股价及融资融券表现 - 9月11日公司股价上涨3.85% 成交额达9667.14万元[1] - 当日融资买入1016.45万元 融资偿还1340.25万元 融资净卖出323.81万元[1] - 融资融券余额合计1.79亿元 融资余额占流通市值10.40% 处于近一年90%分位高位水平[1] 股东结构变化 - 截至6月30日股东户数8082户 较上期减少1.86%[2] - 人均流通股3303股 较上期增加1.89%[2] - 诺安优化配置混合A(006025)退出十大流通股东行列[2] 财务业绩表现 - 2025年1-6月营业收入1.16亿元 同比下降6.44%[2] - 同期归母净利润3506.44万元 同比下降28.93%[2] - A股上市后累计派发现金分红5340万元[2] 公司基本情况 - 公司位于深圳市宝安区 成立于2010年4月19日[1] - 2024年8月6日上市 主营半导体掩模版研发生产销售[1] - 收入构成：石英掩模版82% 苏打掩模版18%[1]

股价与融资交易表现 - 8月22日公司股价上涨3.94% 成交额达2.78亿元[1] - 当日融资买入3874.82万元 融资偿还4504.60万元 融资净卖出629.78万元[1] - 融资融券余额合计1.91亿元 融资余额占流通市值比例达9.86% 处于近一年90%分位高位水平[1] 股东结构与机构持仓 - 截至3月31日股东户数8235户 较上期减少4.54%[2] - 人均流通股3242股 较上期增加4.76%[2] - 诺安优化配置混合A(006025)为第一大流通股东 持股82.92万股 较上期减持11.19万股[3] 财务业绩表现 - 2025年第一季度营业收入5436.74万元 同比下降8.97%[2] - 同期归母净利润1733.39万元 同比下降30.00%[2] - A股上市后累计现金分红5340万元[3] 公司基本情况 - 主营业务为半导体掩模版研发、生产和销售[1] - 收入构成：石英掩模版占比81.31% 苏打掩模版占比18.69%[1] - 2024年8月6日上市 注册地位于深圳市宝安区[1]

光掩模版行业概述 - 光掩模版是芯片制造中的关键"底片"，决定晶体管布局，精度要求达原子级别（线宽误差<5nm）[3] - 美日巨头垄断90%高端市场，中国在250nm以下技术受美国出口限制[3] - 掩模版分为石英掩模版、苏打掩模版等，石英基板为主流材料[11][40] 技术工艺与核心挑战 - 制造流程包含CAM图档处理、光刻、显影刻蚀等18个环节，130nm为激光/电子束光刻分界点[15] - 7nm芯片设计版图超100层，GDSII文件达50GB，数据处理误差需<0.1nm[17] - 光刻环境要求极端严格：温度波动≤0.01℃、湿度±1%RH、振动<5nm[18] - 7nm制程套刻精度需<1.5nm，相当于头发丝直径万分之一[19] 产业链与市场格局 - 全球半导体掩模版市场规模2023年达53.9亿美元，成熟制程（130nm以上）占比87%[50][52] - 上游基板/光学膜被日本HOYA、信越化学垄断，国产化率仅5%[42][44] - 海外龙头Photronics/DNP已量产5nm EUV掩模版，中国厂商主流在130-350nm[86][88] - 平板显示掩模版中国需求占全球57%，2022年市场规模35亿元[72] 技术演进方向 - OPC光学修正和PSM相移技术突破光的衍射极限，支撑14nm以下制程[32][34] - 电子束光刻替代激光直写成为130nm以下节点关键工艺[36] - 特色工艺路线（如功率半导体）通过结构/材料创新超越摩尔定律限制[96][99] 国产化进展 - 路维光电建成国内首条G11掩模版产线，打破大尺寸垄断[112] - 清溢光电实现180nm半导体掩模版量产，规划28nm研发[113] - 2023年国内企业密集投资130-28nm产线，总投资超80亿元[89] 下游应用趋势 - 12英寸晶圆产能中国占比将从2022年22%提升至2026年25%[61] - 显示面板向大尺寸（G10.5）、高精度（650PPI）发展[74][76] - 新能源汽车/光伏驱动特色工艺掩模版定制化需求增长[101]