半导体湿法设备超纯槽体行业定义及特性 - 半导体湿法设备超纯槽体是用于盛放晶圆片、化学清洗液、去离子水等物品的容器，是半导体湿法设备的关键部件[1][2] - 核心功能为确保晶圆表面在湿法处理过程中不受污染，保障芯片制造的良率和可靠性[2] - 主要特性包括超高洁净度、耐腐蚀性、温度控制、密封性等[2] 半导体湿法设备超纯槽体行业发展现状 - 2024年我国半导体清洗设备的超纯槽体成本约为21万元，较2023年增长3.5万元[1][4] - 2024年我国半导体湿法设备超纯槽体市场规模约为3.03亿元，较2023年增长0.22亿元[1][6] - 半导体湿法设备超纯槽体是半导体湿法设备的"心脏"，主要用于容纳高纯度化学试剂[4][6] 半导体湿法设备超纯槽体行业产业链 - 上游主要包括FTFE、PFA、PVDF等原材料，以及注塑机、挤出机、加工中心等加工设备[8] - 中游为半导体湿法设备超纯槽体生产制造[8] - 下游应用于半导体湿法设备[8] - 2024年我国PVDF市场规模约为350亿元[10] - 2024年中国半导体清洗设备市场规模为158.82亿元，较2023年增加30.71亿元[12] - 预计2025年中国半导体清洗设备市场规模有望达到195亿元[12] 半导体湿法设备超纯槽体行业竞争格局 - 全球市场主要由日本厂商迪恩士（DNS）占据领先地位[15] - 国内主要生产企业包括沃凯氟、沃特华本、霓佳斯等[15] - 国内企业如至纯科技、北方华创等加大自主槽体研发，国产替代加速[15] - 未来发展方向包括更高纯度、智能化监控、长寿命等[15] 主要企业概况 - 至纯科技：国内半导体清洗设备与高纯工艺系统龙头，中国半导体湿法清洗设备领先企业之一[16] - 北方华创：业务覆盖半导体集成应用整个产业链，半导体设备是其核心业务领域[16] - 盛美半导体：为全球客户提供高端半导体设备，主要产品包括单晶圆及槽式湿法清洗设备等[16] - 沃凯氟：主营业务聚焦半导体、泛半导体领域，涉及材料配方复合、超纯精密加工等[16] - 沃特华本：专业从事氟塑料制品的研发、生产和销售，产品得到国内外知名半导体客户认可[16] - 霓佳斯：专注于高性能密封材料及精密工业部件，逐步拓展至半导体设备关键部件领域[16] - 芯矽科技：聚焦半导体湿法设备核心组件研发与制造，超纯槽体是其核心业务之一[16]

内容概要：半导体湿法设备是芯片制造中用于清洗、蚀刻、去胶等一系列工艺的核心装备，它是通过使 用化学溶液与半导体材料进行反应来实现特定的工艺目的。全球主流芯片的制造分为4个阶段：原料制 作、单晶生长和晶圆的制造、集成电路晶圆的生产、集成电路的封装。在目前主流的芯片制程中，湿法 清洗是主流的清洗技术路线，占芯片制造清洗步骤数量的90%以上。近年来，随着全球半导体行业的快 速发展，半导体湿法设备市场也呈现出强劲的增长势头。据统计，2024年，全球半导体清洗设备市场规 模约为794.07亿元，较2023年增加82.35亿元；中国半导体清洗设备市场规模为158.82亿元，较2023年增 加30.71亿元。预计2025年全球半导体清洗设备市场规模有望达到880亿元，中国半导体清洗设备市场规 模有望达到195亿元。 上市企业：至纯科技[603690]、北方华创[002371]、盛美上海[688082]、芯源微[688037] 相关企业：迪恩士SCREEN、东京电子TEL、泛林LAM与细美事SEMES、Lam Research、中芯国际、长 江存储、华虹集团、富乐德、江化微、上海新阳、芯矽科技、重庆华润、上海华虹、上海积塔、 ...