单片清洗设备

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盛美上海20250515
2025-05-18 23:48
纪要涉及的公司 盛美上海 纪要提到的核心观点和论据 1. **一季度经营业绩**:2025年第一季度营收13.06亿元,同比增长41.73%;出货量11.25亿元;毛利润6.64亿元,毛利率50.87%;归母净利润2.46亿元,同比增长207.21%;扣非后归母净利润2.48亿元,同比增长194.14%;剔除股份支付费用后归母净利润2.89亿元,同比增长73.17%;经营活动现金流量净额连续四季度为正;截至一季度末总资产126.38亿元,货币资金等合计29.62亿元,占总资产23.44% [3] 2. **各业务板块表现** - **清洗设备**:一季度单片清洗端口及半关键清洗设备营收同比增长28%至9.2亿元,占总营收70%以上;得益于超声波清洗设备放量和背面清洗设备稳健表现;高温SPM设备通过领先逻辑客户验证,背面边缘刻蚀设备获美国客户验收;预计多个清洗设备迎产品周期;有全面清洗产品组合,计划扩大中国市场份额并拓展全球市场 [2][5] - **电镀技术**:一季度营收同比增长110%至2亿多元,占比近20%;Ultra ECPAP获美国3D封装奖项;是业内首家且唯一采用旋转式水平电镀结构方案供应商;受益于AI芯片封装向面板级封装技术迁移,受多家行业龙头关注 [2][6] - **炉管产品**:立式炉管设备采用独有石英结构设计,具备1250度处理能力,保持晶圆表面平整度,业内尚无厂商能在此温度实现工艺稳定性;LDCVD氧化炉和ALD等炉管系列预计2025年显著放量 [2][7][8] - **先进封装及其他后道处理业务**:一季度营收同比增长60%至1亿多元,占比近10%;处于技术验证和市场拓展阶段;镜面及面板级封装产品按计划推进交付和测试,为AI芯片封装大规模应用打基础 [2][9] - **ETCH和PECVD新产品**:采用自主研发差异化设计,提升工艺灵活性和产出效率;已与多家客户开展样机演示和测试;Track类设备计划2025年中期交付Beta验证机,预计2026年下半年实现更大市场渗透 [2][10] 3. **未来营收增长点**:2025年STM及铝管系列成新增长点;2026年起面板级封装、PCBL等新设备线支撑中长期高增长;围绕中国与国际双引擎战略推进业务,实现30亿美元长期营收目标,中国大陆和海外市场各占一半 [11][12] 4. **临港产能项目进展**:临港盛美半导体研发与制造中心建设接近完成,两栋厂房合计支持约30亿美元年产值规模;第一栋已投入使用,产线产能稳步提升;第二栋完成基础建设作为扩产储备 [4][13] 5. **2025全年业绩预测**:预计年度经营业绩在65亿至71亿人民币之间;核心产品获认可,产能布局有序推进;以差异化技术创新和全球布局支撑长期发展战略 [14] 6. **一季度财务表现**:基本和稀释后每股收益均为0.56元,同比增长211.11%;货币资金等较上季度环比增长1.87亿元;经营性活动现金流量净额持续为正,同比增长2.48亿元;合同负债环比增长11.02%;发出商品17.96亿元,验收后可确认收入 [15][16] 7. **研发投入和成果**:2025年一季度研发投入2.52亿元,占营收19.313%,同比增长23.48%;截至一季度末有982名研发人员,占总人数47.83%;第一季度申请专利100个,获得授权7个,累计483个;推向市场的PCVD设备是P Max版本,一台已出货验证,预计今年谈成2 - 3家意向客户 [17] 8. **电镀设备在3D堆叠技术进展**:ECP3D用于TSV电路,ECPAP用于厚道芯片封装,销售良好;TSV电镀工艺国产化,满足国内客户需求;进入HBM工艺领域,在存储大客户DMC进展顺利 [19] 9. **TSV技术应用情况**:在国内两家龙头企业得到验证并获重复订单,对商业化应用有信心 [20] 10. **高温硫酸应用及优势**:有中低温和超高温类型;太赫兹设备回收率50% - 80%,颗粒质量达单片水平;100 - 110度单片设备被多家客户使用;170度以上高温硫酸清洗设备有专利技术防止硫酸甩出 [24] 11. **减少环境污染和自动清洗技术**:创新在客户端获良好反馈;预计在19纳米、17 - 15纳米小颗粒处理上有显著成果;可控制氛围避免硫酸外泄,实现自动清洗,提高设备性能和可靠性,有推向国际市场潜力 [25][26] 12. **高温炉管设备进展**:推出全球首创超高端高温炉管设备,能达1250度,保持晶圆表面稳定性;缩短IGBT生产氧化层处理时间,提高生产效率;受国内和欧洲客户关注 [27] 13. **ALD炉管设备发展**:两款ALD炉管设备进入国内头部晶圆代工厂;2025年拓展新客户,提升报道覆盖率;有独特气道设计和单片调研理念,满足客户端关键性能指标需求 [28] 14. **海外业务发展及规划**:长期目标30亿美元营收,大陆与海外市场各占一半;开发差异化产品,有自主知识产权,可进入国际市场;已在韩国设研发实验室,计划在美国建生产基地;独特技术受海外客户关注 [29] 15. **新型平板水平旋转封装设备**:全球首创,水平式旋转设计提高电力传输效率;采用PECVD工艺,降低内部电容,提升整体性能;填补行业空白,为先进封装提供新方案 [30] 16. **技术创新成果**:3月在美国3DIC Inside获大奖,适用于未来平板AI工艺;核心产品水平电镀设备应用前景大;坚持差异化和知识产权保护,为全球客户提供创新设备 [31] 17. **海外市场情况**:销售主要来自国内,海外市场逐步有成果;预计今年几台设备销往美国、东南亚和中国台湾地区;5月已售四台先进封装设备到美国 [33] 18. **PECVD设备情况**:去年三季度发出的第一台正在客户端验证,效果不错;今年预计三家客户接收,一台6月左右交付;认为今年是进入市场的一年,差异化特点使工艺具优势 [33] 19. **并购整合看法及计划**:半导体设备制造商并购是趋势;寻找有独立IP和核心技术的目标公司;现有技术支撑自身成长,大部分资金用于现有设备开发,遇好公司或技术会考虑并购 [34][35] 20. **未来发展方向**:推进国产化DocCheck项目和检测设备推出,提高国产化比例,支持AI芯片大芯片封装趋势;20% - 28%资金投入现有项目开发;遇好公司或技术考虑并购提升竞争力 [36] 其他重要但是可能被忽略的内容 1. **TSV电路孔径挑战**:TSV电路中较大孔径(超100)比小孔更难处理,高密度HBM应用使用较小晶圆级封装问题不大 [21] 2. **TSV工艺设备和耗材国产化**:国内TSV工艺客户从2020年要求全国产化,目前设备和耗材已实现国产化 [22] 3. **2025年新签订单展望**:今年销售预计无太多改变,第二季度采购节奏正常,9月30号给出订单信息保持稳定 [23]