浸润式DUV光刻机

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高盛:中国光刻机落后20年!
国芯网· 2025-09-02 21:20
国芯网[原:中国半导体论坛] 振兴国产半导体产业! 不拘中国、 放眼世界 ! 关注 世界半导体论坛 ↓ ↓ ↓ 它重达180吨,体积如同双层巴士,堪称全球最昂贵的半导体制造设备,同时也是最贵的,单台价格估 计超过4亿美元。 高盛还指出,ASML光刻机从65nm发展到3nm及以下,用了长达20年的时间,投入了400亿美元的研发 与资本费用。 因此高盛认为,综合考虑中国当前的半导体技术水平、先进工艺研发的巨大投入、全球产业 链的复杂性、高风险的地缘因素,中国国产光刻机不可能在短期内追上西方先进水平。 可能很多人不太清楚,现在大规模生产芯片,基本上都是靠光刻工艺。而光刻机可以说是整 个生产线里最核心的设备,它的成本大概占所有设备总成本的30%左右。其他很多设备,其 实都是围绕着光刻机来配合工作的。 全球的光刻机市场,基本上被ASML一家公司垄断了,市场份额超过80%。尤其是最先进的 EUV光刻机,ASML几乎是独家供货,市场份额达到了100%。就连比较高端的浸润式DUV光 刻机,ASML也占据了95%以上的份额。 另外,光刻机和芯片的制程工艺是直接对应的。比如说,ArFi这种浸润式DUV光刻机,一般 用来做65纳米 ...