用同一套主板通过更换处理器覆盖从入门到旗舰的产品线,简化了供应链并降低了成本[28] - 公司同时预览了代号为Clearwater Forest的下一代服务器处理器,同样基于18A工艺,预计2026年上半年发布[39]
英特尔18A正式亮相,两款芯片重磅发布
半导体行业观察· 2025-10-10 08:52
Intel 18A工艺技术亮点 - Intel 18A是美国首个2纳米级别节点,与Intel 35工艺相比,每瓦性能提升15%,芯片密度提升30%[3] - 工艺集成了两项黑科技:RibbonFET晶体管和PowerVia背面供电技术,RibbonFET是公司十多年来首款新型晶体管架构,将FinFET的鳍片垂直堆叠,栅极间距从约30纳米缩小到10纳米,实现更好性能与能效[3][6] - PowerVia背面供电技术将电源线从晶圆正面移至背面,可释放正面最多20%的布线面积,简化制造流程并可能降低成本[8][10] - 结合Foveros先进封装和3D芯片堆叠技术,可在系统级提供灵活性、可扩展性和性能[10] Panther Lake客户端处理器特性 - Panther Lake是首款基于Intel 18A工艺的AI PC处理器,采用Foveros 2.5D封装技术集成计算、GPU、Base、Filler和平台控制五个Tile[12] - 处理器融合了高能效与高性能,显卡性能提升高达50%,NPU算力从Lunar Lake的40多TOPS提升至50 TOPS,NPU芯片面积同比缩小40%[15] - 采用新一代无线技术Wi-Fi 7 R2,并具备更强的连接灵活性[15] - 计算Tile包含P核(Cougar Cove)和E核(Darkmont),Cougar Cove通过改进分支预测器和更大TLB等优化提升性能,Darkmont E核的IPC实现超过10%的显著增长[17][18][20] - GPU Tile集成Xe3 GPU,渲染切片中Xe核心数从4个增至6个,L1缓存从192 KB增至256 KB,L2缓存从8 MB升级至16 MB,并引入XeSS多帧生成技术,最多可注入三个AI插值帧[23][25][27] - NPU 5单位面积MAC数量翻倍,单位面积TOPS比Lunar Lake NPU提高40%,结合CPU(10 TOPS)和iGPU(120 TOPS),整芯片AI算力达180 TOPS,支持XPU协同工作模式[32][34][36] - 处理器提供三款配置:8核(4P+4LP E核,4 Xe3核心)、16核(4P+8E+4LP E核,4 Xe3核心)和16核高配(4P+8E+4LP E核,12 Xe3核心),支持LPDDR5x/DDR5内存,PCIe通道数12-20条,面向广泛AI PC、游戏设备和边缘解决方案[36][38][40][42] - Panther Lake将于2024年底前开始大批量生产并发货,2026年1月广泛上市[43] Clearwater Forest服务器处理器设计 - Clearwater Forest是面向数据中心的Xeon 6+ CPU,基于Darkmont E核设计,采用Intel 18A工艺和先进3D Foveros封装及EMIB技术,是公司最高效的服务器处理器[45] - 芯片采用多层解决方案,由12个EMIB tiles连接3个active base tiles、2个I/O tiles和12个计算tiles组成,计算tiles采用Intel 18A,base tiles采用Intel 3,I/O tiles采用Intel 7工艺[50] - 每个计算tiles包含24个Darkmont E核,12个计算tiles共集成288个E核,每个计算块拥有24 MB L2缓存,整芯片L2缓存达288 MB,L3+L2缓存总计864 MB[52] - Darkmont E核前端解码宽度从Crestmont的6-wide提升至9-wide,乱序窗口从256 entries扩大至416 entries,执行端口从17个增至26个,标量ALU从4个增至8个,矢量FMA从2x128b增至4x128b,L2带宽从64B/cycle翻倍至128B/cycle,IPC较上一代提升17%[49][59] - I/O Tile提供96条PCIe Gen 5.0通道、64条CXL 2.0通道和192条UPI 2.0通道,active base tiles集成12个DDR5内存控制器,支持12个内存通道,LLC容量达576 MB[54][55] - 芯片首次量产采用Foveros Direct3D封装技术,凸块间距9微米,采用铜对铜键合,数据传输性能约0.05pJ/bit,功耗极低[57] - 处理器支持LGA 7529插槽的1S和2S配置,包含SGX和TDX安全扩展,支持AET电源管理和Turbo速率限制器,与当前Xeon 69xxE/P平台兼容,双插槽配置核心数近576个,组合末级缓存超过1,152 MB[61][62]
英特尔18A工艺首秀,Panther Lake深度揭秘:全新架构迎接AI浪潮
36氪· 2025-10-10 08:27
核心技术:Intel 18A工艺 - 公司首次在消费级产品平台Panther Lake上采用最先进的Intel 18A制程工艺[4] - Intel 18A工艺引入两大全新特性:RibbonFET环绕栅极晶体管和PowerVia背面供电技术[4] - RibbonFET技术通过360°环绕电流通道的栅极设计,显著降低漏电问题,为2nm及以下制程做准备[7][9] - PowerVia技术将供电模块转移至芯片背面,降低正面散热压力并提升供电效率,使CPU能以更低功耗实现满功率运行[9][11] - 新工艺是公司“4年5节点”战略的关键一环,旨在为移动PC开启新时代[11] 架构设计:模块化与灵活性 - Panther Lake采用多芯片设计,取代传统单片设计,通过Foveros 2.5D封装技术集成不同功能芯片模块[12] - 模块化设计使公司能像搭乐高积木一样定制处理器,例如针对轻薄本采用小规模GPU模块以降低功耗,针对高性能笔记本采用大规模GPU模块提升性能[12] - 灵活设计可满足从个人服务器到掌上终端等各类设备的计算需求,在AI PC市场具备显著优势且设计成本更可控[14] CPU性能与能效提升 - Panther Lake全面升级大小核架构,引入全新性能核Cougar Cove和效率核Darkmont,其中Cougar Cove为下一代Nova Lake架构的性能核,在IPC和主频方面有显著提升[15] - 引入Memory Side Cache(内存侧缓存)新技术,位于内存和CPU之间,提高内存带宽利用率并优化延迟,缓解内存读写瓶颈[17] - 新升级的Intel Thread Director线程调度技术通过硬件监测和AI算法,更精细地将线程分配给性能核、效率核或NPU等最合适单元[17][19] - 引入全局功耗管理,在高负载场景下智能调整不同单元(如CPU、NPU、GPU)的功耗预算,实现SoC级别能源调度以兼顾性能与续航[19][21] GPU图形与AI能力飞跃 - Panther Lake搭载全新Xe3锐炬核显(代号Celestial),为第三代Xe架构图形单元,核心数量和频率上限均有所提高[22] - 顶配版Xe3核显拥有12个Xe内核,核心数量比前代顶配版增加50%,图形性能较Lunar Lake提升超过50%,可媲美入门级独显并能高帧数运行大型3A游戏[24] - Xe3 GPU的AI性能大幅增长,高规格版最高可提供120 TOPS的AI算力,超过前代CPU+GPU+NPU的算力总和,能独立处理高质量图形识别、视频增强等任务[24][27] NPU与整体AI算力 - Panther Lake集成第五代NPU,最高算力达50 TOPS,为前代数倍,其低能耗特性更适合支持常驻AI任务[28][30] - 本地AI功能覆盖语音识别、视频会议背景虚化与降噪、手势操作识别、用户存在检测、安全加密加速及运行精简生成式AI模型等[30] - 平台整体AI算力(CPU+GPU+NPU)高达180 TOPS,使AI PC能实现AI功能常驻在线,辅助用户处理各种日常工作[30] 连接性与多媒体优化 - Panther Lake原生支持Wi-Fi 7协议和蓝牙6.0协议,提供近乎有线的低延迟和高速率无线连接体验[31] - 平台完善对雷电5的支持(传输速率80Gbps,支持高帧数8K输出),并将雷电控制器集成到平台控制器中,便于厂商普及该高速协议[33] - 提供多达12条PCIe 5.0通道,在满足独显数据需求后仍有充足通道支持高性能SSD扩展[33] - 搭载全新图像处理单元(IPU)7.5和新一代媒体编码引擎,优化远程会议、直播的画质及视频编解码效率,满足创作者移动办公需求[33] 行业定位与前景 - Panther Lake被视为PC市场未来几年的转折点,是PC产业进入AI新时代的标志[35][37] - 通过平衡性能与能效、实现三大计算引擎(CPU、GPU、NPU)协同,该平台旨在为用户提供随时在线的智能化体验,涵盖办公、游戏和创作等场景[37] - 随着后续Nova Lake等架构推进,AI PC浪潮预计将愈演愈烈,进一步融入日常生活[37]
英特尔18A良率已超越三星!
国芯网· 2025-07-15 21:57
半导体制造工艺进展 - Intel 18A工艺良率从上一季度的50%提升至55%,超越三星2nm工艺(SF2)的40%良率 [1] - 尽管仍低于台积电测2工艺的65%良率,但已具备2025年量产条件,预计良率将进一步提升至70% [1] - 良率提升为Intel下一代移动CPU生产提供有力支持,Panther Lake系列将受益 [1][2] 公司战略规划 - Intel计划在18A工艺成功后逐步向14A工艺过渡,以增强高端芯片市场竞争力 [3] - 18A工艺不仅支持内部产品开发,还为未来向外部客户提供服务奠定基础 [2] 行业竞争格局 - Intel在先进制程良率上超越三星,但与台积电仍存在差距 [1] - 良率提升使Intel在2nm级工艺竞争中占据更有利位置 [1][2]
英特尔芯片,又延期了?
半导体芯闻· 2025-03-05 18:25
英特尔Panther Lake芯片延迟 - 英特尔Panther Lake芯片可能无法在2025年内上市,原计划2025年下半年发布,但最新消息显示量产时间表已从2025年9月初推迟到2025年第四季度中期 [1][2] - 搭载Panther Lake芯片的笔记本电脑和设备可能要到2026年才能面市,英特尔将错过2025年年底的关键假日销售旺季 [1][2] - 延迟原因在于Intel 18A工艺良品率提升缓慢,目前良品率约为20%-30%,第三季度良品率水平预计不会改善 [2] Intel 18A工艺问题 - Intel 18A工艺采用RibbonFET(全栅晶体管)和PowerVia(背面供电架构),理论上可提高密度和性能,单元利用率提升5%至10%,ISO电源性能提高4% [2] - 该工艺良品率不理想,导致Panther Lake芯片生产推迟,英特尔可能无法在预期时间内实现量产 [2] - 若良品率问题持续,Panther Lake可能需要更换代工方或延期出货 [2] 市场影响 - Panther Lake延迟将对公司2025年下半年的收入、利润和供应链信任产生负面影响 [2] - 芯片和成品(PC/NB)出货之间通常有2-4周时间差,PTL笔记本普及可能推迟至2026年 [1][2]