纪要涉及的行业和公司 - **行业**：光刻机行业 - **公司**：阿斯麦（ASML）、佳能、尼康、上海微电子、长春光机所、成都光电所、茂莱光学、波长光电、福晶科技、福光股份、腾景科技、永新光学、奥普光电、紫科科技、必创科技、慈星股份、磁谷科技、崇越科技、富创精密、新来科技、汇成真空、九旸电子、科益虹源 [14][15][19][23] 纪要提到的核心观点和论据 - **中美博弈影响及产业进展**：美国对相关厂商限制增强，长臂管辖使国内厂商设备采购受影响，产业链和客户对国产设备态度转变，今年光刻机产业进入量产阶段，产线实现部分国产替代 [2] - **市场格局与需求预测**：2024 年 ASML 主导市场，生产 418 台，中国大陆 DUV 采购金额占比 36%，i 线部分国产替代有望，年需求约 200 台；预计到 2030 年，先进逻辑和存储芯片对 EUV/DUV 曝光次数增加，推动新型光刻设备需求和资本开支 [3][14][17] - **技术路径与关键系统**：DUV 光刻机多重曝光逼近 7 纳米极限，EUV 是更小线宽必要选择且进口受限，国产化突破重要；光刻机子系统要求随产品先进化更严苛，EUV 对计算任务和软件算法要求高 [4] - **核心部件研发进展**：光学系统是光刻机核心，国内公司在物镜及照明系统布局多，研发聚焦光源波长和数值孔径 [5] - **EUV 光刻技术与光源演进**：EUV 光刻波长从 i 线缩短，采用 LPP 光源，阿斯麦双脉冲激发方案提升功率和产能 [8][9] - **国内 EUV 研发进展**：长春理工大学牵头 EUV 光刻投影曝光装置项目，科益虹源专注 KrF 和 RF 光刻机准分子激光器制造，高精密设备需定制化开发 [10] - **国产替代挑战与机会**：国产替代技术投入大、周期长，但 i 线和 KrF 设备产业化将转化成果，国产零部件厂商有维保市场机会 [18] - **投资优势与市场情绪影响**：能做整体物镜系统公司参与价值高，主业扎实、现金流稳定、能快速转化收入的机械部件公司估值有优势；4 月市场热度下降，关注量产设备订单和研发进展，回调提供投资机会 [25][26] 其他重要但可能被忽略的内容 - **照明单元运作**：照明单元各模块调整激光杂质与角度，实现清晰纯净均匀激光束，高精密运动工作台提高效率，阿斯麦双工作台技术有新要求 [6] - **工作台挑战**：工作台需兼顾测量与曝光功能，面临节拍稳定匹配、精度保证、微振动控制、高精密运动和同步协调问题，还需考虑环境稳定性 [7] - **物镜系统构成**：物镜系统是 EUV 光刻昂贵复杂系统，有多种结构形式，可分光学、机械、控制三个分系统 [11] - **双工作台技术应用差异**：非 EUV 环境用气浮式运动台，EUV 环境用磁浮平面电机，磁悬浮背景团队适合研发，华卓精科涉及相关设备技术 [12] - **光刻机主要构成**：包括载物台、运动控制系统、浮动支撑系统、真空吸附系统和传感器反馈系统，各系统有不同要求 [13] - **产业链关键设备**：产业链有关键设备如镀膜、高精密度加工设备等，价值量不如物镜或光学系统订单，工作台相关先进产品处于预测或研发阶段 [24]