Workflow
高性能计算 (HPC)
icon
搜索文档
这些芯片设备,销量持续攀升
半导体行业观察· 2025-07-31 09:20
半导体晶圆制造设备(WFE)市场 - 全球WFE收入2024年预计达1400亿美元,2030年将增长至1850亿美元(2024-2030年CAGR 4.8%)[2] - 收入结构:设备出货量占比82%,服务与支持占比18%[2] - 技术领域主导:图案化设备(2024年)、沉积设备、蚀刻/清洗设备、计量/检测设备等[2] - 资本支出方向:先进逻辑设备、DRAM、NAND主导2024-2030年投资,传统逻辑和专用设备进入消化阶段[2] 地域分布与供应链 - WFE收入地域来源:2024年1150亿美元出货量主要来自美国公司,其次为EMEA、日本、大中华区[5] - 制造地域集中:EMEA、日本、东南亚、美国为主要生产地[6] - 客户地域分布:大中华区芯片制造商贡献最大收入,其次为韩国、中国台湾、美国[6] - 供应链特点:顶级供应商通过子系统控制和库存管理保持领先,导致WFE与子系统市场趋势脱节[6] 技术创新驱动因素 - 逻辑设备架构演进:FinFET→GAA→带PDN的GAA→CFET[8] - 存储技术变革:EUV光刻2D DRAM、4F2架构、NAND超晶格层增加及多堆栈转型[8] - 材料与封装创新:非硅材料应用、先进封装方案激增、光掩模行业突破[8] - 设备供应商角色:提供完整工艺解决方案,需协调上下游需求,目标实现多功能集成[8] 半导体后端设备增长 - 核心增长领域:芯片键合机、倒装芯片键合机、引线键合、晶圆减薄/切割、计量/检测设备[12] - 高速增长技术:TCB和混合键合技术(因先进封装/HBM需求)[12] - 下游应用驱动:汽车电子、消费设备、AI/HPC推动设备需求[12][17] - 技术升级:激光/等离子切割提升精度,超薄研磨/CMP改善晶圆均匀性,混合键合实现超高密度堆叠[17] 供应链转型与竞争格局 - 主要供应商:K&S、Besi、ASMPT、DISCO、Hanmi加速地域多元化[15] - 代工厂/IDM布局:台积电、英特尔、三星重点投入混合键合技术[15] - OSAT厂商策略:日月光、安靠、长电科技等拓展倒装芯片/先进封装能力,强化技术合作[15]
马斯克要建封装厂
半导体行业观察· 2025-06-06 09:12
SpaceX的芯片封装布局 - 公司计划在德克萨斯州建造芯片封装工厂,向扇出型面板级封装(FOPLP)领域扩张 [1] - 目前大部分芯片封装由意法半导体完成,部分订单转包给群创光电 [1] - 已在德克萨斯州巴斯特罗普开设美国最大印刷电路板(PCB)制造工厂,旨在建立垂直整合的卫星生产线以降低成本 [1] - FOPLP工艺与PCB制造有相似性,如镀铜、激光直接成像等技术 [1] 垂直整合的战略意义 - 公司拥有7600颗在轨卫星(全球最大网络),计划再发射32000颗以实现全球覆盖 [2] - 与美国政府签订多项卫星制造合同,芯片本土化可确保供应链安全 [2] - 台积电、英特尔、格芯等企业也在美国扩建封装产能,台积电计划2025年投入420亿美元扩建 [2][3] FOPLP技术应用前景 - 该技术更适用于航空航天、通信和航天工业,可将半导体转化为可安装的芯片 [3] - 封装厂在半导体供应链中至关重要,虽不如晶圆厂引人注目 [3] 面板级封装(PLP)市场现状 - 2024年PLP市场收入达1.6亿美元,预计2024-2030年复合年增长率27% [5] - 扇入(FI)PLP占市场份额三分之一,扇出(FO)和HD FO占剩余三分之二 [5] - 三星电子主导市场,主要生产移动和可穿戴设备的PMIC和APU [5] PLP行业竞争格局 - 三星通过收购SEMCO生产线主导PMIC和APU封装 [8] - PTI、SiPLP、意法半导体、ASE等企业已进入量产阶段 [8] - 中国PLP制造商数量较多,但全球产量仍较低 [8] PLP技术优势与挑战 - 可替代WLCSP、2.5D有机中介层等晶圆级封装,成本效益显著 [11] - 提供更大设计灵活性、更优热性能和电气性能 [11] - 面临技术和经济障碍,尚未广泛应用 [11]
下一代DRAM,关注什么?
半导体行业观察· 2025-04-12 09:18
HBM市场增长趋势 - 高带宽存储器(HBM)市场正经历指数级增长,主要受人工智能工作负载和高性能计算应用激增推动[1] - 2023年HBM比特出货量同比增长187%,2024年飙升193%[1] - 全球HBM收入预计从2024年170亿美元增长至2030年980亿美元,复合年增长率达33%[1] - HBM在DRAM市场收益份额将从2024年18%扩大至2030年50%[1] - 2025年HBM生产能力已满负荷运行,凸显供应限制和产能扩张必要性[1] HBM行业竞争格局 - SK海力士目前市场领先,2024年末量产12Hi HBM3E,2025年初启动12Hi HBM4客户样品供应[5] - 三星加速市场地位巩固,开发HBM产品组合并研发4纳米逻辑芯片,计划2025年供应HBM4样品[8] - 美光2024年直接凭借HBM3E进入市场,为英伟达H200 GPU供货,目标2025年底达6万片/分钟产能[8] - 中国企业启动大规模投资打造国产替代产品,虽存在技术差距但受益于政府支持和行业网络[8] DRAM技术发展路径 - 平面DRAM预计将在2033-2034年0c/0d节点继续演进,利用架构和工艺创新结合[10] - 6F² DRAM单元结构将在2025年占据商用产品主导地位[10] - 未来需向基于垂直晶体管的4F²单元过渡,并集成CMOS键合阵列架构[13] - 0c/0d节点后向3D DRAM架构过渡将不可避免,主要DRAM制造商正探索多种架构路径[13] - 混合键合被视为未来HBM关键推动因素,预计2029年与HBM5一起进入市场[13]
封装技术,巨变前夜
半导体芯闻· 2025-03-24 18:20
文章核心观点 半导体中介层与基板领域正迎来重大变革,从单纯中介体转变为工程平台,这一转变由人工智能、高性能计算和下一代通信推动,行业正从硅中介层转向有机和玻璃基解决方案,但在制造、热管理等方面面临挑战,需采用新技术和新材料应对 [1] 各部分总结 弥合互联鸿沟 - 半导体行业依赖重分布层(RDL)路由信号,但现有技术已达极限,新基板材料和工艺创新对实现互连密度至关重要 [4] - 行业正从硅中介层转向有机和玻璃基解决方案,有机中介层可实现更大封装尺寸和细间距互连,玻璃基板有机械稳定性和精细RDL功能,但制造和处理存在挑战 [4] - RDL技术发展以支持1μm线/空间分辨率,先进堆叠技术可行,扇出面板级封装(FOPLP)能实现高密度集成,但面临产量和工艺控制挑战 [6][7] 克服制造挑战 - 中介层和基板复杂化使保持纳米级精度成挑战,向面板级处理过渡引入新变量,玻璃芯基板和混合中介层带来制造和缺陷检测难题 [8][9] - 中介层微缩中高纵横比特征电镀困难,制造商需采用人工智能驱动的过程控制和实时监控技术,统计过程控制(SPC)至关重要 [9] 热管理 - 半导体封装发展使热管理成关键障碍,中介层和基板需发挥积极散热作用,高效热解决方案需求增加 [11] - 制造商研究嵌入式微流体冷却通道、相变材料、基于碳纳米管的热界面材料和混合金属有机散热器等新热管理策略 [12] 新材料创新 - 传统有机基板达极限,制造商转向玻璃芯复合材料、陶瓷和有机 - 无机混合结构等新材料,但制造存在复杂性 [14] - 玻璃芯中介层介电常数低、尺寸稳定性好,但有制造挑战;混合基板结合有机和硅优势,但需解决热膨胀失配问题 [14][15] 先进的键合技术 - 传统微凸块键合难满足细间距要求,混合键合成有前途替代方案,但面临表面处理、缺陷缓解和工艺均匀性挑战 [17] - 直接铜互连可提高信号完整性和热性能,但存在防止氧化和管理高压等挑战 [18] - 向细间距键合技术转变对建模和仿真工具提出新要求,扩大生产仍面临挑战 [19] 提高纳米级可靠性 - 确保中介层和基板长期可靠性需转向人工智能驱动的预测建模,准确表征材料特性至关重要 [21] - 缺陷检测需采用人工智能驱动技术,可测试设计(DFT)和嵌入式传感技术可提高可靠性 [21][22] 有源中介层和智能基板 - 中介层和基板向智能系统组件转变,有源中介层可实现更智能信号布线、自适应电源管理和本地化处理 [23] - 光学互连集成到中介层是重要进步,基于硅光子的中介层可实现高速光通信,但面临热挑战和制造难题 [23][24]
HBM的大赢家
半导体芯闻· 2025-03-20 18:26
SK海力士推出第六代HBM4存储器 - 公司于3月19日推出第六代高带宽存储器HBM4,将用于Nvidia下一代AI加速器[1] - 已向Nvidia和Broadcom等主要客户提供首批HBM4 12层样品[1] - HBM4提供超过2TB/s带宽,比前代HBM3E快60%以上,并改善散热稳定性[1] - 技术垂直堆叠内存,1秒可处理400部5GB全高清电影[1] HBM技术路线图与市场地位 - 公司计划2025年上半年量产HBM3E 16层,下半年量产HBM4 12层,2026年量产HBM4 16层[1] - 2024年已推出HBM3E 8层和12层版本[1] - 2023年占据全球HBM市场65%份额,三星32%,美光3%[2] - 仍是Nvidia最新AI芯片主要供应商[2] 与Nvidia的合作进展 - Nvidia下一代AI芯片"Rubin"预计配备8-12个HBM4单元[2] - 在GTC 2025展示HBM4原型、HBM3E 12层芯片及Nvidia GB200超级芯片[2] - 公司将HBM4量产计划提前约一年以配合客户需求[2] 第六代DDR5 DRAM技术突破 - 成功开发全球首个1c工艺DDR5 DRAM,采用10纳米级精细工艺[3] - 1c技术可提高内存性能并降低功耗,对HPC和AI发展至关重要[4] - 技术突破有望提升HBM性能,通过缩小DRAM单元尺寸增加容量[4] - 芯片小型化对HBM热管理产生积极影响[4]