光刻产业大会概况 - 2025势银（第五届）光刻产业大会于7月9日在合肥新站利港喜来登酒店举行，聚焦极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿技术及光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化现状与技术瓶颈 [1] - 会议同时探讨光刻设备国产化进程中的关键问题，包括研发、制造工艺、性能提升及市场情况 [2] 技术进展与创新 - 物理沉积干法光刻胶在HNA-EUV技术中具有更低计量DOSE、更好均匀性、更少缺陷及更大曝光窗口等优势 [21] - 混合键合技术可实现Cu-Cu直接互联，获得更小Pitch（<2μm）、更高I/O密度（1000X）、更高带宽及更低功耗，但受芯片制备、电镀、CMP等多因素影响 [23] - 导向自组装图形化技术可利用嵌段共聚物实现接触孔微缩与倍增，满足亚10nm工艺节点需求 [25] - 宁波天璇新材料开发出折射率1.3-1.9的高透过率纳米压印胶，膜厚覆盖百纳米至百微米级 [27] 光刻胶国产化挑战 - 光刻胶国产化难点包括配方技术及原材料被日韩垄断、知识产权保护严格、技术壁垒高、导入周期长且成本高 [31] - 国内原材料供应不足，质量稳定性差，进口成本及关税高进一步加剧国产化难度 [31] 市场与政策环境 - 2025年显示面板大尺寸化及晶圆产能复苏将推动光刻胶市场需求增长，国家政策为产业创造良好投融资环境 [33] - 企业加速全产业链布局以保障供应链安全，促进光刻胶产业快速发展 [33] 封装与材料技术趋势 - 封装PSPI未来需满足板级狭缝涂布高平坦性、低温固化（170-230℃）及环保无氟要求 [36] - CAR光刻胶存在质子热运动导致的宽容度问题，树脂合成、PAG选择等环节技术难点突出 [38] - PSPI开发需解决固化温度适配、热膨胀系数调控及基材结合力等综合性能问题 [40] 工艺优化与数字化 - TGV通孔镀铜技术可简化工艺流程，但需解决材料与铜的界面兼容性问题 [44] - 半导体光刻胶集成系统存在设备选型复杂、试错成本高及质量验证难度大等卡点 [46] - 研发数字化转型可通过数据规范化管理及机器学习提升效率，降低研发成本 [50] 行业可持续发展 - 实现ESG目标需提升光刻胶性能（如灵敏度、低温固化）及供应链本地化韧性 [48]

会议基本信息 - 会议名称为2025势银（第五届）光刻产业大会，主办单位为势银（TrendBank），协办单位为深圳市半导体与集成电路产业联盟，承办单位为势银芯链 [4] - 会议时间为2025年7月9日-10日，地点在安徽合肥的合肥新站利港喜来登酒店，规模为300人 [4] - 会议包含自助午餐和全体晚宴，凭餐券或参会证就餐，地点在酒店2F二楼多功能厅及原会场 [10] 会议内容 - 讨论极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿光刻技术的最新研究进展与应用前景 [5] - 深入剖析光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等光刻材料的国产化现状与技术瓶颈，探讨提升自给率与质量水平的路径 [5] - 聚焦光刻设备国产化进程中的关键问题与解决方案，包括研发、制造工艺、性能提升及市场情况 [6] 参会单位 - 24家产学研单位确认参会并发表演讲，包括中科芯、芯东来、鼎龙、波米科技、星泰克、永光化学、润晶科技、复旦大学等 [1] 日程安排 - 7月8日14:30-19:00为签到时间 [12] - 7月9日议程包括开幕式致辞、4场主题演讲（穿插茶歇）、圆桌论坛 [12] - 7月10日议程包括2场主题演讲（穿插茶歇）及闭幕式 [13] 签到与参会管理 - 会议仅支持二维码签到，需通过势银活动小程序使用本人手机号生成二维码 [16][20] - 签到成功后显示座位号，签到越早位置越靠前，可通过人脉圈查看座位信息（部分功能需付费开通） [18] 交通与住宿 - 会场酒店协议价为大床房/双床房350元/间夜（含双早），需联系主办方登记 [28] - 周边推荐尚品花园酒店（200元起）、合肥戴斯温德姆酒店（300元起）等，需自行预订 [31][33][36][37] - 交通信息：距离合肥站1.34公里、合肥西站9.08公里、合肥南站11.08公里、合肥新桥国际机场35.37公里 [25][26] 主办方信息 - 势银（TrendBank）是中国领先的产业研究与数据公司，提供数据、研究、咨询、会议等服务 [49] - 赞助联系人毛裕栋（18667838387），参会联系人章杭琪（15824508736）、谢意欣（18268710908） [38]

会议概况 - 会议名称为2025势银（第五届）光刻产业大会，由势银（TrendBank）主办，深圳市半导体与集成电路产业联盟协办，势银芯链承办 [4] - 会议将于2025年7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举行，规模达300人 [4] - 24家产学研单位确认参会并发表演讲，包括中科芯、芯东来、鼎龙、波米科技、复旦大学等 [1] 会议内容 - 讨论极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿光刻技术的最新进展与应用前景 [5] - 深入剖析光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等光刻材料的国产化现状与技术瓶颈 [5] - 探讨光刻设备国产化进程中的关键问题与解决方案，包括设备研发、制造工艺、性能提升等 [6] 会议日程 - 7月8日14:30-19:00为签到时间 [12] - 7月9日议程包括开幕式致辞、主题演讲、圆桌论坛等环节 [12] - 7月10日议程包括主题演讲和闭幕式 [13] 参会服务 - 会议提供自助午餐和全体晚宴，凭餐券或参会证就餐 [10] - 会场酒店协议价为大床房/双床房350元/间夜（含双早），需联系主办方预订 [28] - 周边住宿选项包括尚品花园酒店、合肥戴斯温德姆酒店等，房价200元起 [31][33][36][37] 参会指引 - 会议仅支持二维码签到，需通过势银活动小程序完成 [16][20] - 会场地址为合肥市新站区铜陵北路1666号，距离合肥站1.34公里，合肥新桥国际机场35.37公里 [22][25][26] - 主办方联系方式包括赞助联系人毛裕栋（18667838387）、参会联系人章杭琪（15824508736）等 [38] 公司背景 - 势银（TrendBank）是中国领先的产业研究与数据公司，提供数据、研究、咨询、会议等服务 [49] - 宁波膜智信息科技有限公司为势银唯一工商注册实体及收款账户 [1]

市场整体走势 - 3500点整数关口压力较重 当前市场未出现成交量配合 突破需要放量至1.8万亿或2万亿以上[2][3] - 红盘个股数量仅1200只左右 非ST跌停个股达十余只 显示市场情绪偏弱[1] - 多元金融板块出现诱多迹象 中军指南针等个股冲高回落 指数试探性突破意愿明显[2] 板块表现分析 PCB板块 - 趋势类标的走势顺畅 沪电股份、景旺电子等沿5日线上涨 机构趋势策略仍适用[3] - 情绪类标的表现分化 东山精密高开低走 短线高度持续受压制[3] - 板块内出现低位首板股 但中金公司等冲高回落 显示资金偏好趋势股[3] 芯片板块 - 板块指数跌破5日线 兴业股份等多股跌停 广信材料等技术破位[4] - 属于PCB补涨分支 当前负反馈显著 建议减少关注[4] 创新药板块 - 板块指数创历史新高 广生堂等2只20cm涨停 梯队结构完整[5] - 乐普医疗等趋势股维持5日线上方 二波行情确认概率提升[5] 军工与海洋经济 - 军工板块指数破位 长城军工跌破5日线 缺乏首板支撑[5] - 海洋经济板块连续调整3天 巨力索具等个股大幅回调 呈现一波流特征[6] 固态电池与反内卷题材 - 固态电池板块跌破10日均线 大东南冲高回落 轮动属性明显[6] - 反内卷题材中柳钢股份达4板高度 但受6板压制 低位首板出现资金试探[7] 关键技术信号 - 高位股多数未跌破5日线 下周修复情况决定市场方向[2] - 城投控股等尝试突破10天100%涨幅未果 显示资金空间试探意愿[1] - 短线高度压制至4板 情绪类标的需采用恐慌低吸策略[3][4]

会议概况 - 会议名称为2025势银光刻产业大会，由势银（TrendBank）主办，将于2025年7月9日-10日在安徽合肥新站利港喜来登酒店举行 [25][30] - 会议规模约300人，涵盖三大专场：先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、材料与装备 [27][30] - 报名费用分两档：6月30日前2600元/人，7月1日后2800元/人，含会议资料、自助午餐及晚宴 [31] 会议内容与亮点 - 聚焦极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿技术，探讨光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化瓶颈与解决方案 [26] - 设置20+产业链嘉宾演讲，包括中科芯、南开大学、张江实验室等机构专家，议题覆盖异构集成、导向自组装图形化技术等 [15][18][23] - 采用"会+展"形式，促进产学研对接，构建供应链互动平台 [29] 重点企业及技术方向 - 河北奥格流体设备有限公司专注洁净搅拌罐/反应釜、系统集成技术，拥有多项压力容器及工程资质，总经理姚尧将分享半导体光刻胶领域系统集成应用 [6][7][20] - 湖北鼎龙控股副总裁肖桂林将探讨先进封装PSPI与键合胶开发趋势，潍坊星泰克董事长SAM SUN分析CAR光刻胶技术演进 [18] - 台湾永光化学研发协理黄新义提出绿色光刻胶助力集成电路ESG目标，北京创腾科技总经理曹凌霄介绍数据驱动的光刻胶智能创新 [20] 行业背景与挑战 - 国内高端光刻胶自给率低，湿电子化学品高纯度产品依赖进口，掩模版原料及光刻机技术受制于国际垄断 [34] - 光刻技术直接决定芯片性能与成本，是半导体产业"卡脖子"环节，需加强自主可控能力应对地缘政治风险 [34][35] - 大会旨在推动产学研合作，加速技术转化，构建完整产业生态以提升竞争力 [35][36] 议程安排 - 7月8日下午为签到环节，7月9日全天分设先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品专场，含圆桌论坛及晚宴 [12][14][17][21] - 7月10日上午为材料与装备专场，议题包括光刻设备本土化、光刻胶单体质量控制、激光直写设备产业化等 [23][24]

会议概况 - 2025势银（第五届）光刻产业大会将于7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举行，聚焦光刻技术、材料及设备国产化议题 [27][28] - 会议设置三大专场：先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、材料与装备，覆盖全产业链 [29] - 24家产学研单位确认参会，包括中科芯、鼎龙、波米科技、复旦大学、南开大学等机构 [1][8][18] 会议议程亮点 - **先进光刻技术专场**：探讨高性能芯粒异构集成技术、纳米压印/电子束/DSA技术方向、混合键合应用等 [8][9] - **光刻胶与湿电子化学品专场**：涵盖CAR光刻胶发展史、先进封装聚酰亚胺材料、IC光刻胶表征新趋势等 [15][16] - **材料与装备专场**：聚焦半导体光刻设备本土化、DUV光刻系统有机物影响、激光直写设备产业化等 [18] 行业现状与挑战 - 国内高端光刻胶自给率低，湿电子化学品高纯度产品依赖进口，掩模版原料及光刻机技术受制于国际垄断 [38] - 光刻技术精度直接决定芯片性能，是半导体产业向更小尺寸发展的关键环节 [38] - 地缘政治加剧供应链风险，需通过产学研合作提升自主可控能力 [39] 参会企业与人员 - 超200家机构报名，涵盖陶氏化学、安捷伦、中芯国际、京东方等企业，以及张江实验室、中科院等科研单位 [20][21][22][23][24][25][26] - 参会职位包括研发总监、总经理、教授等，显示行业高层参与度 [20][21][22] 会议服务与费用 - 早鸟价2600元/人（6月30日前），含会议资料、自助午餐及晚宴 [33] - 协议酒店为合肥新站利港喜来登酒店，提供专属预订渠道 [35][36] 会议背景与目标 - 主办方势银(TrendBank)为国内领先产业研究机构，提供数据、咨询及会议服务 [47][48] - 大会旨在推动光刻技术产学研融合，加速国产化替代与产业升级 [39][40]

会议概况 - 2025势银（第五届）光刻产业大会将于7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举行，规模达300人[29][37] - 主办方为势银（TrendBank），协办单位为深圳市半导体与集成电路产业联盟，承办方为势银芯链[29] - 会议采用"会+展"形式，设置三大专场：先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备[31][33] 参会企业与嘉宾 - 24家产学研单位确认参会并发表演讲，包括中科芯、鼎龙、波米科技、复旦大学、南开大学等[1][9][17] - 部分参会企业：安捷伦、久日新材、芯碁微、奥格流体、永光化学等，覆盖材料、设备、研究机构全产业链[14][18][23] - 报名企业超150家，包括中芯国际、京东方、3M中国、巴斯夫等跨国企业及国内龙头[22][23][24] 会议议程亮点 - **先进光刻技术专场**：聚焦芯粒异构集成技术、纳米压印/DSA技术、混合键合等前沿方向，演讲嘉宾来自中科芯、南开大学等[9][10][11] - **光刻胶与湿电子化学品专场**：探讨PSPI键合胶、CAR光刻胶、聚酰亚胺材料等国产化进展，鼎龙、星泰克、波米科技等企业分享[14][15] - **掩膜版与光刻装备专场**：分析光刻设备本土化机遇，芯东来、久日新材、芯碁微等讨论DUV光刻系统、激光直写设备产业化[17][18] 行业现状与挑战 - 国内高端光刻胶自给率低，湿电子化学品高纯度产品依赖进口，掩膜版原料受制于国外供应[40] - 光刻机被国外垄断，EUV光刻机获取困难，国内企业在光源系统、制造精度等方面存在技术差距[40] - 地缘政治加剧供应链风险，需加强产学研合作推动光刻技术自主可控[41] 会议目标与价值 - 促进光刻技术领域产学研用融合，加速技术创新与成果转化[41] - 搭建产业链对接平台，覆盖材料、设备、制造等300+行业参与者[29][31] - 通过学术研讨（如复旦大学、张江实验室专题）为产业提供理论基础[11][32] 会议服务与费用 - 6月30日前报名费用2600元/人，含会议资料、自助午餐及晚宴[35] - 协议酒店为合肥新站利港喜来登酒店，协议价需备注会议名称[37][38]

行业背景与挑战 - 光刻技术是半导体制造的关键环节，其精度和效率直接影响芯片性能、集成度和生产成本，是推动半导体产业向高性能、小尺寸发展的核心力量[21] - 国内光刻产业面临多重挑战：高端光刻胶自给率低、湿电子化学品高纯度产品依赖进口、掩模版原料及修复技术受制于人、光刻机被国外垄断且EUV设备难以获取[21] - 全球地缘政治摩擦加剧半导体供应链安全风险，亟需提升光刻技术自主可控能力以构建完整产业生态[22] 2025势银光刻产业大会 - 会议定于2025年7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举办，规模300人，由势银主办、深圳市半导体与集成电路产业联盟协办[12] - 大会设置光刻胶与湿电子化学品专场、检测与装备专场，涵盖纳米压印胶研发、光刻材料体系发展、IC光刻胶表征等20余个议题[13][14][15] - 参会费用分两档：6月30日前2600元/人，7月1日后2800元/人，含会议资料、自助午餐及晚宴[20] 参会企业与机构 - 覆盖全产业链300+参会者，包括莱克勒喷嘴系统、鼎龙控股、安捷伦科技等设备商，江苏博砚电子、宁波天璇新材料等材料商，复旦大学、张江实验室等科研机构[16][17][18][19] - 企业高管占比超40%，如永光化学研发协理、湖北鼎龙副总裁、波米科技总经理等均参与演讲或圆桌论坛[13][14] 莱克勒公司信息 - 德国莱克勒集团成立于1879年，是全球领先的精密喷嘴及喷射系统制造商，产品应用于冶金、环保等领域，拥有14家海外子公司[1] - 中国子公司位于常州金坛区，为首个在华自有生产基地，业务涵盖喷嘴研发、生产及技术解决方案[1] - 将参与大会并展示其喷射系统在半导体光刻领域的应用潜力[1][3] 技术发展趋势 - 议题聚焦前沿方向：数据驱动的光刻胶智能创新平台、DUV光刻痕量有机物研究、先进绿色光刻胶ESG目标等体现行业技术升级趋势[14][15] - 国产化进程加速，天津久日新材料、潍坊星泰克等企业将分享光刻胶国产化实践与挑战[14][15]

会议概述 - 2025势银光刻产业大会将于7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举办，主题聚焦光刻技术、材料及设备的国产化与创新 [18] - 会议规模300人，包含20+产业链嘉宾演讲、三大专场（先进光刻技术/光刻胶与湿电子化学品/掩膜版与光刻设备）及学术研讨环节 [15][16] - 采用"会+展"形式构建产业互动平台，提供上下游供应链对接机会 [17] 核心议题 - 极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿技术进展与应用前景 [14] - 光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化现状与技术瓶颈突破 [14] - 光刻设备国产化进程中的研发、制造工艺及市场挑战 [14] 重点演讲内容 - 安捷伦科技将分享《IC光刻胶表征新趋势与安捷伦多维分析方案》，其2024财年营收65.1亿美元 [7] - 中科芯集成电路探讨高性能芯粒异构集成技术的机遇与挑战 [10] - 势银分析师发布《2025年中国大陆光刻胶市场分析》报告 [10] 行业背景 - 中国光刻产业面临高端光刻胶自给率低、湿电子化学品进口依赖、掩模版制造技术落后等瓶颈 [22] - 光刻机领域存在EUV设备获取困难、光源系统等技术差距显著的"卡脖子"问题 [22] - 地缘政治摩擦加剧背景下，构建自主可控的产业生态成为迫切需求 [23] 会议亮点 - 设置圆桌论坛和产学研用对接环节，加速技术创新成果转化 [10][11][23] - 涵盖从材料（如酚醛树脂国产化）到装备（激光直写设备产业化）的全产业链讨论 [11][12] - 首次纳入ESG目标议题，探讨绿色光刻胶助力集成电路可持续发展 [11]

会议基本信息 - 会议名称：2025势银（第五届）光刻产业大会，主办单位为势银（TrendBank），协办单位为深圳市半导体与集成电路产业联盟，承办单位为势银芯链 [13] - 会议时间：2025年7月9日-10日，地点为安徽合肥新站利港喜来登酒店 [13] - 会议形式为“会+展”，包含主题演讲、细分专题互动、学术研讨及产业链对接 [15][16][17] 会议议程与演讲内容 - 上午专场聚焦先进光刻技术，包括纳米压印/电子束/DSA技术、混合键合应用、导向自组装图形化技术等，演讲嘉宾来自中科芯、南开大学、甬江实验室等 [6] - 下午专场覆盖光刻胶与湿电子化学品，议题涉及CAR光刻胶、聚酰亚胺材料、光刻胶表征分析等，演讲企业包括鼎龙、星泰克、安捷伦等 [6][7] - 次日议程围绕检测与装备，讨论掩膜版产业、半导体光刻设备本土化等，参与方含清溢光电、芯东来半导体等 [7] 参会企业与机构 - 24家产学研单位确认参会并演讲，包括中科芯、复旦大学、张江实验室、永光化学、圣泉集团等头部企业及高校 [1][6][7] - 报名名单涵盖产业链上下游超150家机构，如中芯国际、京东方、3M China、巴斯夫等，涉及研发、销售、投资等多岗位 [8][9][10][11][12] 行业核心议题 - 技术方向：极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿技术进展与应用前景 [14] - 材料瓶颈：光刻胶、湿电子化学品国产化现状与技术难点，如高端产品自给率低、纯度不足等 [14][22] - 设备挑战：光刻机本土化研发的关键问题，包括制造精度、光源系统与国际差距 [22] 会议目标与行业背景 - 旨在通过产学研合作提升光刻技术自主可控能力，应对全球供应链安全威胁 [23] - 当前国内光刻产业面临高端材料依赖进口、设备“卡脖子”等挑战，需加速技术转化与生态整合 [22][23] 会议亮点 - 设置三大专场覆盖全产业链，提供20+嘉宾演讲及圆桌论坛 [15] - 学术研讨聚焦光刻技术理论基础，推动产业创新 [16] 会议费用与配套服务 - 早鸟价2600元/人（6月30日前），含会议资料、自助午餐及晚宴 [19] - 协议酒店为合肥新站利港喜来登酒店，提供专属预订渠道 [21]