光刻技术

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携手共赴2025湾区半导体大会,共话共绘半导体产业未来蓝图!
半导体行业观察· 2025-07-21 09:22
湾区半导体产业生态博览会概况 - 展会将于2025年10月15-17日在深圳会展中心(福田)举行,集结600+半导体头部企业 [1][37] - 同期举办湾区半导体大会,包含两大高端研讨会、一场开幕式暨半导体产业发展峰会及20+场技术论坛 [1][6] - 活动聚焦技术交流、产业协同、国际合作、生态共创,覆盖光刻技术、晶圆制造、先进封装、IC设计等全产业链 [3][16] 核心战略板块 - **全球TOP企业领袖对话**:邀请ASML、应用材料、科磊、泛林等国际企业高管,探讨扶持政策、产能优化、技术突破等战略议题 [4][8] - **前沿技术大会**:20+场论坛涵盖光刻技术进展、晶圆制造、先进封装、IC设计等,展示最新工艺与设备突破 [5][16] - **产业生态会议**:包括人才大会、投融资论坛、出海战略研讨会及供需对接会,推动四链(创新链、人才链、资本链、生态链)融合 [6][28] 重点活动详情 1 高端研讨会 - **TOP20高层战略闭门会**:聚焦全球半导体企业技术洞察与战略经验,共绘高质量发展蓝图 [8] - **第九届国际先进光刻技术研讨会**:覆盖光刻设备、工艺制程、计量检测等全产业链技术,联动科研院所与投资机构 [11] 2 开幕式暨半导体产业发展峰会 - 基于SIA报告,2024年全球半导体市场规模首破6000亿美元,2025年预计两位数增长,AI应用为关键驱动力 [13] - 峰会探讨AI驱动的芯片设计、晶圆制造、先进封装技术趋势,邀请头部企业分享最新进展 [13][15] 3 技术论坛亮点 - **晶圆制造论坛**:围绕设备、材料、工艺等议题,探讨产业格局与技术革新 [18][19] - **化合物半导体论坛**:聚焦碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)在电动车、AI、新能源等领域的性能突破与应用 [20][21] - **先进封装论坛**:探讨Chiplet异构集成、光电芯片等技术创新与产业链协同 [22][23][24] - **IC设计论坛**:涵盖边缘AI、RISC-V生态、EDA/IP工具及AI芯片技术,推动设计与AI深度融合 [25][27] 其他主题活动 - 投融资战略、出海战略、人才培养等专业论坛,以及新品发布会、湾芯奖颁奖盛典 [28] - 具体活动包括半导体产业人才发展大会、RISC-V生态发展论坛、边缘AI赋能硬件创新论坛等 [33][34]
各类光刻技术在微纳加工领域的优劣势
势银芯链· 2025-06-06 15:22
光刻技术发展背景 - 纳米级元件制造能力推动高性能设备生产及多行业技术进步[2] - 全球半导体研发投入显著:美国政府2800亿美元《芯片与科学法案》、欧盟500亿美元芯片产能扩张计划、台积电330亿美元新厂投资[2] - 医疗、能源、通讯等行业受益于微型化技术(如腹腔镜手术、芯片实验室诊断等)[2] 传统光刻技术分析 - 主流技术包括紫外光刻(分辨率1μm)、深紫外光刻(65-130nm)、极紫外光刻(<10nm)及电子束光刻(>10nm)[5] - 技术痛点:分辨率受波长限制、基板平整度要求高、设备成本昂贵(如极紫外光刻掩模易翘曲)、低吞吐量(电子束光刻)[5] - 材料局限性:传统光刻胶难以适配玻璃/陶瓷等非硅基材料,多组件空间排列需复杂多步骤工艺[3] 新兴光刻技术突破 - 浸没式光刻(38nm)通过液体介质提升分辨率,纳米压印光刻(<3nm)实现高吞吐量低成本[8][9] - 边缘光刻(<100nm)、电流体动力学光刻(<50nm)利用物理场效应简化工艺[9] - 磁流变拉伸光刻可生成微针阵列(高度600-700μm),纳米转移印刷支持3D结构跨基材复制[9] 行业需求与挑战 - 需开发单步工艺以集成多尺度制造,解决现有技术在大面积基板扩展性不足的问题[6] - 智能设备需求驱动对多功能材料兼容性(如铁电/导电材料)及高保真图案化的要求[6][7] - 新兴技术需平衡分辨率(如双光子光刻150nm)、成本(嵌段共聚物光刻低成本)与量产可行性[8][9] 产业动态 - 势银将于2025年7月举办第五届光刻材料产业大会,聚焦供应链协同创新[11] - 研究机构持续探索替代技术(如毛细管力光刻、纳米球光刻)以突破物理限制[9]