核心观点 - 半导体设备龙头中微公司2025年度经营业绩实现标志性突破，营收首次突破百亿大关，归母净利润首次超过20亿元，成功逆转了2024年净利润下滑的趋势 [1][3][4] 财务业绩表现 - 2025年预计实现营业收入约123.85亿元，首次突破百亿，同比增长约36.62%，超出市场机构预测中位数121.28亿元 [1][3][4] - 2025年预计实现归母净利润20.80亿元至21.80亿元，同比增加约28.74%至34.93%，首次突破20亿元大关 [1][3][4] - 2025年预计实现扣非净利润15亿元至16亿元，同比增加约8.06%至15.26% [3] - 2024年公司营业收入为90.65亿元，归母净利润为16.16亿元（同比下降9.53%） [3] 收入构成与增长驱动 - 核心产品刻蚀设备2025年销售约98.32亿元，占预计营业收入的79.39%，同比增长约35.12% [3] - LPCVD和ALD等半导体薄膜设备收入5.06亿元，同比大幅增长约224.23% [3] - 业绩增长主要源于市场需求急剧增长，公司先进产品实现量产，以及出售部分持有的上市公司股票获得投资收益 [2][4] - 2025年计入非经常性损益的股权投资收益为6.11亿元，较上年同期的1.98亿元增加约4.13亿元 [4] 研发投入与成果 - 2025年研发投入超过37亿元（约37.36亿元），同比增长超过50%（约52.32%），占当期营业收入的30.16%，远高于科创板上市公司均值 [2][6] - 2025年研发费用约24.72亿元，同比增长约74.36% [6] - 近两年新开发出十多种导体和介质薄膜设备，多款新型设备产品已进入市场并获得重复性订单 [2][6] - LPCVD设备累计出货量突破三百个反应台，EPI设备已进入客户端量产验证阶段 [6] - 公司在南昌（约14万平方米）和上海临港（约18万平方米）的生产和研发基地已投入使用 [6] 产品与技术进展 - 等离子体刻蚀设备在国内外获更多客户认可，针对先进逻辑和存储器件制造的关键刻蚀工艺高端产品新增付运量显著提升 [4] - 先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产 [4] - 持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位，积极布局碳化硅和氮化镓基功率器件应用市场 [7] - 在Micro-LED和其他显示领域的专用MOCVD设备开发上取得良好进展，几款MOCVD新产品进入客户端验证阶段 [7] - 新型八寸碳化硅外延设备、新型红黄光LED应用的设备已付运至国内领先客户开展验证 [7]

核心业绩表现 - 预计2025年营业收入约123.85亿元，较2024年增加约33.19亿元，同比增长约36.62% [1][5] - 预计2025年归属于母公司所有者的净利润为20.80亿元至21.80亿元，同比增长约28.74%至34.93% [1][5] - 预计2025年扣除非经常性损益的净利润为15.00亿元至16.00亿元，同比增加约8.06%至15.26% [2][5] 收入构成与增长驱动 - 刻蚀设备销售是核心收入来源，2025年销售约98.32亿元，同比增长约35.12% [5] - LPCVD和ALD等半导体薄膜设备收入增长迅猛，达5.06亿元，同比增长约224.23% [5] - 业绩增长主要得益于等离子体刻蚀设备获得更多客户认可，高端产品新增付运量显著提升，以及关键工艺实现稳定可靠的大规模量产 [3][7] 研发投入与技术创新 - 2025年研发投入约37.36亿元，较2024年增长12.83亿元，增幅约52.32%，研发投入占营业收入比例高达30.16% [1][9] - 2025年研发费用约24.72亿元，较2024年增长约10.54亿元，增幅约74.36% [9] - 新产品开发成效显著，近两年新开发出十多种导体和介质薄膜设备并进入市场，部分设备已获重复订单 [7] - 在刻蚀设备领域，CCP产品保持高速增长，ICP设备开发取得良好进展，加工精度达单原子水平，截至2025年底刻蚀设备反应台全球累计出货超6,800台 [3] - 在薄膜设备领域，LPCVD、ALD等十多款设备性能达国际领先水平，LPCVD设备累计出货量突破三百个反应台 [3][7] - 在EPI设备领域，减压外延设备已付运至成熟及先进制程客户验证，常压外延设备进入工艺验证阶段 [3] 市场拓展与产品布局 - 公司在氮化镓基MOCVD设备市场保持国际领先地位，并积极布局碳化硅和氮化镓基功率器件市场 [8] - 在Micro-LED等显示领域的专用MOCVD设备开发取得良好进展，多款新产品进入客户端验证 [8] - 新型八寸碳化硅外延设备、新型红黄光LED应用设备已付运至国内领先客户验证 [8] - 正在开发更多化合物半导体外延设备，并陆续付运至客户端验证 [3] 运营与产能保障 - 南昌约14万平方米和上海临港约18万平方米的生产研发基地已投入使用，保障了销售快速增长 [8] - 公司持续开发关键零部件供应商，推动供应链稳定安全，设备交付率保持较高水准 [8] - 运营管理水平提升，对产品成本及运营费用的控制能力有效增强 [8] 利润变动原因分析 - 归母净利润增长主要由于营业收入增长带动毛利较去年增长约11.45亿元，以及计入非经常性损益的股权投资收益增加约4.13亿元至6.11亿元 [9] - 扣非净利润增长主要受营业收入增长带来的毛利增加约11.45亿元，以及研发费用大幅增加约10.54亿元的共同影响 [9]

公司2025年财务业绩预测 - 预计2025年营业收入约123.85亿元，较2024年增加约33.19亿元，同比增长约36.62% [1] - 预计2025年归属于母公司所有者的净利润为20.80亿元至21.80亿元，同比增长约28.74%至34.93% [1] - 预计2025年扣除非经常性损益的净利润为15.00亿元至16.00亿元，同比增加约8.06%至15.26% [1] 主营业务分项表现 - 2025年刻蚀设备销售预计约98.32亿元，同比增长约35.12% [1] - 2025年LPCVD和ALD等半导体薄膜设备收入预计5.06亿元，同比增长约224.23% [1] 核心产品与技术进展 - 等离子体刻蚀设备作为半导体前道核心设备之一，市场空间广阔，技术壁垒较高 [2] - 刻蚀设备在国内外持续获得更多客户认可，针对先进逻辑和存储器件制造的关键刻蚀工艺高端产品新增付运量显著提升 [2] - 先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺已实现量产 [2] 新产品开发与市场拓展 - 近两年新开发出十多种导体和介质薄膜设备，目前已有多款新型设备产品进入市场 [2] - 部分新设备已获得重复性订单，LPCVD设备累计出货量突破三百个反应台 [2] - 多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进，EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段 [2]