核心观点 - 华尔街分析师看跌公司并维持卖出评级 因数据中心销售放缓 游戏业务表现不佳 人工智能服务器扩展速度可能不足以抵消其他细分市场的周期性逆风 同时不断上升的风险可能削弱未来增长 [1] 财务表现 - 第二季度营收温和增长 盈利能力强劲 [1] - 第二季度自由现金流为11亿美元 低于去年同期的15亿美元 [3] - 研发支出达到20亿美元 占营收的21% [3] 数据中心业务 - 第二季度数据中心部门收入32亿美元 同比增长14% 但增长率较去年同期80%的同比增长率已放缓 [2] - 云供应商支出更选择性 优先支持AI的GPU而非通用处理器 给EPYC服务器处理器带来压力 [2] - Instinct MI300加速器获关注 但供应限制和竞争性定价可能限制近期增长 [2] - 基于Zen 5的EPYC处理器若强劲采用 可能加速未来增长 [3] 游戏业务 - 游戏业务表现不佳 [1] - 若游戏机更新周期加快且主要市场需求复苏 游戏行业有望反弹 [3] 竞争与市场环境 - 面临来自英伟达在AI加速器领域和英特尔在服务器处理器领域的强大竞争压力 [4] - 监管风险上升 若对更先进芯片出口限制放宽 或能重新进入高利润率的中国市场 [4] - 公司业务覆盖台式机 移动和云计算市场 多元化产品组合使其免受宏观经济波动影响 [4] 增长挑战与风险 - 数据中心发展势头放缓 [4] - 资本支出增加拖累自由现金流 [3][4] - 即将发布的Zen 5处理器和MI400 GPU需要额外营销和制造投入 进一步限制现金流 [3] - 短期内毛利率预计不会大幅增长 难以平衡股东回报和创新资金需求 [3] - 当前估值几乎没有执行失误的空间 风险回报状况不理想 [4]

2nm工艺技术进展 - 台积电、三星、英特尔和Rapidus等公司正在推进2nm工艺技术，客户对2nm的关注度高于3nm [1] - 台积电已确认其N2 2nm工艺将于2026年投入量产 [3] - 三星代工厂2nm工艺良率已提升至40-50%，但以性能为代价 [10] 联发科2nm芯片计划 - 联发科将于2025年9月推出首款2nm芯片组，可能领先于苹果和高通 [3] - 2nm芯片相比3nm芯片性能提升15%，功耗降低25% [3] - 联发科与台积电保持制造合作伙伴关系，时间表与台积电N2工艺量产时间一致 [3] AMD 2nm战略 - AMD将成为台积电2nm工艺的首家客户，用于生产代号Venice的下一代EPYC服务器处理器 [6] - Venice处理器基于Zen 6架构，计划2026年上市，专注于每瓦效率和最高性能 [6] - AMD2025年第一季度数据中心领域增长57%，推出EPYC-4005系列进军中低端市场 [7] - AMD与台积电合作但保持开放态度，三星被视为潜在第二供应商 [8] 英伟达2nm布局 - 英伟达考虑采用台积电2nm工艺，认为虽然昂贵但值得 [10] - 可能在未来几周与三星合作，使用其2nm工艺生产未命名GPU [10] - 下一代RTX 60系列游戏GPU可能采用三星2nm工艺，笔记本电脑GPU或Windows-on-Arm产品更可能使用 [11] 行业竞争格局 - 台积电在2nm工艺竞争中处于领先地位，AMD和英伟达等主要客户对其技术成熟度充满信心 [8][10] - 三星积极推进2nm及后续节点（SF2和SF1.4），试图挑战台积电领导地位 [8][12] - 高通可能重启与三星合作，为Galaxy Note 8 Elite 2打造骁龙8 Elite 2 [10]

台积电美国亚利桑那州新厂订单动态 - AMD将原本由三星代工的EPYC服务器处理器转单至台积电美国亚利桑那州新厂以4奈米制程生产 [1] - 台积电美国厂近期接单表现强劲，苹果、英伟达等大客户已宣布在该厂投片 [1] - AMD第五代EPYC服务器处理器正在台积电美国新厂生产，第六代产品将采用台积电2奈米制程，成为台积电2奈米首家高速运算（HPC）客户 [1] AMD与晶圆代工策略调整 - AMD采用多元晶圆代工来源模式，同时委托台积电和三星生产芯片 [1] - AMD决定不使用三星SF4X制程，EPYC服务器处理器转交台积电美国厂生产，可能因三星晶圆代工表现疲弱或台积电美国厂更具吸引力 [1] - AMD与三星的合作原本涵盖EPYC服务器CPU、Ryzen APU及Radeon GPU，目前仅确认EPYC服务器CPU合作终止 [2] 台积电与AMD合作关系深化 - AMD委托台积电以2奈米生产「Venice」服务器CPU，并致力于生产Ryzen 9000系列消费者CPU [2] - AMD成为首批专享台积电2奈米制程的客户之一，双方合作关系近期可能大幅升温 [2] 三星晶圆代工业务挑战 - 三星正需在芯片行业建立声誉，AMD等大型合作伙伴退出对其构成负面影响 [2]