中国在矿物质领域的主导地位让管制政策具有立竿见影的效果。 数据显示，中国矿物质储量占全球总量的37%，但精炼分离环节占比超过70%。 特别是用于光刻机的高纯度重矿物质，中国掌控着全球87%的冶炼产能。 ASML供应链数据显示，其光刻机磁体库存仅能维持8-12周生产，而重新设计生产 线至少需18个月。 管制政策出台后，ASML陷入前所未有的供应链危机。 公司内部评估显示，若矿物质供应中断持续，EUV光刻机产能可能下降30%。 2025年10月9日，中国商务部连续发布第61号和第62号公告，对含中国矿物质成分的境外物项及相关技术实施出口管制。 政策核心在于"长臂管辖"原则：无论产品在何地生产，只要含有0.1%及以上中国重矿物质成分或使用中国矿物质技术，出口都需中方审批。 审批标准严格 区分民用与军用，向军事用户或用于大规模杀伤性武器研发的出口申请将直接被拒。 在光刻机的磁悬浮系统中，钕铁硼永磁体提供强大磁场，确保晶圆台和掩膜台实现纳米级精度的同步运行。 光源系统中，铥是下一代EUV光源的核心材 料，铽用于光学隔离器，铷则用于激光定位与检测晶圆。 光学镜头和掩膜版等关键部件同样离不开矿物质支持。 每台EUV光刻机的 ...

资源与材料基础 - 商务部对含0.1%中国重稀土成分的产品出口实施审批，为产业划定资源话语权边界[2] - 全球90%的高标准稀土精炼产能集中在中国，ASML的EUV光刻机单台稀土用量超50公斤[2] - 无锡启动EUV光刻胶研发平台，打破国外垄断，关键光刻胶国产化率突破30%[4] - 显影液、电子特气等曾依赖进口的辅助材料已实现全链条自主可控[4] 制造工艺突破 - 新凯来采用“非光刻补偿”战略，通过优化DUV光刻机工艺弥补与EUV设备的精度差距[7] - 该工艺路线难度极高，制造关键电路层时需在光刻、刻蚀、沉积间反复循环数十甚至上百次[7] - “名山大川”系列设备（如“武夷山”刻蚀机、“阿里山”沉积设备）为复杂工艺提供了全流程支撑[9] - 与中芯国际合作试产的5nm逻辑芯片良率达到85%，接近台积电EUV工艺水平[9] 设计与测量工具 - 新凯来旗下启云方推出国产EDA软件，运算效率较国际主流标杆提升30%，硬件开发周期缩短40%[11] - EDA软件实现了与国产操作系统、数据库的无缝兼容，解决了设计环节的“有无”问题[11] - 华为应用实践显示，在处理4万管脚级超复杂电路板时，一次设计成功率提升30%[13] - 同期推出90GHz超高速实时示波器，性能较此前国产同类产品提升5倍，填补了测量设备空白[13] 产业生态构建 - 中国半导体正构建类似“雨林”的完整生态，各环节相互支撑，以生态重构定义新规则[15] - 资源、材料、工艺、设计等多维度布局完成，形成不依赖外部供应链的完整闭环[13][15] - 通过“流程复杂度”换取“技术自主性”，为先进制程落地找到不依赖外部设备的可行方案[9][15]